技术特征：
技术总结
本发明涉及含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性发生改变的基材成分(A)和通过曝光来产生酸的产酸剂成分(B)的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述产酸剂成分(B)含有由下述通式(b1－1)表示的化合物形成的产酸剂(B1)，式中，RX是可以具有取代基(但氮原子除外)的烃基；Q2和Q3分别独立地为单键或2价的连接基团；Y1是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；Z+是有机阳离子(但下述通式(w‑1)表示的离子除外)。
技术研发人员：羽田英夫;内海义之;石塚启太;松泽贤介;金子文武;大下京子;清水宏明;吉井靖博
受保护的技术使用者：东京应化工业株式会社
技术研发日：2008.12.18
技术公布日：2017.07.28