一种带配合公差纠正机构的进气歧管的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种进气歧管，尤其是涉及一种带配合公差纠正机构的进气歧管。
【背景技术】
[0002]进气歧管现在设计大量使用振动摩擦焊接，振动摩擦焊接设计自由度大，焊接结构强度高，但是由于振动度不好掌握，因此容易在振动方向产生相对位置偏差，从而使歧管内壁产生偏差台阶，如图1所示，左右两个部件高低不同，当气流从左至右流时，会遇到阻力，因此会影响歧管整体性能。
[0003]例如中国专利CN201310425Y公开了一种爪型进气歧管，包括歧管上壳体、歧管下壳体，歧管上壳体和歧管下壳体分别注塑，再进行振动摩擦焊接组成气道，气道的一端接进气法兰，进气法兰端面各管口设有凹槽型密封圈座，上、下壳体面上设有若干个螺母嵌件孔，把密封围和螺母嵌件装入其中，再进行歧管的整体安装，方便快捷，气道的另一端与分气腔相连，小歧管与分气腔融设为一体并管道相通。该爪型进气歧管的歧管上壳体和歧管下壳采用振动摩擦时，如图1所示，在沿气流方向上，管道内可能会产生凸起的台阶。
【发明内容】
[0004]本实用新型的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种带配合公差纠正机构的进气歧管。
[0005]本实用新型的目的可以通过以下技术方案来实现:
[0006]一种带配合公差纠正机构的进气歧管，所述进气歧管包括依次连接的单片壳体:内壳体、下壳体、中壳体和上壳体，所述内壳体、下壳体、中壳体和上壳体通过振动摩擦焊接组成用于气流通过的歧管本体，所述依次连接的两个单片壳体的连接处均设有配合公差纠正机构。
[0007]所述两个单片壳体连接处的配合公差纠正机构均包括相互连接的第一连接块和第二连接块，所述第二连接块上设有倒角，所述第一连接块设于前一单片壳体上，所述第二连接块设于另一个单片壳体上。
[0008]所述倒角为倒角宽度与两边单片壳体的配合公差相等的倒角。
[0009]所述倒角为倒角角度小于45度的倒角。
[0010]所述进气歧管还包括用于稳固歧管本体的端盖，所述端盖分别与下壳体、中壳体和上壳体连接。
[0011]与现有技术相比，本实用新型具有以下优点:
[0012]I)制造难度低:由于设计增加了配合公差纠正机构，在焊接时精确度要求降低，可大大降低焊接难度。
[0013]2)成品率高:在焊接时由于设计增加了配合公差纠正机构，是成品在焊接偏差方面的成品率增加。
[0014]3)性能稳定性高:由于成品在焊接处不易产生偏差与台阶，使产品内表面光滑，产品性能稳定。
【附图说明】
[0015]图1为现有技术中振动摩擦后两个单片壳体之间存在位置偏差示意图；
[0016]图2为本实用新型的结构示意图；
[0017]图3为图2的A-A剖视图；
[0018]图4为图3中D区域的放大图；
[0019]图5为图3的B-B剖视图；
[0020]图6为图5中C区域的放大图；
[0021]图7为第二连接块上的倒角结构示意图；
[0022]其中:1、下壳体，2、内壳体，3、中壳体，4、上壳体，5、端盖，6、过渡倒角，7、倒角，8、
过渡块。
【具体实施方式】
[0023]下面结合附图和具体实施例对本实用新型进行详细说明。本实施例以本实用新型技术方案为前提进行实施，给出了详细的实施方式和具体的操作过程，但本实用新型的保护范围不限于下述的实施例。
[0024]一种带配合公差纠正机构的进气歧管，如图2、图3和图5所示，进气歧管包括依次连接的单片壳体:内壳体2、下壳体1、中壳体3和上壳体4，内壳体2、下壳体1、中壳体3和上壳体4通过振动摩擦焊接组成用于气流通过的歧管本体，图3、4、6中的单向箭头方向即为气流方向，依次连接的两个单片壳体的连接处均设有配合公差纠正机构，振动摩擦焊接时，其中振动方向如图4和图6中的双向箭头所示。
[0025]两个单片壳体连接处的配合公差纠正机构均包括相互连接的第一连接块和第二连接块，第二连接块上设有倒角7，第一连接块设于前一单片壳体上并与该单片壳体一体成型，第二连接块设于另一个单片壳体上并与该单片壳体一体成型。
[0026]倒角7为倒角宽度与两边单片壳体的配合公差相等的倒角，如图7所示，图中的b即为倒角宽度。
[0027]倒角7为倒角角度小于45度的倒角，图7中的α即为倒角角度。
[0028]如图1所示，进气歧管还包括用于稳固歧管本体的端盖5，端盖5分别与下壳体1、中壳体3和上壳体4连接。
[0029]本实施例中，如图4和图6所示，两个单片壳体之间还设有过渡块8，该过渡块8上设有过渡倒角6，当存在过渡块8时，倒角7的倒角宽度与过渡块8和第二连接块所在单片壳体的配合公差相等，过渡倒角6的倒角宽度与过渡块8和第一连接块所在单片壳体的配合公差相等。
【主权项】
1.一种带配合公差纠正机构的进气歧管，所述进气歧管包括依次连接的单片壳体:内壳体、下壳体、中壳体和上壳体，所述内壳体、下壳体、中壳体和上壳体通过振动摩擦焊接组成用于气流通过的歧管本体，其特征在于，所述依次连接的两个单片壳体的连接处均设有配合公差纠正机构。
2.根据权利要求1所述的一种带配合公差纠正机构的进气歧管，其特征在于，所述两个单片壳体连接处的配合公差纠正机构均包括相互连接的第一连接块和第二连接块，所述第二连接块上设有倒角，所述第一连接块设于前一单片壳体上，所述第二连接块设于另一个单片壳体上。
3.根据权利要求2所述的一种带配合公差纠正机构的进气歧管，其特征在于，所述倒角为倒角宽度与两边单片壳体的配合公差相等的倒角。
4.根据权利要求2所述的一种带配合公差纠正机构的进气歧管，其特征在于，所述倒角为倒角角度小于45度的倒角。
5.根据权利要求1所述的一种带配合公差纠正机构的进气歧管，其特征在于，所述进气歧管还包括用于稳固歧管本体的端盖，所述端盖分别与下壳体、中壳体和上壳体连接。
【专利摘要】本实用新型涉及一种带配合公差纠正机构的进气歧管，进气歧管包括依次连接的单片壳体：内壳体、下壳体、中壳体和上壳体，内壳体、下壳体、中壳体和上壳体通过振动摩擦焊接组成用于气流通过的歧管本体，依次连接的两个单片壳体的连接处均设有配合公差纠正机构。与现有技术相比，本实用新型由于设计增加了配合公差纠正机构，在焊接时精确度要求降低，可大大降低焊接难度。
【IPC分类】F02M35-104
【公开号】CN204419414
【申请号】CN201420868630
【发明人】蔡佳明, 迟应城
【申请人】曼胡默尔滤清器（上海）有限公司
【公开日】2015年6月24日
【申请日】2014年12月31日