1.一种硬涂膜,其特征在于,其包含以基材层、离型层及硬涂层的顺序层积的结构,所述离型层包含使具有乙烯基或己烯基的聚二甲基硅氧烷和氢硅氧烷进行加成反应而得到的硅树脂,所述硬涂层包含具有30℃以上的玻璃化转变温度的高分子树脂。
2.根据权利要求1所述的硬涂膜,其特征在于,所述硬涂层对所述离型层具有4~10gf/in的附着力。
3.根据权利要求1所述的硬涂膜,其特征在于,所述硅树脂是所述聚二甲基硅氧烷的乙烯基或己烯基与所述氢硅氧烷的Si-H基进行反应而形成。
4.根据权利要求3所述的硬涂膜,其特征在于,所述硅树脂是使10重量份的所述聚二甲基硅氧烷和0.05~1.0重量份的氢硅氧烷进行加成反应而得到的。
5.根据权利要求4所述的硬涂膜,其特征在于,所述聚二甲基硅氧烷以下述化学式1表示;
化学式1
上述式中,X为乙烯基或己烯基,Me为甲基,
n为5~100的整数,m+n为1,500~15,000的整数。
6.根据权利要求1所述的硬涂膜,其特征在于,所述离型层具有0.05~1.0μm的厚度。
7.根据权利要求6所述的硬涂膜,其特征在于,所述硬涂层具有0.1~30μm的厚度及1H以上的表面硬度。
8.根据权利要求1所述的硬涂膜,其特征在于,所述硬涂膜在所述硬涂层上进一步包含印刷层、蒸镀层或粘合层。
9.一种硬涂膜的制备方法,其特征在于,其包括以下步骤:
(1)使具有乙烯基或己烯基的聚二甲基硅氧烷和氢硅氧烷进行加成反应而制备硅树脂;
(2)在基材层上涂布包含所述硅树脂的组合物,从而形成离型层;以及
(3)在所述离型层上涂布包含具有30℃以上的玻璃化转变温度的高分子树脂的硬涂层树脂组合物,从而形成硬涂层。
10.根据权利要求9所述的硬涂膜的制备方法,其特征在于,所述硬涂层树脂组合物具有比所述离型层的表面张力更低或与所述离型层表面张力的差异在10dyne/cm2以内的表面张力。
11.根据权利要求10所述的硬涂膜的制备方法,其特征在于,所述硬涂层树脂组合物具有比所述离型层的表面张力更低或与所述离型层表面张力的差异在3dyne/cm2以内的表面张力。
12.根据权利要求9所述的硬涂膜的制备方法,其特征在于,所述硬涂层树脂组合物包含具有22~26dyne/cm2的表面张力的酮类、醇类或它们的混合溶剂作为溶剂。