一种蒸发源装置的制作方法

本发明涉及液晶面板制作领域，特别是涉及一种蒸发源装置。

背景技术：

在信息社会的当代，作为可视信息传输媒介的显示器的重要性在进一步加强，为了在未来占据主导地位，显示器正朝着更轻、更薄、更低能耗、更低成本以及更好图像质量的趋势发展。

oled显示技术较之当前主流的液晶显示技术，具有对比度高、色域广、柔性、轻薄、节能等突出优点。近年来oled显示技术逐渐在智能手机和平板电脑等移动设备、智能手表等柔性可穿戴设备、大尺寸弧面电视、白光照明等领域普及，发展势头强劲。

oled技术主要包括以真空蒸镀技术为基础的小分子oled技术和以溶液制程为基础的高分子oled技术。蒸镀机是当前已量产的小分子oled器件生产的主要设备，其设备核心部分为蒸发源装置，分为点蒸发源、线蒸发源、面蒸发源等。线蒸发源为当前重要的oled量产技术，主要分为一体式线蒸发源和输送式线蒸发源。

现有的线蒸发源设计为直线型，为保证膜厚均匀性，蒸发源要做的比基板更长，导致材料利用率低，且其使用圆孔型喷射口，易造成材料堵塞，降低了量产的稼动率。

因此，现有技术存在缺陷，急需改进。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种改进的蒸发源装置。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明提供一种蒸发源装置，包括：

本体以及加热构件；

所述加热构件用于加热蒸镀材料形成蒸镀气体，所述本体设置有用于收容所述蒸镀气体的第一腔体；

所述本体包括第一壁体，所述第一壁体的外壁面呈向所述第一腔体内弯曲的曲面状；

所述第一壁体上设有一呈缝隙状的喷射口并与所述第一腔体连通，所述喷射口沿着所述第一壁体的弯曲方向弯曲分布，并将所述第一腔体内的蒸镀气体导出到外界。

在一些实施例中，所述呈缝隙状的喷射口的宽度由中间至两端逐渐变大。

在一些实施例中，所述加热结构用于控制所述第一腔体在沿所述第一壁体的弯曲方向上的温度先增后减。

在一些实施例中，所述加热构件用于分段控制所述第一腔体在沿所述第一壁体的弯曲方向上的温度。

在一些实施例中，所述第一壁体的内壁面呈向所述第一腔体内弯曲的曲面状。

在一些实施例中，所述加热构件设置于所述第一腔体内。

在一些实施例中，所述本体设置有第二腔体，所述本体包括第二壁体，所述第二壁体上设有与所述第二腔体连通的开口部；所述本体包括第三壁体，所述第三壁体设有与所述第一腔体连通的输入口；所述第二腔体通过所述开口部与所述输入口连通。

在一些实施例中，所述本体还包括气体传输管道，用于连通所述开口部与所述输入口。

在一些实施例中，所述加热构件设置于所述第二腔体内。

在一些实施例中，所述第一腔体内设置有若干个加热丝，以分段控制所述第一腔体在沿所述第一壁体的弯曲方向上的温度。

相较于现有的蒸发源装置，本发明提供的蒸发源装置包括本体以及加热构件；所述加热构件用于加热蒸镀材料形成蒸镀气体，所述本体设置有用于收容所述蒸镀气体的第一腔体；所述本体包括第一壁体，所述第一壁体的外壁面呈向所述第一腔体内弯曲的曲面状；所述第一壁体上设有一呈缝隙状的喷射口并与所述第一腔体连通，所述喷射口沿着所述第一壁体的弯曲方向弯曲分布，并将所述第一腔体内的蒸镀气体导出到外界。该方案可通过弯曲型的缝隙状喷射口改变蒸镀气体流向，使其更多地沉积到基板上，提高材料利用率，同时，喷射口设计为缝隙状可降低堵孔风险，提高量产的稼动率。

附图说明

图1为本发明优选实施例中蒸发源装置的一种立体结构示意图。

图2a为图1所示的蒸发源装置的一种正视结构示意图。

图2b为图1所示的蒸发源装置的一种俯视结构示意图。

图2c为图1所示的蒸发源装置的另一种俯视结构示意图。

图2d为图2c所示的蒸发源装置的俯视结构示意图的局部图。

图2e为图1所示的蒸发源装置的应用场景示意图。

图3为本发明优选实施例中蒸发源装置的另一种立体结构示意图。

图4a为图3所示的蒸发源装置中蒸发源本体的一种分解示意图。

图4b为图3所示的蒸发源装置的一种正视结构示意图。

图4c为图3所示的蒸发源装置的一种俯视结构示意图。

图4d为图3所示的蒸发源装置的另一种俯视结构示意图。

图4e为图3所示的蒸发源装置的应用场景示意图。

具体实施方式

以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。

在图中，结构相似的模块是以相同标号表示。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。另外，术语“包括”及其任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。

参阅图1，图1为本发明优选实施例提供的蒸发源装置的立体结构示意图。如图1所示，本优选实施例的蒸发源装置100，包括本体11以及加热构件12；

其中，加热构件12用于加热蒸镀材料形成蒸镀气体，本体11设置有用于收容该蒸镀气体的腔体111；

该本体11包括壁体112，该壁体112的外壁面呈向该腔体111内弯曲的曲面状；

壁体112上设有一呈缝隙状的喷射口1121并与该腔体111连通，该喷射口1121沿着该壁体112的弯曲方向弯曲分布，并将该腔体111内的蒸镀气体导出到外界。

具体地，参考图2a，图2a为图1所示的蒸发源装置的一种正视结构示意图。如图2a所示，该壁体112的外壁面由两端向中间部分逐渐弯曲，形成曲面(即弧面)。其中，该曲面状的壁体112的弯曲程度可根据实际情况进行设置。

参考图2e，图2e为图1所示的蒸发源装置的应用场景示意图。如图2e所示，在该呈曲面状的壁体112上设置喷射口1121，可改变蒸镀气体的气流方向，使蒸镀气体更多地往中间部分聚拢沉积到基板a上。

在一些实施方式中，该壁体112的内壁面可呈向该腔体111内弯曲的曲面状，也可呈平面状，还可以呈向该壁体112的外壁面弯曲的曲面状。

参考图2b，图2b为图1所示的蒸发源装置的一种俯视结构示意图。如图2b所示，该呈缝隙状的喷射口1121可以为宽度均匀的狭缝。

在一些实施方式中，配合该壁体112的弯曲程度，该呈缝隙状的喷射口1121的宽度可为宽度不均匀的狭缝。更进一步地，为了提升在基板a上沉积蒸镀材料膜厚的均匀性，该呈缝隙状的喷射口1121的宽度可由中间至两端逐渐变大。

比如，参考图2c和图2d。图2c为图1所示的蒸发源装置的另一种俯视结构示意图，图2d为图2c所示的蒸发源装置的俯视结构示意图的局部图。如图2c所示，该呈缝隙状的喷射口1121可以为宽度不均匀的狭缝。具体地，如图2d所示，x1-x1方向为喷射口1121长度所在方向，该呈缝隙状的喷射口1121的宽度由中间(y1-y1方向上的宽度)至两端(y2-y2方向、y3-y3方向上的宽度)逐渐变大然后减小，以使喷射口1121喷射出外界的蒸镀气体在基板a上沉积为薄膜时的厚度更加均匀。

在本发明实施例中，该喷射口1121的长度与该壁体112的呈曲面状的外壁面的长度相当，也即与该外壁面的弧长相当。

在一些实施方式中，参考图1，加热构件12设置于该腔体111内。实际应用中，该腔体111内可设置有坩埚，该加热构件12以及蒸镀材料可设置于该坩埚内，以加热形成蒸镀气体。

实际应用中，该蒸发源装置还可包括制冷构件，该制冷构件可设置于该腔体111内，用于与加热构件112协调工作以控制腔体111内的温度。

此外，该蒸发源装置还可包括pid控制系统，用于精确控制腔体111内的温度。

在一些实施方式中，加热结构12用于控制该腔体111在沿该壁体112的弯曲方向上的温度先增后减。

在一些实施方式中，为了进一步提升蒸镀气体在基板a上沉积时膜厚的均匀性，加热构件12可用于分段控制该腔体111在沿该壁体112的弯曲方向上的温度。如图1所示，该加热构件12可为若干根间隔设置的加热丝，以分段控制该腔体111在沿该壁体112的弯曲方向上的温度。比如，在喷射口1121的宽度均匀时，由于蒸发气体更多地往基板a中心沉积，因此可以控制中间的加热丝的温度低于两端加热丝的温度。

参考图3，图3为本发明优选实施例中蒸发源装置的另一种立体结构示意图。如图3所示，本优选实施例的蒸发源装置200，包括本体21以及加热构件22；

其中，加热构件22用于加热蒸镀材料形成蒸镀气体，本体21设置有用于收容该蒸镀气体的第一腔体211；

该本体21包括第一壁体212，第一壁体212的外壁面呈向第一腔体内211弯曲的曲面状；

第一壁体212上设有一呈缝隙状的喷射口2121并与该第一腔体211连通，该喷射口2121沿着该第一壁体212的弯曲方向弯曲分布，并将该第一腔体内211的蒸镀气体导出到外界。

具体地，参考图4b，图4b为图1所示的蒸发源装置的一种正视结构示意图。如图4b所示，该第一壁体212的外壁面由两端向中间部分逐渐弯曲，形成弧面(即曲面)。其中，该曲面状的第一壁体212的弯曲程度可根据实际情况进行设置。

参考图4e，图4e为图3所示的蒸发源装置的应用场景示意图。如图4e所示，在该呈曲面状的第一壁体212上设置喷射口2121，可改变蒸镀气体的气流方向，使蒸镀气体更多地往中间部分聚拢沉积到基板b上。

在一些实施方式中，该第一壁体212的内壁面可呈向该第一腔体211内弯曲的曲面状，也可呈平面状，还可以呈向该第一壁体212的外壁面弯曲的曲面状。

参考图4c，图4c为图3所示的蒸发源装置的一种俯视结构示意图。如图4c所示，该呈缝隙状的喷射口2121可以为宽度均匀的狭缝。

在一些实施方式中，配合该第一壁体212的弯曲程度，该呈缝隙状的喷射口2121的宽度可为宽度不均匀的狭缝。更进一步地，为了提升在基板b上沉积蒸镀材料时膜厚的均匀性，该呈缝隙状的喷射口2121的宽度可由中间至两端逐渐变大。

比如，参考图4d，图4d为图3所示的蒸发源装置的另一种俯视结构示意图。如图4d所示，该呈缝隙状的喷射口1121可为宽度由中间至两端逐渐变大后减小的狭缝，以使喷射口2121喷射出外界的蒸镀气体在基板b上沉积为薄膜时的厚度更加均匀。

在本发明实施例中，该喷射口2121的长度与该第一壁体212的呈曲面状的外壁面的长度相当，也即与该外壁面的弧长相当。

在一些实施方式中，参考图3和图4a，图4a为图3所示的蒸发源装置中蒸发源本体的一种分解示意图。如图4a所示，本体21设置有第二腔体213。具体地，该本体21还包括第二壁体214，该第二壁体214上设有与第二腔体213连通的开口部2141。该本体21还包括第三壁体215，该第三壁体215设有与第一腔体211连通的输入口2151。该第二腔体213通过开口部2141与输入口2151连通，以使该第一腔体211与第二腔体213连通。

继续参考图3和图4a，在一些实施方式中，本体21还包括气体传输管道216，该气体传输管道216用于连通开口部2141与输入口2151。其中，该气体传输管道216的形状可以由多种，比如，可以为圆筒状、方筒状、通芯棱镜状等等，本发明对此不作具体限定。

具体地，该气体传输管道216具有第一端口2161和第二端口2162。其中，第一端口2161与第一腔体211的输入口2151连通，第二端口2162与第二腔体213的开口部2141连通，以使该第一腔体211与第二腔体213连通。

在一些实施方式中，参考图3，该加热构件22设置于第二腔体213内。实际应用中，该第一腔体211内可设置有坩埚，该加热构件22以及蒸镀材料可设置与该坩埚内，避免直接灼烧蒸发源本体，以加热形成蒸镀气体。从而使得位于该第二腔体213内的加热构件22加热蒸镀材料后形成蒸镀气体，该蒸镀气体经气体传输管道216后收容于第一腔体211中，再由喷射口2121喷射到基板b上沉积为薄膜。

继续参考图3，在一些实施方式中，为了进一步提升蒸镀气体在基板b上沉积时膜厚的均匀性，第一腔体211内可设置有若干个加热丝23，以分段控制第一腔体211在沿第一壁体212的弯曲方向上的温度。比如，在喷射口2121的宽度均匀时，由于蒸发气体更多地往基板b中心沉积，因此可以控制中间的加热丝23的温度低于两端加热丝的温度。

由上可知，本发明实施例提供的蒸发源装置，包括本体以及加热构件；加热构件用于加热蒸镀材料形成蒸镀气体，本体设置有用于收容所述蒸镀气体的第一腔体，该本体包括第一壁体，第一壁体的外壁面呈向第一腔体内弯曲的曲面状；第一壁体上设有一呈缝隙状的喷射口并与第一腔体连通，该喷射口沿着第一壁体的弯曲方向弯曲分布，并将第一腔体内的蒸镀气体导出到外界。该方案通过弯曲型的缝隙状喷射口改变，使其更多地沉积到基板上，提高材料利用率，改善蒸镀阴影效应，并可缩短本体的长度，从而缩小设备规模、节约成本。同时，喷射口设计为缝隙状可降低堵孔风险，提高量产的稼动率。

综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。