触控显示基板及其制造方法、触控显示装置及像素排列与流程

本发明涉及显示技术，具体地，涉及触控显示基板、具有该触控显示基板的触控显示装置、像素排列、以及制造触控显示基板的方法。

背景技术：

有机发光二极管(OLED)利用电致磷光的原理以高效的方式将OLED中的电能转换为光。OLED是不需要背光源的自发光装置。由于具有宽视角、高对比度、快速响应、高灵活性、宽工作温度范围、以及更简单的结构及制造工艺，OLED在显示领域得到了广泛的应用。

在传统的触控显示有机发光装置中，将触控模块添加至显示模块上。显示模块和触控模块可以分开制造。将触控模块贴合至显示面板上。这种类型的触控显示面板具有较大厚度并且容易损坏。

技术实现要素：

一方面，本发明提供一种触控显示基板，包括：多个像素的阵列，在所述触控显示基板的平面图中，每个像素具有第一区域和第二区域，每个像素包括：基底上的第一电极层，其包括所述第一区域中的多个第一电极块以及所述第二区域中的第二电极块，每个所述第一电极块对应于子像素；所述第一区域中的第一发光层，其位于所述多个第一电极块的远离所述基底的一侧；所述第二区域中的第二发光层，其位于所述第二电极块的远离所述基底的一侧；所述第一区域中的第二电极层，其位于所述第一发光层的远离所述多个第一电极块的一侧；以及所述第二区域中的触控电极层，其位于所述第二发光层的远离所述第二电极块的一侧；所述触控电极层与所述第二电极层彼此分隔且电绝缘。

可选地，每个像素还包括所述基底上的图案分隔层，其将所述像素划分为所述第一区域和所述第二区域；所述图案分隔层使所述触控电极层和所述第二电极层分隔且电绝缘；并且所述图案分隔层使所述第一发光层和所述第二发光层分隔且电绝缘。

可选地，所述触控电极层与所述第二电极层位于同一层，并且所述第一发光层与所述第二发光层位于同一层。

可选地，所述第二区域中的一个第二电极块与所述触控电极层电连接。

可选地，所述第二区域中的所述一个第二电极块通过所述第二发光层中的导电通道与所述触控电极层电连接，所述导电通道包括烧结的导电材料，所述烧结的导电材料包括所述第二发光层的发光材料、所述第二区域中的所述一个第二电极块的导电材料和所述触控电极层的导电材料中的至少一个。

可选地，所述触控显示基板还包括所述第一区域中的多个电极引线和所述第二区域中的多个触控引线；所述多个触控引线与所述多个电极引线位于同一层；所述多个触控引线与所述触控电极层通过所述第二发光层中的导电通道电连接，所述导电通道包括烧结的导电材料，所述烧结的导电材料包括所述第二发光层的发光材料、所述第二区域中的触控引线的导电材料和所述触控电极层的导电材料中的至少一个。

可选地，每个像素还包括所述第二区域中的像素补偿电路。

可选地，每个像素包括所述第一区域中的第一颜色的子像素、第二颜色的子像素和第三颜色的子像素，以及所述第二区域中的多个像素补偿电路；每个像素补偿电路与来自相同像素的第一颜色的子像素、来自相邻像素的第二颜色的子像素和第三颜色的子像素中的一个连接。

可选地，每个第二区域被来自相同像素的第一颜色的子像素、来自第一相邻像素的第二颜色的子像素、以及分别来自第二相邻像素和第三相邻像素的两个第三颜色的子像素包围；所述第一颜色、所述第二颜色和所述第三颜色是选自红色、绿色和蓝色的不同颜色。

可选地，每个像素包括三个像素补偿电路，每个像素补偿电路与来自相同像素的第一颜色的子像素、来自第一相邻像素的第二颜色的子像素和来自第二相邻像素的第三颜色的子像素中的一个连接。

可选地，每个像素包括四个像素补偿电路，每个像素补偿电路与来自相同像素的第一颜色的子像素、来自第一相邻像素的第二颜色的子像素、来自第二相邻像素的第三颜色的子像素和来自第三相邻像素的第三颜色的子像素中的一个连接。

可选地，每个像素包括所述第一区域中的第一颜色的子像素、第二颜色的子像素和第三颜色的子像素，以及所述第二区域中的触控子像素，所述触控电极层构造为按照分时驱动模式操作，所述分时驱动模式包括显示模式和触控模式，所述触控电极层是用于在所述触控模式期间传导触控信号的触控电极，并且所述第二区域中的一个第二电极块和所述触控电极层是用于在所述显示模式期间对所述第二发光层施加电压信号的电极；每个像素还包括四个像素补偿电路，每个像素补偿电路与来自相同像素的第一颜色的子像素、来自第一相邻像素的第二颜色的子像素、来自第二相邻像素的第三颜色的子像素和所述触控子像素中的一个连接。

可选地，所述第一发光层是整体的白色发光层；每个像素还包位于所述第二电极层的远离所述第一发光层的一侧的多个彩膜，每个所述彩膜对应于子像素。

可选地，所述触控电极层构造为按照分时驱动模式操作，所述分时驱动模式包括显示模式和触控模式，所述触控电极层是用于在所述触控模式期间传导触控信号的触控电极，并且所述第二区域中的一个第二电极块和所述触控电极层是用于在所述显示模式期间对所述第二发光层施加电压信号的电极。

可选地，所述触控显示基板还包括p-硅衬底上的多个薄膜晶体管，每个所述薄膜晶体管对应于一个第一电极块或一个第二电极块。

可选地，所述第一电极层为阳极层，所述第二电极层为阴极层。

另一方面，本发明提供了一种像素排列，包括多个像素的阵列，其中每个像素包括第一颜色的子像素、第二颜色的子像素、第三颜色的子像素、触控子像素、以及所述触控子像素中的多个像素补偿电路；每个像素补偿电路与来自相同像素的第一颜色的子像素、来自相邻像素的第二颜色的子像素和第三颜色的子像素中的一个连接；并且每个触控子像素被来自相同像素的第一颜色的子像素、来自第一相邻像素的第二颜色的子像素、以及分别来自第二相邻像素和第三相邻像素的两个第三颜色的子像素包围。

可选地，每个像素包括三个像素补偿电路，每个像素补偿电路与来自相同像素的第一颜色的子像素、来自第一相邻像素的第二颜色的子像素和来自第二相邻像素的第三颜色的子像素中的一个连接。

可选地，每个像素包括四个像素补偿电路，每个像素补偿电路与来自相同像素的第一颜色的子像素、来自第一相邻像素的第二颜色的子像素、来自第二相邻像素的第三颜色的子像素和来自第三相邻像素的第三颜色的子像素中的一个连接。

可选地，每个像素包括四个像素补偿电路，每个像素补偿电路与来自相同像素的第一颜色的子像素、来自第一相邻像素的第二颜色的子像素、来自第二相邻像素的第三颜色的子像素和所述触控子像素中的一个连接。

另一方面，本发明提供了一种制造触控显示基板的方法，包括形成多个像素的阵列，在所述触控显示基板的平面图中，每个像素包括第一区域和第二区域；其中形成每个像素包括：在基底上形成第一电极层；所述形成第一电极层的步骤包括在所述第一区域内形成多个第一电极块以及在所述第二区域内形成第二电极块，每个所述第一电极块对应于子像素；在所述第一区域内所述多个第一电极块的远离所述基底的一侧形成第一发光层；在所述第二区域内所述第二电极块的远离所述基底的一侧形成第二发光层；在所述第一区域内所述第一发光层的远离所述多个第一电极块的一侧形成第二电极层；以及在所述第二区域内所述第二发光层的远离所述第二电极块的一侧形成触控电极层；所述触控电极层与所述第二电极层彼此分隔且电绝缘。

可选地，所述方法还包括：在所述基底上形成将每个像素划分为所述第一区域和所述第二区域的图案分隔层；所述图案分隔层使所述触控电极层和所述第二电极层分隔且电绝缘；并且所述图案分隔层使所述第一发光层和所述第二发光层分隔且电绝缘。

可选地，所述图案分隔层由光刻胶材料制成，所述形成每个像素的步骤包括：在具有所述第一电极层的基底上沉积光刻胶层；利用掩膜板对所述光刻胶层进行曝光，所述掩膜板具有与所述图案分隔层对应的图案；对曝光后的光刻胶层进行显影，从而形成所述图案分隔层；在所述第一电极层的远离具有所述图案分隔层的基底的一侧沉积有机发光材料层，从而形成所述第一区域中的所述第一发光层和所述第二区域中的所述第二发光层；以及在所述有机发光材料层的远离所述第一电极层的一侧沉积电极材料层，从而形成所述第一区域中的所述第二电极层和所述第二区域中的所述触控电极层。

可选地，所述方法还包括：将所述第二区域中的一个第二电极块与所述触控电极层电连接。

可选地，将所述第二区域中的一个第二电极块与所述触控电极层电连接的步骤包括：烧结包括所述第二区域中的所述一个第二电极块、所述第二发光层和所述触控电极层在内的多层结构的一部分；以及在所述第二发光层中形成导电通道，所述导电通道包括烧结的导电材料，所述烧结的导电材料包括发光材料、所述一个第二电极块的导电材料和所述触控电极层的导电材料中的至少一个。

可选地，所述形成每个像素的步骤还包括：在所述第二区域中形成像素补偿电路。

可选地，所述第一区域包括第一颜色的子像素、第二颜色的子像素、第三颜色的子像素；形成每个像素包括：在所述第二区域中形成多个像素补偿电路，每个所述像素补偿电路与来自相同像素的第一颜色的子像素、来自相邻像素的第二颜色的子像素和第三颜色的子像素中的一个连接；所述方法包括：形成所述多个像素的阵列，使得每个第二区域被来自相同像素的第一颜色的子像素、来自相邻像素的第二颜色的子像素和分别来自其他两个相邻像素的两个第三颜色的子像素包围。

可选地，所述触控电极层与所述第二电极层形成在同一层，所述第一发光层与所述第二发光层形成在同一层。

可选地，所述方法还包括：在同一层中形成所述第一区域中的多个电极引线和所述第二区域中的多个触控引线；以及通过所述第二发光层中的导电通道将所述多个触控引线与所述触控电极层电连接；其中所述将所述多个触控引线与所述触控电极层电连接的步骤包括：烧结包括所述第二区域中的触控引线、所述第二发光层和所述触控电极层在内的多层结构的一部分；以及在所述第二发光层中形成导电通道，所述导电通道包括烧结的导电材料，所述烧结的导电材料包括发光材料、所述触控引线的导电材料和所述触控电极层的导电材料中的至少一个。

另一方面，本发明提供了一种触控显示装置，其包括本文所述触控显示基板或者由本文所述的方法制作的触控显示基板。

附图说明

以下附图仅是根据所公开的各实施例的用于说明目的的示例，并非旨在限制本发明的范围。

图1A是示出一些实施例中的触控显示基板的结构的示意图。

图1B是示出一些实施例中的触控显示基板的结构的示意图。

图1C是示出一些实施例中的触控显示基板的结构的示意图。

图2是示出一些实施例中的触控显示基板中的像素排列的示意图。

图3是示出传统的触控显示基板中的像素排列的示意图。

图4是示出一些实施例中的触控显示基板中的像素补偿电路的排列的示意图。

图5是示出一些实施例中的触控显示基板中的像素补偿电路的排列的示意图。

图6是示出一些实施例中的制造触控显示基板的方法的流程图。

图7A是示出一些实施例中的图案分隔层的结构的示意图。

图7B是示出一些实施例中的图案分隔层的结构的示意图。

具体实施方式

现在将参照以下实施例更加详细地描述本公开。要说明的是，本文以下提供了对一些实施例的描述仅用于说明和解释目的。其并非旨在穷举或限制为所公开的精确形式。

本公开特别提供了一种新型内嵌式(in-cell)触控显示基板、一种具有该触控显示基板的触控显示装置、以及一种制造触控显示基板的方法。在一些实施例中，所述触控显示基板将每个像素的子像素区用作触控感应区，并将阴极(或阳极)的一部分电绝缘作为触控电极。本设计提供了紧凑的嵌入式触控结构，其可以与显示模块一起制作。此外，触控引线可以可选地与阴极或阳极的电极引线同层设置，可以通过将发光层的一部分烧结来使触控电极和触控引线电连接。为了进一步减小显示基板的厚度并增大显示基板的开口率，可以将触控显示基板设计为具有新型的像素排列，使得来自多个子像素的多个像素补偿电路可以布置在相同的触控子像素区内。

在一些实施例中，所述触控显示基板包括多个像素的阵列。在触控显示基板的平面图中，每个像素包括第一区域和第二区域。在一些实施例中，每个像素包括：基底上的第一电极层，该第一电极层包括第一区域内的多个第一电极块和第二区域内的至少一个第二电极块，每个第一电极块对应于子像素；第一区域内的第一发光层，其在所述多个第一电极块的远离基底的一侧；第二区域内的第二发光层，其在第二电极块的远离基底的一侧；第一区域内的第二电极层，其在第一发光层的远离所述多个第一电极块的一侧；以及第二区域内的触控电极层，其在第二发光层的远离第二电极块的一侧。可选地，触控电极层与第二电极层彼此分隔且电绝缘。可选地，第一发光层与第二发光层彼此分隔且电绝缘。可选地，触控电极层与第二电极层位于同一层。可选地，第一发光层与第二发光层位于同一层。可选地，触控电极层与第二电极层彼此分隔且电绝缘，第一发光层与第二发光层彼此分隔且电绝缘，触控电极层与第二电极层位于同一层，并且第一发光层与第二发光层位于同一层。

另一方面，本公开提供了一种制造触控显示基板的方法。该触控显示基板包括多个像素的阵列，在触控显示基板的平面图中，每个像素包括第一区域和第二区域。在一些实施例中，形成每个像素的步骤包括：在基底上形成第一电极层，形成第一电极层的步骤包括在第一区域内形成多个第一电极块，以及在第二区域内形成第二电极块，每个第一电极块对应于子像素；在第一区域内所述多个第一电极块的远离基底的一侧形成第一发光层；在第二区域内所述第二电极块的远离基底的一侧形成第二发光层；在第一区域内第一发光层的远离所述多个第一电极块的一侧形成第二电极层；以及在第二区域内第二发光层的远离第二电极块的一侧形成触控电极层。可选地，触控电极层和第二电极层形成为彼此分隔且电绝缘。可选地，第一发光层和第二发光层形成为彼此分隔且电绝缘。可选地，触控电极层和第二电极层形成在同一层。可选地，第一发光层和第二发光层形成在同一层。可选地，触控电极层和第二电极层形成为彼此分隔且电绝缘，第一发光层和第二发光层形成为彼此分隔且电绝缘，触控电极层和第二电极层形成在同一层，并且第一发光层和第二发光层形成在同一层。

可以实践各种方法来使触控电极层与第二电极层分隔且电绝缘以及使第一发光层与第二发光层分隔且电绝缘。例如，可以使用掩模板来形成第一发光层的图案、第二发光层的图案、触控电极层的图案、和第二电极层的图案，使得第一发光层和第二发光层之间存在间隙，并且触控电极层和第二电极层之间存在间隙。在一些实施例中，可以在单个处理(例如，沉积处理)中形成单个发光层，并且可以对该单个发光层进行图案化以形成第一发光层和第二发光层(例如，在单个发光层中刻蚀出将其分为两层的间隙)。类似地，可以在单个处理(例如，沉积处理)中形成单个电极层，并且可以对该单个电极层进行图案化以形成触控电极层和第二电极层(例如，在单个电极层中刻蚀出将其分为两层的间隙)。

在一些实施例中，每个像素包括基底上的图案分隔层，其将像素划分为第一区域和第二区域。图案分隔层使触控电极层和第二电极层彼此分隔且电绝缘。可选地，图案分隔层使第一发光层和第二发光层彼此分隔且电绝缘。

因此，形成每个像素的步骤可以可选地包括在基底上形成将每个像素分为第一区域和第二区域的图案分隔层。图案分隔层形成为使触控电极层和第二电极层分隔且电绝缘；并且使第一发光层和第二发光层分隔且电绝缘。

图1A是示出一些实施例中的触控显示基板的结构的示意图。参照图1A，实施例中的触控显示基板包括多个像素1的阵列。每个像素1可以包括多个子像素，例如，子像素11A、子像素11B、子像素11C、以及子像素11D。如图1A所示，实施例中的触控显示基板包括基底20上的第一电极层4。第一电极层4包括多个第一电极块(例如，4A)和第二电极块(换言之，一个或多个第二电极块，例如，4B)。此外，触控显示基板包括图案分隔层5，其在基底20的平面图中将像素1划分为第一区域2和第二区域3。第一区域2包括能够进行图像显示的多个子像素11A、11B和11C，每个子像素包括驱动薄膜晶体管10。第二区域3包括至少一个用于触控的触控子像素11D。可选地，触控子像素11D也能够进行图像显示。可选地，触控子像素11D包括驱动薄膜晶体管10。每个驱动薄膜晶体管10与第一电极块4A或第二电极块4B电连接。

各个实施例可以实践为制作和使用触控显示基板。例如，基底可由合适的材料制成，例如，玻璃、石英、或者透明树脂。薄膜晶体管10可以为包括栅极、源极、漏极和有源层的薄膜晶体管。

在一些实施例中，基底为p+硅衬底。如图1A所示，薄膜晶体管10可以为包括栅极结构40、N阱50和场氧化物(FOX)隔离结构60的薄膜晶体管。在一些实施例中，基底为n+硅衬底。可选地，薄膜晶体管包括栅极结构、P阱和场氧化物(FOX)隔离结构60。

可选地，第一电极层为阳极层，第二电极层为阴极层。可选地，第一电极层为阴极层，第二电极层为阳极层。

如图1A所示，第一电极块4A在第一区域2内，第二电极块4B在第二区域3内。每个第一电极块4A对应于子像素11A、11B和11C中的一个。第二电极块4B对应于子像素11D。

在一些实施例中，触控显示基板包括发光层6，其位于第一电极层4的远离基底20的一侧。图案分隔层5将发光层6划分为第一区域2内的第一发光层6A和第二区域3内的第二发光层6B，即，第一发光层6A和第二发光层6B被图案分隔层5分隔开。第一发光层6A对应于子像素11A、11B和11C，第二发光层6B对应于子像素11D。由于图案分隔层5由诸如光刻胶之类的非导电材料制成，因此第一发光层6A和第二发光层6B也通过图案分隔层5电绝缘。

可以在单个处理(例如，单个沉积处理)中制作第一发光层6A和第二发光层6B。因此，第一发光层6A和第二发光层6B可以位于同一层。可选地，可以在两个沉积处理中制作第一发光层6A和第二发光层6B。相应地，第一发光层6A和第二发光层6B可以位于不同的层。

如图1A所示，第一发光层6A位于第一电极块4A的远离基底20的一侧，第二发光层6B位于第二电极块4B的远离基底20的一侧。

参见图1A，实施例中的触控显示基板还包括第二电极层7A，其位于发光层6的远离第一电极层4的一侧。具体地，第二电极层7A位于第一发光层6A的远离第一电极块4A的一侧。第二电极层7A位于第一区域2内。可选地，第二电极层7A为整体的电极层。

参见图1A，实施例中的触控显示基板还包括触控电极层7B，其位于发光层6的远离第一电极层4的一侧。具体地，触控电极层7B位于第二发光层6B的远离第二电极块4B的一侧。触控电极层7B位于第二区域3内。可选地，触控电极层7B为整体的电极层。

如图1A所示，第一发光层6A位于第二电极层7A的靠近基底20的一侧，第二发光层6B位于触控电极层7B的靠近基底20的一侧。

在一些实施例中，触控显示基板包括第一发光层6和第一电极层4之间的一个或多个有机层。可选地，触控显示基板包括第一发光层6A和第一区域内的第一电极层4(例如，第一电极块4A)之间的一个或多个有机层。可选地，触控显示基板包括第二发光层6B和第二区域内的第一电极层4(例如，第二电极块4B)之间的一个或多个有机层。在一些实施例中，触控显示基板包括第一发光层6A和第二电极层7A之间的一个或多个有机层。在一些实施例中，触控显示基板包括第二发光层6B和触控电极层7B之间的一个或多个有机层。可选地，所述一个或多个有机层为诸如空穴传输层或电子传输层之类的载流子传输层。可选地，所述一个或多个有机层为诸如空穴注入层或电子注入层之类的载流子注入层。

可选地，第一发光层6A为整体的白色发光层。可选地，第二发光层6B为整体的白色发光层。可选地，在单个处理中形成第一发光层6A和第二发光层6B。

可选地，第一发光层6A包括多个发光块，每个发光块能够发出不同颜色的光，例如，红色发光块、绿色发光块、蓝色发光块、或者白色发光块。每个发光块对应于子像素，例如，子像素11A、11B或者11C。每个发光块对应于第一电极块4A。可选地，触控显示基板包括像素限定层，其将各个发光块绝缘。可选地，发光块包括红色发光层。可选地，发光块包括绿色发光层。可选地，发光块包括蓝色发光层。可选地，发光块包括白色发光层。在一些实施例中，触控显示基板包括第一发光块和第一电极块4A之间的一个或多个有机层。在一些实施例中，触控显示基板包括第一发光块和第二电极层7A之间的一个或多个有机层。可选地，所述一个或多个有机层为诸如空穴传输层或者电子传输层之类的载流子传输层。可选地，所述一个或多个有机层为诸如空穴注入层或电子注入层之类的载流子注入层。

图案分隔层5将第一区域2内的第二电极层7A与第二区域3内的触控电极层7B分隔开，即，第二电极层7A和触控电极层7B被图案分隔层5分隔开。第二电极层7A对应于子像素11A、子像素11B和子像素11C，触控电极层7B对应于子像素11D。因为图案分隔层5由诸如光刻胶之类的非导电材料制成，所以第二电极层7A和触控电极层7B也通过图案分隔层5电绝缘。

可以在单个处理(例如，单个沉积处理)中制作第二电极层7A和触控电极层7B。因此，第二电极层7A和触控电极层7B可以位于同一层。可选地，可以在两个沉积处理中制作第二电极层7A和触控电极层7B。相应地，第二电极层7A和触控电极层7B可以位于不同的层。

在一些实施例中，第二区域内的第二电极块4B与触控电极层7B电连接。各个实施例可以实践为将第二电极块4B与触控电极层7B电连接。例如，第二电极块4B与触控电极层7B可通过延伸穿过第二发光层6B的过孔电连接。如本文中讨论的，第二电极块4B和触控电极层7B也可通过第二发光层6B中的导电通道电连接。导电通道包括烧结的导电材料，其包括发光材料、第二区域中的第二电极块的导电材料以及触控电极层的导电材料。

图1B是示出一些实施例中的触控显示基板的结构的示意图。参见图1B，实施例中的触控显示基板包括第二发光层6B中的导电通道8。导电通道8可以通过例如激光烧结第二发光层6B、触控电极层7B和第二电极块4B来形成。导电通道8包括烧结的导电材料，其包括第二发光层6B的发光材料、第二电极块4B的导电材料、以及触控电极层7B的导电材料中的至少一个。可选地，触控电极层7B的与导电通道8对应的部分也包括烧结的材料，该烧结的材料至少包括触控电极层7B的导电材料和第二发光层6B的发光材料。可选地，第二电极块4B的与导电通道8对应的部分也包括烧结的材料，该烧结的材料至少包括第二电极块4B的导电材料和第二发光层6B的发光材料。至少部分地烧结导电通道8，使得导电通道8变得导电，从而将第二电极块4B与触控电极层7B电连接。

在一些实施例中，触控显示基板包括第二区域内的第二发光层6B与第二电极块4B之间或者第二发光层6B与触控电极层7B之间的额外的层。可选地，触控显示基板包括第二区域内的第二发光层6B与第二电极块4B之间的一个或多个有机层。可选地，触控显示基板包括第二发光层6B与触控电极层7B之间的一个或多个有机层。可选地，所述一个或多个有机层为诸如空穴传输层或电子传输层之类的载流子传输层。可选地，所述一个或多个有机层为诸如空穴注入层或电子注入层之类的载流子注入层。

因此，导电通道8可以可选地包括烧结的导电材料，该烧结的导电材料包括第二发光层6B的发光材料、第二电极块4B的导电材料、触控电极层7B的导电材料、以及第二区域内的第二发光层6B与第二电极块4B之间或者第二发光层6B与触控电极层7B之间的额外的层的材料。额外的层的示例包括诸如空穴传输层或电子传输层之类的载流子传输层以及诸如空穴注入层或电子注入层之类的载流子注入层。可选地，导电通道8包括烧结的导电材料，该烧结的导电材料包括第二发光层6B的发光材料、第二电极块4B的导电材料、触控电极层7B的导电材料、以及载流子传输层(例如，空穴传输层或电子传输层)的材料。可选地，导电通道8包括烧结的导电材料，该烧结的导电材料包括第二发光层6B的发光材料、第二电极块4B的导电材料、触控电极层7B的导电材料、以及载流子注入层(例如，空穴注入层或电子注入层)的材料。可选地，导电通道8包括烧结的导电材料，该烧结的导电材料包括第二发光层6B的发光材料、第二电极块4B的导电材料、触控电极层7B的导电材料、载流子传输层(例如，空穴传输层或电子传输层)的材料、以及载流子注入层(例如，空穴注入层或电子注入层)的材料。

图1C是示出一些实施例中的触控显示基板的结构的示意图。参见图1C，实施例中的触控显示基板包括第二发光层6B中的导电通道8’。如图1C所示，实施例中的触控显示基板包括第一区域内的多个电极引线80和第二区域内的多个触控引线70。所述多个触控引线70与所述多个电极引线80位于同一层。所述多个触控引线70可通过第二发光层6B中的导电通道8’与触控电极层7B电连接。导电通道8’可通过例如激光烧结第二发光层6B、触控电极层7B和触控引线70来形成。导电通道8’包括烧结的导电材料，该烧结的导电材料包括第二发光层6B的发光材料、触控引线70的导电材料、以及触控电极层7B的导电材料中的至少一个。可选地，触控电极层7B的与导电通道8’对应的部分也包括烧结的材料，该烧结的材料至少包括触控电极层7B的导电材料和第二发光层6B的发光材料。可选地，触控引线70的与导电通道8’对应的部分也包括烧结的材料，该烧结的材料至少包括触控引线70的导电材料和第二发光层6B的发光材料。至少部分地烧结导电通道8’，使得导电通道8’变得导电，从而将触控引线70与触控电极层7B电连接。

在一些实施例中，触控显示基板包括第二区域内的第二发光层6B与触控引线70之间或者第二发光层6B与触控电极层7B之间的额外的层。可选地，所述触控显示基板包括第二区域内的第二发光层6B与触控引线70之间的一个或多个有机层。可选地，触控显示基板包括第二发光层6B与触控电极层7B之间的一个或多个有机层。可选地，所述一个或多个有机层为诸如空穴传输层或电子传输层之类的载流子传输层。可选地，所述一个或多个有机层为诸如空穴注入层或电子注入层之类的载流子注入层。

因此，导电通道8’可以可选地包括烧结的导电材料，该烧结的导电材料包括第二发光层6B的发光材料、触控引线70的导电材料、触控电极层7B的导电材料、以及第二区域内的第二发光层6B与触控引线70之间或者第二发光层6B与触控电极层7B之间的额外的层的材料。额外的层的示例包括诸如空穴传输层或电子传输层之类的载流子传输层以及诸如空穴注入层或电子注入层之类的载流子注入层。可选地，导电通道8’包括烧结的导电材料，该烧结的导电材料包括第二发光层6B的发光材料、触控引线70的导电材料、触控电极层7B的导电材料、以及载流子传输层(例如，空穴传输层或电子传输层)的材料。可选地，导电通道8’包括烧结的导电材料，该烧结的导电材料包括第二发光层6B的发光材料、触控引线70的导电材料、触控电极层7B的导电材料、以及载流子注入层(例如，空穴注入层或电子注入层)的材料。可选地，导电通道8’包括烧结的导电材料，该烧结的导电材料包括第二发光层6B的发光材料、触控引线70的导电材料、触控电极层7B的导电材料、载流子传输层(例如，空穴传输层或电子传输层)的材料、以及载流子注入层(例如，空穴注入层或电子注入层)的材料。

因为触控电极层7B可通过导电通道8’与触控引线70电连接，触控引线70可通过导电通道8’与触控电极层7B电连接。因此，触控引线70可与第一区域内用于驱动图像显示的电极引线80形成在同一层。可选地，触控引线70与第一电极引线位于同一层。可选地，触控引线70与第二电极引线位于同一层。

参见图1A至图1C，实施例中的触控显示基板还包括第二区域内的至少一个像素补偿电路9。像素补偿电路9的示例包括但不限于6T1C电路、2T1C电路、4T1C电路和5T1C电路。

在一些实施例中，触控显示基板在第二区域中包括多个(例如，2个、3个、4个或更多)像素补偿电路9。例如，触控显示基板可包括多个像素补偿电路9，每个所述像素补偿电路9对应于不同的子像素(例如，红色子像素、绿色子像素、或蓝色子像素)。

另一方面，本公开提供一种触控显示基板中的新型的像素排列。在一些实施例中，像素包括第一颜色的子像素、第二颜色的子像素、第三颜色的子像素，像素中的第二区域与来自相同像素的第一颜色的子像素、来自第一相邻像素的第二颜色的子像素以及分别来自第二相邻像素和第三相邻像素的两个第三颜色的子像素相邻。第一颜色、第二颜色和第三颜色是三种不同的颜色，例如，红色、绿色和蓝色。

图2是示出一些实施例中的触控显示基板中的像素排列的示意图。参见图2，实施例中的触控显示基板包括红色子像素11A、绿色子像素11B、蓝色子像素11C、和触控子像素11D。如本文中讨论的，本公开的像素包括第一区域和第二区域。第一区域包括能够进行图像显示的红色子像素11A、绿色子像素11B和蓝色子像素11C。第二区域包括用于触控的触控子像素11D。可选地，触控子像素11D也能够进行图像显示。每个像素还包括触控子像素11D中的至少一个像素补偿电路。例如，每个像素可包括触控子像素11D中的至少三个像素补偿电路，每个像素补偿电路连接至红色子像素11A、绿色子像素11B和蓝色子像素11C中的一个。

参见图2，第二区域(和触控子像素11D)被四个子像素包围，分别是：来自相同像素的蓝色子像素11C(位于11D的左侧)、来自第一相邻像素的红色子像素11A(位于11D的右侧)、以及来自第二相邻像素和第三相邻像素的两个绿色子像素11C(位于11D的上侧和下侧)。

图3是示出传统的触控显示基板中的像素排列的示意图。参见图3，第二区域(和触控子像素11D)被来自相同像素的蓝色子像素11C(位于11D的左侧)、来自第一相邻像素的红色子像素11A(位于11D的右侧)、以及来自第二相邻像素和第三相邻像素的两个触控子像素11D(位于11D的上侧和下侧)包围。因此，在传统的触控显示基板中，第二区域没有被绿色子像素11B包围。这样，难以将与绿色子像素11B相关联的像素补偿电路布置在第二区域中。

与传统的触控显示基板相比，当前触控显示基板中的第二区域被红色子像素11A、蓝色子像素11C和两个绿色子像素11B包围。因此，可以方便地将与所有三种颜色的子像素相关联的像素补偿电路布置在相同的第二区域中。图4是示出一些实施例中的触控显示基板中的像素补偿电路的排列的示意图。参见图4，每个像素的每个第二区域包括三个部分11D1、11D2和11D3，每个部分包括像素补偿电路。例如，第二区域可包括11D2中的与来自第一相邻像素的红色子像素(位于触控子像素的右侧)连接的像素补偿电路、11D3中的与来自相同像素的蓝色子像素(位于触控子像素的左侧)连接的像素补偿电路、以及11D1中的与来自第二相邻像素的绿色子像素(位于触控子像素的上侧)连接的像素补偿电路。

第二区域可包括三个以上的像素补偿电路。图5是示出一些实施例中的触控显示基板中的像素补偿电路的排列的示意图。参见图5，每个像素的每个第二区域包括四个部分11D1、11D2、11D3和11D4，每个部分包括像素补偿电路。例如，第二区域可包括11D2中的与来自第一相邻像素的红色子像素(位于触控子像素的右侧)连接的像素补偿电路、11D3中的与来自相同像素的蓝色子像素(位于触控子像素的左侧)连接的像素补偿电路、11D1中的与来自第二相邻像素的绿色子像素(位于触控子像素的上侧)连接的像素补偿电路、以及11D4中的与来自第三相邻像素的绿色子像素(位于触控子像素的下侧)连接的像素补偿电路。

在一些实施例中，触控电极层按照分时驱动模式操作。例如，分时驱动模式可以包括显示模式和触控模式。触控电极层是用于在触控模式期间传导触控信号的触控电极。在显示模式下，第二区域中的第二电极块和触控电极层是用于在显示模式期间将电压信号施加至第二发光层以进行图像显示的电极。可选地，当触控电极层按照分时驱动模式操作时，第二区域可进一步包括用于触控子像素的像素补偿电路。例如，第二区域可包括11D2中的与来自第一相邻像素的红色子像素(位于触控子像素的右侧)连接的像素补偿电路、11D3中的与来自相同像素的蓝色子像素(位于触控子像素的左侧)连接的像素补偿电路、11D1中的与来自第二相邻像素的绿色子像素(位于触控子像素的上侧)连接的像素补偿电路、以及11D4中的用于触控子像素本身的像素补偿电路。

参见图1A和图1B，各实施例中的发光层为白色发光层(包括第一发光层6A和第二发光层6B)。如图1A和图1B所示，在第一区域2中，每个像素还包括多个彩膜30A、30B和30C。所述多个彩膜30A、30B和30C中的每一个对应于子像素。例如，彩膜30A可以为与红色子像素对应的红色彩膜，彩膜30B可以为与绿色子像素对应的绿色彩膜，彩膜30C可以为与蓝色子像素对应的蓝色彩膜。可选地，第一发光层6A为整体的发光层。

另一方面，本公开提供一种制造触控显示基板的方法。在一些实施例中，该方法包括形成多个像素的阵列。图6是示出一些实施例中的制造触控显示基板的方法的流程图。参见图6，实施例中形成每个像素的步骤包括：在基底上形成包括多个第一电极块和第二电极块的第一电极层；在基底上形成图案分隔层，在基底的平面图中，该图案分隔层将每个像素划分为第一区域和第二区域；在第一电极层的远离基底的一侧形成发光层，该发光层包括第一区域中的第一发光层和第二区域中的第二发光层，第一发光层和第二发光层被图案分隔层分隔开；以及在发光层的远离第一电极层的一侧的同一层中形成第二电极层和触控电极层，第二电极层位于第一区域中，触控电极层位于第二区域中，触控电极层与第二电极层通过图案分隔层分隔开且电绝缘。

可以使用各种合适的材料来制作图案分隔层。在一些实施例中，图案分隔层由光刻胶材料制成。图7A是示出一些实施例中的图案分隔层的结构的示意图。参见图7A，图案分隔层5形成在基底上，在具有图案分隔层5的基底上依次沉积发光材料和电极材料。在第一区域中形成第一发光层6A和第二电极层7A。在第二区域中形成第二发光层6B和触控电极层7B。如图7B所示，图案分隔层使第一区域中的第一发光层6A与第二区域中的第二发光层6B电绝缘；并且使第一区域中的第二电极层7A与第二区域中的触控电极层7B电绝缘。

在沉积过程中，发光材料和电极材料也可沉积在图案分隔层5上，在图案分隔层5上形成第三发光部12和电极层13。可选地，在形成第一发光层6A、第二电极层7A、第二发光层6B和触控电极层7B之后，可去除第三发光部12和电极层13(例如，通过蚀刻、灰化等)。图7B是示出一些实施例中的图案分隔层的结构的示意图。参见图7B，图案分隔层5形成在基底上，在具有图案分隔层5的基底上依次沉积发光材料和电极材料。去除图案分隔层5上的发光材料和电极材料。

因此，在一些实施例中，形成每个像素的步骤包括：在具有第一电极层的基底上沉积光刻胶层；利用掩膜板对光刻胶层进行曝光，该掩膜板具有与图案分隔层对应的图案；对曝光后的光刻胶层进行显影，从而形成图案分隔层。一旦形成图案分隔层，该步骤还可包括在第一电极层的远离具有图案分隔层的基底的一侧沉积有机发光材料层，从而形成第一区域中的第一发光层和第二区域中的第二发光层。可以在单个沉积步骤中形成第一区域中的第一发光层和第二区域中的第二发光层。可选地，可以在两个处理中分开形成第一区域中的第一发光层和第二区域中的第二发光层。一旦形成第一区域中的第一发光层和第二区域中的第二发光层，该步骤还可包括在有机发光材料层的远离第一电极层的一侧沉积电极材料层，从而形成第一区域中的第二电极层和第二区域中的触控电极层。可以在单个沉积步骤中形成第一区域中的第二电极层和第二区域中的触控电极层。可选地，可以在两个处理中分开形成第一区域中的第二电极层和第二区域中的触控电极层。

可选地，在单个沉积步骤中形成第一区域中的第一发光层和第二区域中的第二发光层，并且在单个沉积步骤中形成第一区域中的第二电极层和第二区域中的触控电极层。可选地，可去除沉积在图案分隔层的远离基底的一侧上的任何发光材料和电极材料。

在一些实施例中，形成第一电极层的步骤包括：在第一区域中形成多个第一电极块，每个所述第一电极块对应子像素；以及在第二区域中形成第二电极块。第一区域中的所述多个第一电极块和第二区域中的第二电极块可在单个处理中(例如，通过单个沉积处理)使用用于图案化的单个掩膜形成。可选地，第一区域中的所述多个第一电极块和第二区域中的第二电极块分开形成。

在一些实施例中，形成每个像素的步骤还包括将第二区域中的第二电极块与触控电极层电连接。可以实践各种合适的方法来将第二电极块与触控电极层电连接。例如，该步骤可包括形成延伸穿过第二发光层的过孔，从而将第二电极块与触控电极层电连接。

在一些实施例中，将第二区域中的第二电极块与触控电极层电连接的步骤包括：烧结包括第二区域中的第二电极块、第二发光层、和触控电极层在内的多层结构的一部分；以及在第二发光层中形成导电通道。导电通道包括烧结的导电材料，该烧结的导电材料具有发光材料、第二电极块的导电材料和触控电极层的导电材料。可选地，可通过激光来执行该烧结步骤。至少部分地烧结导电通道，使得导电通道是导电的，从而电连接第二电极块和触控电极层。

如本文中所述，触控显示基板可包括第二区域中的第二发光层与第二电极块之间或者第二发光层与触控电极层之间的额外的层。可选地，触控显示基板包括第二区域中的第二发光层与第二电极块之间的一个或多个有机层。可选地，触控显示基板包括第二发光层与触控电极层之间的一个或多个有机层。可选地，所述一个或多个有机层为诸如空穴传输层或电子传输层之类的载流子传输层。可选地，所述一个或多个有机层为诸如空穴注入层或电子注入层之类的载流子注入层。

因此，烧结步骤可以可选地包括：烧结包括第二区域中的第二电极块、第二发光层、触控电极层、第二发光层与第二区域中的第二电极块之间的(一个或多个)额外的层、以及第二发光层与触控电极层之间的(一个或多个)额外的层在内的多层结构的一部分。额外的层的示例包括诸如空穴传输层或电子传输层之类的载流子传输层以及诸如空穴注入层或电子注入层之类的载流子注入层。

在一些实施例中，形成每个像素的步骤还包括将第二区域中的多个触控引线与触控电极层电连接。可以实践各种合适的方法来将所述多个触控引线与触控电极层电连接。例如，该步骤可以包括形成延伸穿过第二发光层的过孔，从而将触控引线与触控电极层电连接。

在一些实施例中，将第二区域中的触控引线与触控电极层电连接的步骤包括：烧结包括第二区域中的触控引线、第二发光层和触控电极层在内的多层结构的一部分；以及在第二发光层中形成导电通道。导电通道包括烧结的导电材料，该烧结的导电材料具有发光材料、触控引线的导电材料和触控电极层的导电材料中的至少一个。可选地，可通过激光来执行该烧结步骤。至少部分地烧结导电通道，使得导电通道是导电的，从而电连接触控引线和触控电极层。

如本文中所述，触控显示基板可包括第二发光层与第二区域中的触控引线之间或者第二发光层与触控电极层之间的额外的层。可选地，触控显示基板包括第二发光层与第二区域中的触控引线之间的一个或多个有机层。可选地，触控显示基板包括第二发光层与触控电极层之间的一个或多个有机层。可选地，所述一个或多个有机层为诸如空穴传输层或电子传输层之类的载流子传输层。可选地，所述一个或多个有机层为诸如空穴注入层或电子注入层之类的载流子注入层。

因此，烧结步骤可以可选地包括：烧结包括第二区域中的触控引线、第二发光层、触控电极层、第二发光层与第二区域中的触控引线之间的(一个或多个)额外的层、以及第二发光层与触控电极层之间的(一个或多个)额外的层在内的多层结构的一部分。额外的层的示例包括诸如空穴传输层或电子传输层之类的载流子传输层以及诸如空穴注入层或电子注入层之类的载流子注入层。

在一些实施例中，形成每个像素的步骤还包括在第二区域中形成像素补偿电路。可选地，该步骤包括在第二区域中形成多个像素补偿电路。

在一些实施例中，第一区域包括第一颜色的子像素、第二颜色的子像素、第三颜色的子像素。形成每个像素的步骤包括在第二区域中形成多个像素补偿电路，每个像素补偿电路与来自相同像素的第一颜色的子像素、来自相邻像素的第二颜色的子像素和第三颜色的子像素中的一个连接。所述方法包括形成多个像素的阵列，使得每个第二区域被来自相同像素的第一颜色的子像素、来自相邻像素的第二颜色的子像素和分别来自其他两个相邻像素的两个第三颜色的子像素包围。

在一些实施例中，在单个第二区域中形成多个像素补偿电路的步骤包括：分别形成与来自相同像素的第一颜色的子像素连接的像素补偿电路、与来自第一相邻像素的第二颜色的子像素连接的像素补偿电路、以及与分别来自第二相邻像素和第三相邻像素的两个第三颜色的子像素连接的两个像素补偿电路。

在一些实施例中，在单个第二区域中形成多个像素补偿电路的步骤包括：形成与来自相同像素的第一颜色的子像素连接的像素补偿电路、与来自第一相邻像素的第二颜色的子像素连接的像素补偿电路、与来自第二相邻像素的第三颜色的子像素连接的像素补偿电路、以及与触控子像素本身连接的像素补偿电路。

另一方面，本公开提供一种触控显示装置，其具有本文所描述的触控显示基板或者通过本文所描述的方法制作的触控显示基板。在一些实施例中，触控显示基板为有机发光基板，触控显示装置为有机发光装置。触控显示装置的示例包括但不限于电子纸、手机、平板电脑、电视机、笔记本电脑、数码相册、GPS等。

以上所呈现的对本发明实施例的描述仅用于说明和描述目的。其并非旨在穷举或将本发明限制为所公开的精确形式或所公开的示例性实施例。因此，以上描述应视为说明性的而非限制性的。显然，许多修改和变形对于本领域技术人员而言是显而易见的。选择并描述这些实施例以便解释本发明的原理及其最佳模式的实际应用，从而使本领域技术人员能够理解本发明适用于特定用途或所考虑的实施方式的各种实施例和各种变形。本发明的范围旨在由所附权利要求及其等同形式限定，其中除非另有说明，所有术语意指其最宽泛的合理意义。因此，术语“发明”、“本发明”等不一定将要求保护的范围限定为具体的实施例，对本发明示例性实施例的参考并非意味着对本发明的限制，并且不能推断出这种限制。本发明仅由所附权利要求的精神和范围限定。此外，这些权利要求可能涉及跟随有名词或元件的“第一”、“第二”等术语的使用。这些术语应理解为命名法，而不应解释为对该命名法修饰的元件的数量进行限定，除非已经给出具体数量。所描述的任何优点和好处可能不适用于本发明的所有实施例。应当理解的是，在不脱离以下权利要求所限定的本发明的范围的情况下，本领域技术人员可对所描述的实施例做出变形。此外，本公开中没有元件和组件旨在贡献给公众，不管该元件或组件是否明确地记载在以下的权利要求中。