(A);(磨粒（A2))的研磨 液。需要说明的是，上述第2研磨液为了 pH调节而使用了低于1%浓度的氢氧化钾（K0H)。 磨粒（Al)的平均二次粒径为使用堀场制作所制造的激光衍射/散射式粒度分布测定装置 "LA-950"测定的值，磨粒（A2)的平均二次粒径为使用日机装株式会社制造的粒度分布测 定装置"Nanotrac Wave - UT151"测定的值。第1研磨工序和第2研磨工序的研磨条件如 下所示。另外，第1研磨工序、第2研磨工序中的研磨的大致情况（磨粒的种类、磨粒的平 均二次粒径（μ m)、研磨时间（分钟）、研磨速率（μ m/分钟））示于表1。后述的例2~10 也同样。
[0140] (第1研磨工序的研磨条件）
[0141] 研磨机：Engis Japan Corporation.制造的单面研磨机"EJ-380IN"（平板径 380mm)
[0142] 研磨垫：无纺布垫
[0143] 研磨载荷：517g/cm2
[0144] 平板转速：IOOrpm
[0145] 研磨时间：30分钟
[0146] 研磨液的供给速率：HmL/分钟
[0147] (第2研磨工序的研磨条件）
[0148] 研磨机：同上
[0149] 研磨垫：绒面革垫
[0150] 研磨载荷：517g/cm2
[0151] 平板转速：IOOrpm
[0152] 研磨时间：30分钟
[0153] 研磨液的供给速率：HmL/分钟
[0154] <例 2 >
[0155] 作为第1研磨液，使用以250g/L的浓度包含平均二次粒径1. 3 μ m的氧化铝磨粒 (Al2O3;磨粒（A1))、且以62g/L的浓度包含柠檬酸的研磨液，除此以外，与例1同样进行研 磨。
[0156] <例 3 >
[0157] 作为第2研磨液，使用以13%的浓度包含平均二次粒径130nm的气相二氧化硅磨 粒（SiO 2(B);磨粒（A2))的研磨液，除此以外，与例2同样进行研磨。需要说明的是，上述第 2研磨液为了 pH调节而使用了低于1 %浓度的Κ0Η。
[0158] <例 4 >
[0159] 对厚度5mm的错合金制的薄膜（尺寸：50mmX 50mm)的表面（喷砂处理完毕）使 用Y2O3喷镀粉末进行等离子体喷镀，形成厚度300 μ m的喷镀膜（含金属氧化物的膜）。对 上述得到的含金属氧化物的膜使用与例2同样的研磨液进行研磨。
[0160] <例 5 >
[0161] 对厚度5mm的错合金制的薄膜（尺寸：50mmX 50mm)的表面（喷砂处理完毕）使 用Zr02-15% Er2O3喷镀粉末进行等离子体喷镀，形成厚度300 μ m的喷镀膜（含金属氧化物 的膜）。对上述得到的含金属氧化物的膜使用与例2同样的研磨液进行研磨。
[0162] <例 6 >
[0163] 对厚度5mm的错合金制的薄膜（尺寸：50mmX 50mm)的表面（喷砂处理完毕）使 用（Fe，Mg) Cr2O4喷镀粉末进行等离子体喷镀，形成厚度300 μ m的喷镀膜（含金属氧化物的 膜）。对上述得到的含金属氧化物的膜使用与例2同样的研磨液进行研磨。
[0164] <例 7 >
[0165] 作为第1研磨液，使用以250g/L的浓度包含平均二次粒径0. 8 μ m的氧化错磨粒 (ZrO2)的研磨液，变更研磨时间，除此以外与例1的第1研磨工序同样进行研磨。该例中不 进行第2研磨工序。
[0166] <例 8 >
[0167] 不进行第2研磨工序，除此以外，与例1同样进行含金属氧化物的膜的研磨。
[0168] <例 9 >
[0169] 作为第2研磨液，使用以250g/L的浓度包含平均二次粒径0. 8 μ m的氧化错磨粒 (ZrO2)的研磨液，除此以外，与例1同样进行研磨。上述氧化锆磨粒的平均二次粒径是使用 堀场制作所制造的激光衍射/散射式粒度分布测定装置"LA-950"测定的值。
[0170] < 例 10 >
[0171] 作为第2研磨液，使用以250g/L的浓度包含平均二次粒径1. 3 μπι的氧化铝磨粒 (Al2O3)、且以62g/L的浓度包含柠檬酸的研磨液，除此以外，与例1同样进行研磨。上述氧 化铝磨粒的平均二次粒径是使用堀场制作所制造的激光衍射/散射式粒度分布测定装置 "LA-950"测定的值。
[0172] [维氏硬度]
[0173] 对于各例的含金属氧化物的膜的表面，根据JIS R1610测定维氏硬度。结果示于 表1。
[0174] [表面粗糙度Ra]
[0175] 对于各例，测定研磨前、第1研磨工序结束后、第2研磨工序结束后的含金属氧化 物的膜的表面粗糙度Ra。测定使用TOKYO SEMITSU CO.，LTD.制造的表面粗糙度形状测 定机"SURFCOM 1500DX"，在测定长度10mm、测定速度0. 3mm/秒的条件下进行。结果示于表 1。另外，将例3中的研磨的表面粗糙度Ra的变化示于图1，将表示研磨前（A点）、第1研 磨工序结束后（B点）、第2研磨工序结束后（C点）的表面粗糙度Ra的测定结果（截面曲 线）的图表分别示于图2~4表示。图5、6为将图3、4分别沿纵方向放大10倍而得到的 图表。
[0176] [20°光泽度值]
[0177] 对于各例，第2研磨结束后的含金属氧化物的膜表面的20°光泽度值根据JIS Z8741 测定。测定使用 Konica Minolta Optics, Inc.制造的光泽仪"GM_268Plus" 进行。 结果示于表1。
[0178] [表 1]
[0179]
[0180] 如表1所示，例1~6中，虽然含金属氧化物的膜是维氏硬度为350以上（具体而 言为400以上）的硬质膜，但通过短时间（具体而言为2小时以下）的研磨据能够实现表 面粗糙度Ra为300nm以下（具体而言为IOOnm以下）和20°光泽度值为50以上（具体而 言为100以上）。另外，由例4~6的结果可知，即使变更含金属氧化物的膜的材质，也可以 实现含金属氧化物的膜表面的20°光泽度值为50以上。由此可知，此处公开的技术对各种 含金属氧化物的膜均可应用。另一方面，例7、8中，20°光泽度值为20以下，未得到表面光 泽。另外，例9、10中未能实现20°光泽度值为50以上。这些例子中，表面粗糙度Ra也为 相对高的值（具体而言为200nm以上）。需要说明的是，测定实现了 20°光泽度值为50以 上的例1~6的含金属氧化物的膜的孔隙率，结果均为1~20%的范围内。
[0181] 以上，详细说明了本发明的具体例子，但这些只是例示，并非限定权利要求的保护 范围。此处公开的发明还可以包括将上述具体例子进行各种变形、变更而成的方案。
【主权项】
1. 一种带有含金属氧化物的膜的物品，其具备基材、以及在该基材的表面设置的含金 属氧化物的膜， 所述含金属氧化物的膜的维氏硬度为350以上、表面粗糙度Ra为300nm以下、且20° 光泽度值为50以上。2. 根据权利要求1所述的带有含金属氧化物的膜的物品，其中，所述含金属氧化物的 膜是通过喷镀法、化学气相沉积法或物理气相沉积法而形成的。3. 根据权利要求1或2所述的带有含金属氧化物的膜的物品，其中，所述含金属氧化物 的膜为孔隙率1~20%的多孔膜。4. 根据权利要求1~3中任一项所述的带有含金属氧化物的膜的物品，其中，所述含金 属氧化物的膜的厚度为10~1000um。5. -种带有含金属氧化物的膜的物品的制造方法，其特征在于，其包括在物品的基材 表面形成维氏硬度为350以上的含金属氧化物的膜的工序；和 研磨所述形成的含金属氧化物的膜的表面的研磨工序， 此处，所述研磨工序后的含金属氧化物的膜的表面粗糙度Ra为300nm以下、且20°光 泽度值为50以上。6. 根据权利要求5所述的制造方法，其中，所述含金属氧化物的膜的形成通过喷镀法、 化学气相沉积法或物理气相沉积法进行。7. 根据权利要求5或6所述的制造方法，其中，所述含金属氧化物的膜为孔隙率1~ 20 %的多孔膜。8. 根据权利要求5~7中任一项所述的制造方法，其中，所述含金属氧化物的膜的厚度 为 10 ~1000ym〇9. 根据权利要求5~8中任一项所述的制造方法，其中，所述研磨工序包括： 第1研磨工序，使用第1研磨组合物对所述形成的含金属氧化物的膜的表面进行研磨； 和 第2研磨工序，使用第2研磨组合物对所述第1研磨工序后的含金属氧化物的膜的表 面进行研磨。10. 根据权利要求9所述的制造方法，其中，所述第1研磨组合物包含磨粒（Al)， 所述第2研磨组合物包含比所述磨粒（Al)的平均二次粒径小的磨粒（A2)，该磨粒 (A2)的平均二次粒径为500nm以下。11. 根据权利要求9或10所述的制造方法，其中，所述磨粒（Al)的平均二次粒径为1~ 10Um〇12. 根据权利要求9~11中任一项所述的制造方法，其中，所述磨粒（Al)的平均二次 粒径P1与所述磨粒（A2)的平均二次粒径P2之比P/P2S2~200。13. -种用于含金属氧化物的膜的研磨组合物试剂盒，其用于权利要求9~12中任一 项所述的制造方法， 该试剂盒具备所述第1研磨组合物和所述第2研磨组合物， 所述第1研磨组合物包含磨粒（Al)， 所述第2研磨组合物包含比所述磨粒（Al)的平均二次粒径小的磨粒（A2)，该磨粒 (A2)的平均二次粒径为500nm以下。14. 一种用于含金属氧化物的膜的研磨组合物试剂盒，其用于使维氏硬度为350以上 的含金属氧化物的膜的表面粗糙度Ra为300nm以下、且20°光泽度值为50以上的研磨， 该试剂盒具备向所述含金属氧化物的膜供给的第1研磨组合物、以及在该第1研磨组 合物的供给后向该含金属氧化物的膜供给的第2研磨组合物， 所述第1研磨组合物包含磨粒（Al)， 所述第2研磨组合物包含比所述磨粒（Al)的平均二次粒径小的磨粒（A2)，该磨粒 (A2)的平均二次粒径为500nm以下。
【专利摘要】提供一种具备具有与以往不同的质感的新型表面的物品。由本发明提供的带有含金属氧化物的膜的物品具备基材、以及在该基材的表面设置的含金属氧化物的膜，前述含金属氧化物的膜的维氏硬度为350以上、表面粗糙度Ra为300nm以下、且20°光泽度值为50以上。
【IPC分类】B24B37/04, C23C4/10
【公开号】CN104919076
【申请号】CN201380070851
【发明人】森永均, 玉井一诚, 浅井舞子, 水野宏昭, 太田恭平
【申请人】福吉米株式会社
【公开日】2015年9月16日
【申请日】2013年11月27日
【公告号】EP2947172A1, US20150354058, WO2014112218A1