用于制备聚酰亚胺的组合物、聚酰亚胺、制品和显示器件的制作方法
【专利说明】
[0001] 相关申请的交叉引用
[0002] 本申请要求2013年11月25日提交的韩国专利申请No. 10-2013-00144125和2014 年11月20日提交的韩国专利申请No. 10-2014-0162857的优先权以及由其产生的所有权 益，将其内容全部引入本文作为参考。
技术领域
[0003] 本公开内容涉及用于制备聚酰亚胺的组合物、由所述组合物制备的聚酰亚胺、以 及包括所述聚酰亚胺的制品。
【背景技术】
[0004] 聚酰亚胺膜是不溶性膜，其耐高温，并且在暴露于热时不氧化。其还耐辐射、低温 并且因此适合于在如下中应用：用于车辆、航天航空、宇宙飞船的各种各样的耐热性高科技 材料，电子材料例如用于薄膜晶体管-液晶显示器（TFT-LCD)的绝缘涂层、绝缘膜、半导体、 电极保护层，等等。
[0005] 对于用于液晶显示器、有机电致发光显示器件、有机TFT等的基底，已广泛地使用 玻璃。然而，根据对基底的轻质和柔性的需要，已经研宄了柔性基底。在对于用于替代玻璃 的柔性基底而言期望的高透明性、低的热膨胀、高耐热性、低的光学各向异性的材料方面存 在需要。
【发明内容】
[0006] 已经发现可使用透明的聚酰亚胺膜作为柔性基底。
[0007] -种实施方式涉及用于制备具有高温稳定性、高透明性和低的光学各向异性的聚 酰亚胺的组合物。
[0008] 另一实施方式涉及具有高温稳定性、高透明性和低的光学各向异性的聚酰亚胺。
[0009] 又一实施方式涉及具有高温稳定性、高透明性和低的光学各向异性的制品。
[0010] 再一实施方式涉及包括具有高温稳定性、高透明性和低的光学各向异性的制品的 光学器件。
[0011] 根据一种实施方式，提供用于制备聚酰亚胺的组合物，包括四羧酸二酐混合物和 由化学式3表示的二胺，所述四羧酸二酐混合物包括
[0012] 由化学式1A、化学式1B或其组合表示的四羧酸二酐，
[0013] 由化学式2表示的四羧酸二酐，
[0014] 化学式1A
[0015]
[0016] 化学式IB
【主权项】
1.用于制备聚酰亚胺的组合物，包括四羧酸二酐混合物和由化学式3表示的二胺，所 述四羧酸二酐混合物包括： 由化学式1A、化学式IB或其组合表示的四羧酸二酐， 由化学式2表示的四羧酸二酐，
其中在化学式1A、IB和2中， Rici为单键、取代或未取代的C1-C30脂族有机基团、取代或未取代的C3-C30脂环族有 机基团、取代或未取代的C6-C30芳族有机基团、或者取代或未取代的C2-C30杂环基团， R12和R 13相同或不同并且独立地为：卤素；羟基；取代或未取代的Cl-ClO脂族有机基 团；取代或未取代的C6-C20芳族有机基团；式-OR2tl5的基团，其中R 2(15为Cl-ClO脂族有机 基团；或者式_SiR2°9R 21°R211的甲硅烷基，其中R2°9、R21°和R 211相同或不同并且独立地为氢或 Cl-ClO脂族有机基团， LdP L 2相同或不同并且独立地为单键或C1-C5亚烷基，和 n7和n8相同或不同并且独立地为0-3的整数； 化学式3 NH2-R1-NH2 在化学式3中， R1为取代或未取代的C1-C30脂族有机基团、或取代或未取代的C6-C30芳族有机基团， 其中所述脂族有机基团可包括取代或未取代的C1-C30亚烷基、取代或未取代的 C2-C30亚烯基、取代或未取代的C2-C30亚炔基、取代或未取代的C3-C30亚环烷基，其中所 述亚环烷基可包括一个亚环烷基环、或者通过单键或者通过选自如下的官能团连接的两个 或更多个亚环烷基环：亚芴基、0、S、C( = 0)、CH(0H)、S( = 0)2、Si(CH3)2、其中1彡p彡10 的（CH 2)p、其中 1 彡 q 彡 10 的（CF上、C(CH3)2'C(CF3)2、和 C( = 0)ΝΗ， 其中所述芳族有机基团包括一个芳环、稠合在一起以提供稠环体系的两个或更多个 芳环、或者通过单键或者通过选自如下的官能团连接的两个或更多个芳环：亚荷基、0、S、 C( = 0)、CH(0H)、S( = 0)2、Si(CH3)2、其中 1 彡 P 彡 10 的（CH2)p、其中 1 彡 q 彡 10 的（CF2) q、C(CH3)2'C(CF3)2、和 C( = 0)ΝΗ。
2. 根据权利要求1的组合物，其中R 1(1为取代或未取代的C1-C15亚烷基、取代或未取 代的C1-C15氟代亚烷基、取代或未取代的C1-C15亚杂烷基、取代或未取代的C3-C15亚环 烷基、取代或未取代的C3-C15亚杂环烷基、取代或未取代的C6-C15亚芳基、或者取代或未 取代的C2-C15亚杂芳基。
3. 根据权利要求1的组合物，其中化学式IA由化学式4或化学式5表示，和化学式2 由化学式6或化学式7表示：
在化学式4-7中， R12和R 13相同或不同并且独立地为：卤素；羟基；取代或未取代的Cl-ClO脂族有机基 团；取代或未取代的C6-C20芳族有机基团；式-OR2tltl的基团，其中R2tltl为Cl-ClO脂族有机 基团；或者式-SiR 2tllR2tl2R2tl3的甲硅烷基，其中R2Q1、R 2°2和R2tl3相同或不同并且独立地为氢或 Cl-ClO脂族有机基团，和 n7和n8相同或不同并且独立地为0-3的整数。
4. 根据权利要求1的组合物，其中化学式IA由化学式18表示： 化学式18
其中在化学式18中， Rici为单键、取代或未取代的C1-C30脂族有机基团、取代或未取代的C3-C30脂环族有 机基团、取代或未取代的C6-C30芳族有机基团、或者取代或未取代的C2-C30杂环基团， R12和R 13相同或不同并且独立地为：卤素；羟基；取代或未取代的Cl-ClO脂族有机基 团；取代或未取代的C6-C20芳族有机基团；式-OR2tl5的基团，其中R 2(15为Cl-ClO脂族有机 基团；或者式_SiR2°9R 21°R211的甲硅烷基，其中R2°9、R21°和R 211相同或不同并且独立地为氢或 Cl-ClO脂族有机基团，和 n7和n8相同或不同并且独立地为0-2的整数。
5. 根据权利要求1的组合物，其中由化学式IA表示的四羧酸二酐为选自如下的一种或 多种：3, 3'，4, 4' -联苯四羧酸二酐3, 3'，4, 4' -二苯基砜四羧酸二酐、4, 4' -(六氟异丙叉） 二邻苯二甲酸酐、和4, 4' -氧基二邻苯二甲酸酐。