专利名称：：信息记录介质用玻璃基板的制造方法、信息记录介质用玻璃基板以及磁记录介质的制作方法
技术领域：
：本发明涉及一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法、信息记录介质用玻璃基板以及磁记录介质。
背景技术：
：以往，作为磁盘用基板，在台式电脑或服务器等固定型装置中一般使用铝合金基板，而在其它笔记本型电脑或可移动型电脑等便携型装置中一般使用玻璃基板，由于铝合金容易变形并且硬度不足，所以，磨削后的基板表面的平滑性不够。另外，在磁头机械地接触磁盘时，存在磁性膜容易从基板剥离的问题。因此，变形小、平滑性好、并且机械强度大的玻璃基板估计今后不但会广泛地使用于便携型装置，而且还会广泛使用于固定式的设备或其他家庭用信息设备。磁头与磁盘表面的距离越小，磁盘的记录容量越大。但是，在磁头与磁盘表面的距离减小的情况下，如果玻璃基板的表面有异常突起或者附着异物，则将产生磁头碰撞磁盘上的突起或异物的故障。因此，为了减小磁头与磁盘表面的距离，从而增大磁盘的记录容量，需要切实地消除玻璃基板的表面的异常突起或异物附着。因此，使用氧化铈等磨削剂磨削玻璃基板表面，确保玻璃基板的平滑性。但是，当使用磨削剂磨削玻璃基板时，存在磨削剂以坚固地附着的状态残留于玻璃基板表面的情况，即使在磨削后通过擦洗清洗将玻璃基板表面洗净，也难以完全除去坚固地附着的磨削剂。另外，在磨削剂附着的状态下，若在玻璃基板表面形成磁记录层，则将产生磁记录特性显著降低的问题，B卩，在膜上产生气泡，磁头的上浮特性不稳定。因此，例如在专利文献1中，提出在磨削工序后进行如下3种类型的清洗的方案，即，通过洗涤剂进行超声波清洗、擦洗清洗、通过纯水进行超声波清洗。另外，在专利文献2中，提出有通过擦洗清洗和二氧化碳水溶液清洗的组合来清洗玻璃基板的方案。专利文献1:日本特开2002-74653号公报专利文献2:日本特开2003-228824号公报但是，根据专利文献l，虽然能够想到可在一定程度上除去附着于玻璃基板的磨削剂等，但是，为了进行上述技术方案中的3种清洗，存在清洗工序复杂化并且生产性降低的可能。另外，专利文献2的技术方案也一样，需要导入气体溶解度的维持管理设备，存在清洗工序复杂化并且生产性降低的可能。
发明内容本发明就是鉴于上述问题而做出的，其目的在于提供一种能够不使清洗工序复杂化而可靠地除去附着于玻璃基板上的磨削剂或异物的信息记录介质用玻璃基板的制造方法以及使用该制造方法制造的信息记录介质用玻璃基板。另外，本发明的其它目的在于，提供一种能够减小磁头和磁记录介质表面的距离并能够增大记录容量的磁记录介质。上述课题通过以下结构解决。1.—种信息记录介质用玻璃基板的制造方法，具有使用擦洗部件和清洗液清洗玻璃基板的擦洗清洗工序，其特征在于，作为上述清洗液，使用添加了0.55.0质量％的过氧化氢的水，对上述玻璃基板进行擦洗清洗。2.如上述1记载的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，作为上述清洗液，使用添加了1.03.0质量％的过氧化氢的水，对上述玻璃基板进行擦洗清洗。3.如上述1或2记载的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述信息记录介质用玻璃基板的制造方法具有磨削上述玻璃基板的磨削工序，在该磨削工序后，对上述玻璃基板进行擦洗清洗。4.如上述1至3中的任意一项所记载的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述擦洗部件为在表面具有海绵的旋转辊，使该旋转辊与上述玻璃基板的表面接触而进行擦洗清洗，将上述清洗液滴到上述旋转辊与上述玻璃基板的接触部附近。5.如上述4记载的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述海绵的空孔率为2080%。6.如上述4或5记载的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述海绵的硬度为3070。7.如上述4至6中的任意一项所记载的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述海绵由亲水性树脂材料构成。8.—种信息记录介质用玻璃基板，其特征在于，通过上述1至7中的任意一项所记载的信息记录介质用玻璃基板的制造方法进行制造。9.—种磁性记录介质，其特征在于，在上述8中记载的信息记录介质用玻璃基板的表面具有磁性膜。在本发明的信息记录介质用玻璃基板的制造方法中，作为清洗液，使用添加了0.55.0质量％的过氧化氢的水，所以，擦洗部件的表面的亲水性提高，能够增大擦洗部件和玻璃基板的接触面积。由此，能够切实地通过擦洗清洗进行磨削剂或异物的除去。另外，在本发明的信息记录介质用玻璃基板的制造方法中，由于通过上述清洗方法对玻璃基板进行清洗，所以，在能够从玻璃基板表面除去磨削剂或异物的同时，能够实现清洗工序的简单化，提高生产性。另外，在本发明的磁记录介质中，由于在通过上述制造方法制造的玻璃基板上形成磁记录层，所以，能够减小磁头与磁记录介质表面的距离、增大记录容量。图1是表示信息记录介质用玻璃基板的整体结构的概略图。图2是表示在信息记录介质用玻璃基板的外主表面上具有磁性膜的磁记录介质的例子的概略图。图3是说明信息记录介质用玻璃基板的制造工序的制造工序图。图4是表示辊擦洗清洗装置的一个例子的概略图。图5是表示杯状擦洗清洗装置的一个例子的概略图。附图标记1信息记录介质用玻璃基板(玻璃基板)2磁性膜5孔7a外主表面7b背主表面iot外周端面20t内周端面10a、10b、50a、50b海绵辊20喷嘴30清洗液40支承辊D磁盘具体实施例方式基于图示的实施方式对本发明进行说明，但是，本发明并不局限于该实施方式。图1表示本发明的信息记录介质用玻璃基板(以下称做玻璃基板)1的整体结构。如图1所示，玻璃基板1是在中心形成有孔5的环状的圆板形状。10t表示外周端面，20t表示内周端面，7a表示外主表面，7b表示背主表面。另外，图2是表示在图1所示的玻璃基板1的外主表面7a上具有磁性膜2的磁记录介质(以下称为磁盘)D的一个例子的附图。磁性膜2也可以设置在背主表面7b上。图3表示本发明的信息记录介质用玻璃基板的制造方法的一个实施例的制造工序图。本发明的信息记录介质用玻璃基板的制造方法的一个显著特征在于，作为擦洗清洗的清洗液，使用添加了过氧化氢的水对玻璃基板进行清洗。由此，擦洗部件的表面的亲水性提高，擦洗部件与玻璃基板的接触面积增大，能够切实地从玻璃基板表面除去坚固地附着于玻璃基板表面的磨削剂或异物。本发明中使用的清洗液的过氧化氢的浓度必须在0.55.0质量％的范围内。更优选为1.03.0质量％。当使用的清洗液的过氧化氢的浓度未达到0.5质量％时，擦洗部件的表面的亲水性几乎不提高，擦洗部件与玻璃基板的接触面积不会充分地增大。因此，不能够进行高效的擦洗清洗，不能够切实地除去附着于玻璃基板表面的磨削剂等异物。另外，当使用的清洗液的过氧化氢的添加量超过5.0质量％时，擦洗部件劣化，寿命縮短。因此，擦洗部件的更换频率增加，生产性降低并且成本增加。使用图3的制造工序图，对信息记录介质用玻璃基板的制造工序进行详细说明。(玻璃熔融工序)首先，作为玻璃熔融工序，将玻璃原料熔融。作为玻璃基板的材料，例如可以使用以Si02、Na20、Ca0为主成分的钠f丐玻璃、以Si02、Al203、R20(R=K、Na、Li)为主成分的铝硅玻璃、高硼硅玻璃、Li20-Si02系玻璃、1^2041203-5102系玻璃、R'0_A1203-Si02系玻璃(R'=Mg、Ca、Sr、Ba)等。其中，由于抗冲击性和抗振动性优良，优选铝硅玻璃和高硼硅玻璃。(加压工序)接下来，作为加压成形工序，使熔融玻璃流入下模，通过上模进行加压成形而得到圆板状的玻璃基板前体。另外，圆板状的玻璃基板前体也可以不进行加压成形，而是通过利用磨具切削由例如下拉法(夕'々>K口一)或浮动法形成的薄片玻璃而制成。玻璃基板的大小不受限制。例如，有外径为2.5英寸、1.8英寸、1英寸、0.8英寸等各种大小的玻璃基板。另外，玻璃基板的厚度也不受限制，有2mm、lmm、0.63mm等各种厚度的玻璃基板。(去除中心部分加工工序)加压成形后的玻璃基板前体通过去除中心部分加工工序在中心部开？L。开孔通过以下方式在中心部开设孔，即，通过在刀具部具有金刚石磨具等的扩孔钻等进行磨削。(第1研磨工序)接下来，作为第1研磨工序，对玻璃基板的两表面进行磨削加工，预先调整玻璃基板的整体形状，即，玻璃基板的平行度、平面度以及厚度。(内*外径精密加工工序)接下来，作为内外径加工工序，通过利用例如鼓状的金刚石等的磨具进行磨削，对玻璃基板的外周端面和内周端面进行内外径加工。(端面磨削加工工序)堆积并层叠多个结束了内，外径加工工序的玻璃基板，在该状态下，使用端面磨削机进行外周面和内周面的磨削加工。(第2研磨工序)另外，对玻璃基板的两表面再次进行磨削加工，对玻璃基板的平行度、平面度以及厚度进行微调。通过第1和第2研磨工序对玻璃基板的外表面、背表面进行磨削的磨削机可以使用被称为双面磨削机的众所周知的磨削机。双面磨削机具有以相互平行的方式上下配置的圆盘状的上平板和下平板，并且相互向相反的方向旋转。在该上下平板的相对的各个面上，粘贴有用于磨削玻璃基板的主表面的多个金刚石颗粒。在上下平板之间具有多个托架，该多个托架与圆环状地设置在下平板的外周的内齿轮和设置在下平板的旋转轴的周围的太阳齿轮结合而旋转。该托架设置有多个孔，玻璃基板嵌入配置在该孔中。上下平板、内齿轮和太阳齿轮能够分别驱动而运动。磨削机的磨削动作为，上下平板向相互相反的方向旋转，经由金刚石颗粒而被平板夹住的托架在保持多个玻璃基板的状态下自转，同时，相对于平板的旋转中心，在与下平板相同的方向上公转。在进行这样的动作的磨削机中，通过将磨削液供给到上平板和玻璃基板以及下平板和玻璃基板之间，能够进行玻璃基板的磨削。在使用该双面磨削机时，对应于所期望的磨削状态，适当调整施加在玻璃基板上的平板的负荷以及平板的转速。第1和第2研磨工序的负荷优选从60g/cm2到120g/cm2。另外，平板的转速优选从10rpm到30rpm，并且优选上平板的转速比下平板的转速慢30%到40%左右。当增大平板所产生的负荷并加快平板的转速时，磨削量增加，但是，如果负荷过大，则表面粗糙度变差，并且，如果转速过快，则平面度变差。另外，如果负荷小并且平板的转速慢，则磨削量小，制造效率降低。在第2研磨工序结束的时刻，除去大的起伏、缺口、裂痕等缺陷，玻璃基板的主表面的粗糙度优选Rmax为2iim至4iim、Ra为0.2iim至0.4iim左右。通过形成为这样的表面状态，经过接下来的化学强化工序，能够在第1抛光工序中高效地进行磨削。另外，在第l研磨工序中，高效地粗略除去大的起伏、缺口、裂痕等缺陷，从而能够高效地进行第2研磨工序。因此，优选使用比在第2研磨工序中使用的粗度#1300号到#1700号更粗的#800号至#1200号左右的金刚石颗粒。优选第1研磨工序结束时刻的表面粗糙度Rmax为4iim至8iim，Ra为0.4iim至0.8iim左右。另外，可以使用如下方法作为磨削玻璃基板的方法，S卩，在上下平板的磨削面上粘帖衬垫，供给包含磨削剂的磨削液并磨削。作为磨削剂，例如有氧化铈、氧化锆、氧化铝、氧化锰、硅胶、金刚石等。通过水使上述物质分散化并形成糊膏状而使用。衬垫分为硬质衬垫和软质衬垫，可以根据需要适当选择。作为硬质衬垫，例如有以硬质棉绒、氨基甲酸乙酯发泡、含有沥青的绒面革等为材料的衬垫，作为软质衬垫，例如有以绒面革或棉绒等为材料的衬垫。使用衬垫和磨削剂的磨削方法通过改变磨削剂的粒度或衬垫的种类，能够对应从粗磨削到精密磨削。由此，在第1研磨工序和第2研磨工序中，适当地组合磨削材料、磨削材料的粒度以及衬垫进行对应，能够高效地除去大的起伏、缺口、裂痕等并得到上述表面粗糙度。另外，在第l和第2研磨工序后，优选进行清洗工序，该清洗工序用于除去残留于玻璃基板表面的磨削剂或玻璃粉末。另外，虽然在第1研磨工序和第2研磨工序中使用的磨削机为相同结构，但是，优选使用为各个工序准备的分开的磨削机进行磨削加工。其原因是，为了粘贴专用的金刚石颗粒而进行的更换成为长时间的工作，另外，需要进行重新设定磨削条件等繁杂的工作，制造效率降低。(化学强化工序)在第2研磨工序之后，作为化学强化工序，将玻璃基板浸入化学强化液中并在玻璃基板上形成化学强化层。通过形成化学强化层，能够提高耐冲击性、耐振动性以及耐热性等。7化学强化工序通过离子交换法进行，该离子交换法将玻璃基板浸入加热后的化学强化处理液中，将玻璃基板中含有的锂离子、钠离子等碱金属离子置换成比其离子半径大的钾离子等的碱金属离子。通过离子半径的不同所产生的变形，在进行离子交换的区域中产生压縮应力，玻璃基板的表面得到强化。化学强化处理液没有特别限制，可以使用公知的化学强化处理液。通常，含有钾离子的熔融盐或者含有钾离子和钠离子的熔融盐比较常用。作为含有钾离子和钠离子的熔融盐，例如有钾或钠的硝酸盐、碳酸盐、硫酸盐以及它们的混合熔融盐。其中，从融点低、能够防止玻璃基板的变形的观点出发，优选使用硝酸盐。化学强化处理液被加热到比上述成分融解的温度高的温度。另一方面，当化学强化处理液的加热温度过高时，玻璃基板的温度上升得过高，可能会导致玻璃基板的变形。因此，优选化学强化处理液的加热温度为比玻璃基板的玻璃转变点(Tg)低的温度，更优选为比玻璃转变点-S(TC低的温度。另外，为了防止浸入加热后的化学强化处理液中时的热冲击所导致的玻璃基板破裂或产生微细的裂纹，在浸入化学强化处理液之前可以具有预热工序，该预热工序在预热槽中将玻璃基板加热到规定温度。作为化学强化层的厚度，从兼顾提高玻璃基板的强度和縮短抛光工序的时间的角度出发，优选为5iim15iim左右的范围。在强化层的厚度在该范围内的情况下，能够得到平面度、作为机械强度的耐冲击性良好的玻璃基板。化学强化工序后的外主表面7a以及背主表面7b的外周端部的形状与化学强化工序前相比几乎不变，上述5iim15iim左右的化学强化层成为与玻璃基板的表面整体几乎一样的状态。(磨削工序)接下来，进行作为磨削工序的抛光工序。在抛光工序中，伴随着对玻璃基板的表面精密地进行精加工，将主表面的外周端部的形状磨削为规定的形状。抛光工序可以为1个工序，但是优选为2个工序。首先，在第1抛光工序中，进行提高表面粗糙度并且最终能够高效地得到本发明的形状的磨削，以便能够在第2抛光工序中高效地得到最终所需的表面粗糙度。磨削方法为，取代研磨工序中使用的金刚石颗粒和磨削液，使用衬垫和磨削液，除此之外，使用与第1和第2研磨工序中使用的磨削机相同构造的磨削机。衬垫优选使用硬度A从80到90左右的硬质衬垫，例如发泡氨基甲酸乙酯。当衬垫的硬度因为磨削产生的热而变软时，磨削面的形状变化变大，所以，优选使用硬质衬垫。磨削材料优选使用使粒径为0.6iim至2.5iim的氧化铈等分散在水中并形成糊膏状的材料。水和磨削剂的混合比率优选为大致l:9至3:7左右。平板对玻璃基板的负荷优选为从90g/cm2至110g/cm2。平板对玻璃基板的负荷对外周端部的形状影响很大。当负荷大时，表现出外周端部的内侧下降而向着外侧上升的倾向。另外，当负荷小时，表现出外周端部接近平面并且面下垂变大的倾向。可以在观察这样的倾向的同时决定负荷。另外，为了提高表面粗糙度，使平板的转速为25rpm到50rpm，优选上平板的转速比下平板的转速慢30%至40%。8根据上述磨削条件，优选磨削量为30iim至40iim。在未达到30ym的情况下，不能够充分地除去裂纹或缺陷。另外，在超过40m的情况下，虽然能够使表面粗糙度处于Rmax为2nm至60nm、Ra为2nm至4nm的范围内，但是，进行的磨削超出了需要，制造效率降低。第2抛光工序是对第l抛光工序后的玻璃基板的表面进行更精密地磨削的工序。第2抛光工序中使用的衬垫是比第l抛光工序中使用的衬垫软的、硬度从65到80(Asker-C)左右的软质衬垫，例如，优选发泡氨基甲酸乙酯或绒面革。作为磨削材料，可以使用与第1抛光工序相同的氧化铈等，但是，为了使玻璃基板的表面更光滑，优选使用粒径更细且散差小的磨削剂。优选使用使粒径的平均粒子直径为40nm至70nm的磨削剂分散在水中、形成糊膏状的磨削液，水和磨削剂的混合比率优选为1:9至3:7左右。平板对玻璃基板的负荷优选为从90g/cn^至110g/cm2。与第l抛光工序相同，平板对玻璃基板的负荷对外周端部的形状影响很大，但是，由于磨削速度慢，所以不能够如第1抛光工序那样高效地使形状变化。负荷的加减所引起的外周端部的形状的变化与第1抛光工序相同，当负荷大时，表现出外周端部的内侧下降而向着外侧上升的倾向。另外，当负荷小时，表现出外周端部接近平面并且面下垂变大的倾向。为了得到外周端部的形状，可以在观察这样的倾向的同时决定负荷。优选使平板的转速为15rpm至35rpm，并且使上平板的转速比下平板的转速慢30%至40%。如上述那样调整第2抛光工序的磨削条件、得到外周端部的形状，与之相伴，可以使表面粗糙度处于Rmax为2nm至60nm、Ra为0.2nm至0.4nm的范围内。磨削量优选为2iim至5iim。当磨削量在该范围内时，能够高效地除去表面上产生的微小的皲裂或起伏，以及之前的工序中产生的微小的伤痕等微小的缺陷。接下来，在作为磨削工序的抛光工序结束后进行擦洗清洗。所谓擦洗清洗是指，通过湿式的物理清洗方法，在将清洗液涂在被清洗面(基板面)上的同时压靠擦洗部件，使擦洗部件与被清洗面相对移动，从而将被清洗面的污物擦掉。作为擦洗清洗装置，可以使用擦洗部件为圆筒形的辊擦洗清洗装置或擦洗部件为杯形的杯状擦洗清洗装置。图4表示辊擦洗清洗装置的一个例子。图4的辊擦洗清洗装置，通过作为压接的一对旋转辊的海绵辊10a、10b的夹紧部夹入玻璃基板l，从配置于上部的喷嘴20将清洗液30滴下到海绵辊10a、10b和玻璃基板1的接触部附近，或者一边喷射喷雾，一边使上述一对海绵辊10a、10b相互向相反方向旋转，同时，一边通过支承辊40支承玻璃基板l，一边使其旋转，由此，对玻璃基板1的外表面、背表面整体进行清洗。作为擦洗清洗的清洗条件，2个海绵辊10a、10b的转速可以分别相同，也可以根据需要使转速分别不同。作为海绵辊的转速，一般在1001000rpm范围内，更优选在300500rpm范围内。另外，作为玻璃基板1的转速，一般在50500rpm范围内，更优选在100300rpm的范围内。清洗液30的供给速度一般在101000m1/分的范围内，更优选在50500ml/分的范围内。擦洗清洗的时间一般在5150秒的范围内，更优选在10IOO秒的范围内。另外，图5表示背状擦洗清洗装置的一个例子。图5的背状擦洗清洗装置，通过作为压接的一对旋转辊的海绵辊50a、50b的夹紧部夹入玻璃基板1，从配置于上部的喷嘴209将清洗液30滴下到海绵辊50a、50b和玻璃基板1的接触部附近，或者一边喷射喷雾，一边使上述一对海绵辊50a、50b相互向相同的方向旋转，同时，一边通过支承辊40支承玻璃基板l，一边使其旋转，由此，对玻璃基板1的外表面、背表面整体进行清洗。另外，作为擦洗部件，使用微粒子的捕捉性好、耐磨损性优良的海绵，但是，当然也可以使用纤维状的刷子或布状的衬垫等。作为海绵材料，没有特别限制，例如可以由纤维素海绵、聚乙烯醇海绵、氨基甲酸乙酯泡沫、醋酸乙烯酯共聚物(EVA)海绵、三聚氰胺泡沫、聚乙烯泡沫等树脂系海绵、天然橡胶(NR)海绵、氯丁二烯橡胶(CR)海绵、三元乙丙橡胶(EPDM)海绵、丁腈橡胶海绵等的橡胶系海绵等构成。其中，海绵部分优选由树脂系海绵构成，B卩，优选以树脂为主材料而构成。另外，上述树脂优选为聚氨基甲酸乙酯、三聚氰胺树脂、纤维素、聚乙烯醇等的亲水性树脂材料。由此，能够形成海绵部分的污垢等的保持能力以及清洗液的承载能力更优秀的材料，另外，与玻璃基板的接触面积也增大，去污能力进一步提高。此外，通过向海绵添加过氧化氢水，能够进一步提高海绵表面的亲水性，并且能够提高污垢的去除能力。另外，优选海绵的邻接的空孔之间连通。由此，通过构成海绵的多孔质体的空孔内部能够容纳更多的污垢或清洗液等，能够形成海绵的污垢等的保持能力以及清洗液的承载能力更优良的材料。海绵的空孔率优选为2080%，更优选为3070%。由此，能够使海绵的强度和弹性等特性达到所期望的程度，并且，能够得到海绵的污垢等的保持能力以及清洗液的承载能力更优良的材料。海绵的硬度优选为3070。，更优选为3555。。由此，能够使海绵的强度和弹性等特性达到所期望的程度，并且，能够得到海绵的污垢等的保持能力以及清洗液的承载能力更优良的材料。另外，在这里，硬度是以JISK7312为基准测定的。另外，为了有效地除去玻璃基板表面的磨削剂和异物等，优选在进行擦洗清洗前使玻璃基板与和上述清洗液相同的液体接触。接触的时间没有特别限制，但是，为了通过液体的某些腐蚀作用而使坚固地附着于玻璃基板表面的磨削剂或异物上浮，优选接触10分钟以上。另一方面，玻璃基板向液体的接触时间越长，磨削剂或异物越容易从玻璃基板表面除去，但是，由于玻璃基板的生产性降低，所以，优选接触时间在530分钟范围内。另外，从防止异物附着于玻璃基板表面的观点出发，优选在到即将进行擦洗清洗之前为止预先使玻璃基板和液体接触。作为使玻璃基板表面与液体接触的形态，可以采用将玻璃基板浸入储存有液体的容器内的形态、对玻璃基板喷洒液体的形态、将浸有液体的布覆盖于玻璃基板的形态等以往为公众所知的形态。其中，从玻璃基板表面整体能够切实且均匀地与液体接触这一点出发，优选将玻璃基板浸入液体中的形态。如上述那样进行本发明的擦洗清洗，能够除去附着于玻璃基板表面的磨削剂和异物。对于擦洗清洗后的玻璃基板，根据需要进行干燥处理(未图示)。干燥处理具体为，将玻璃基板浸入IPA(异丙醇)中，使清洗液成分溶入IPA中，在将基板表面的覆盖液体与IPA置换后，进一步暴露于IPA蒸汽中，同时，使IPA蒸发并且使玻璃基板干燥。而且，在此之后，根据需要进行检查。基板的干燥处理并不仅限定于此，当然也可以使用一般已知的方法，例如旋转干燥、吹拂器干燥等玻璃基板的干燥方法。(纹理加工工序)接下来，对玻璃基板实施纹理加工。该纹理加工利用带磨削方法在玻璃基板表面形成同心圆状的线条图案。通过纹理加工，赋予磁盘介质磁性各向异性，作为磁记录介质的磁特性提高，并且可防止硬盘驱动器不工作时的磁头和磁盘表面的吸附。作为纹理加工液，为了使磨料均匀地分散在液体中，并且为了防止加工液保管中的磨料的沉降，使用如下的料浆，即，在含有约125质量％的聚乙二醇、聚丙二醇等乙二醇系化合物的界面活性剂的水溶液中，使大约0.015质量％的磨料分散。作为磨料，使用单晶或多晶的金刚石粒子。该金刚石粒子的粒子形状规则周正，粒子大小和形状没有不均匀，为硬质，而且耐化学性以及耐热性优良，特别是，多晶金刚石粒子与单晶金刚石粒子相比，其粒子形状为没有角的圆形，因此，作为超精密磨削加工中使用的磨料而广泛使用。希望纹理加工后的玻璃基板的最表面的表面粗糙度Ra为0.3nm以下。这是因为，如果表面粗糙度Ra大于0.3nm，则在作为磁盘时，不能够使磁头与磁盘表面的距离减小，不能够增大磁盘的记录容量。接下来，对使用如上述那样制作的玻璃基板的磁记录介质进行说明。以下，根据附图对磁记录介质进行说明。图2是作为磁记录介质的一个例子的磁盘的立体图。该磁盘D在圆形的信息记录介质用玻璃基板1的表面上直接形成磁性膜2。作为磁性膜2的形成方法，可以使用以往公知的方法，例如，可以列举出将使磁性粒子分散的热硬化性树脂旋转涂敷于基板上而成形的方法、通过阴极真空喷镀或者无电解电镀而成形的方法。使用旋转涂敷法时的膜厚大约为0.3iim1.2iim左右，使用阴极真空喷镀法的膜厚为0.04ym0.08ym左右，使用无电解电镀法的膜厚为0.05iim0.1iim左右，从薄膜化和高密度化的观点出发，优选通过阴极真空喷镀法和无电解电镀法形成膜。用于磁性膜的磁性材料没有特别限定，可以使用以往公知的材料，但是，为了得到高保持力，优选为Co系合金等，该Co系合金以结晶各向异性高的Co为基础，为了调整残留磁通密度，加入了Ni或Cr。具体为，例如以Co为主要成分的CoPt、CoCr、CoNi、CoNiCr、CoCrTa、CoPtCr、CoNiPt或者CoNiCrPt、CoNiCrTa、CoCrPtTa、CoCrPtB、CoCrPtSiO等。磁性膜也可以由非磁性膜(例如Cr、CrMo、CrV等)分割并形成用于减小噪音的多层结构(例如CoPtCr/CrMo/CoPtCr、CoCrPtTa/CrMo/CoCrPtTa等)。除了上述磁性材料之外，也可以为以下结构的颗粒等，即，使Fe、Co、FeCo、CoNiPt等磁性粒子分散在由铁素体系、铁_稀土类系、Si(^、BN等构成的非磁性膜中的构造。另外，磁性膜可以为内面型和垂直型中的任意一种记录形式。另外，为了使磁头顺利滑动，也可以在磁性膜的表面较薄地涂敷润滑剂。作为润滑剂，例如有通过氟利昂系等的溶剂稀释作为液体润滑剂的全氟聚醚油(PFPE)的材料。另外，也可以根据需要设置基底层和保护层。磁盘的基底层根据磁性膜进行选择。作为基底层的材料，例如为从Cr、Mo、Ta、Ti、W、V、B、Al、Ni等的非磁性金属中选择的至少一种以上的材料。在以Co为主成分的磁性膜的情况下，从磁特性提高等的观点出发，优选为Cr单体或Cr合金。另外，基底层不仅限于单层，也可以为对相同或不同的层进行层叠的多层结构。例如，可以为Cr/Cr、Cr/CrMo、Cr/CrV、NiAl/Cr、NiAl/CrMo、NiAl/CrV等的多层基底层。作为防止磁性膜的磨耗或腐蚀的保护层，例如有Cr层、Cr合金层、碳层、氢化碳层、氧化锆层、二氧化硅层等。这些保护层能够与基底层、磁性膜等一起通过串联型溅射装置连续地形成。另外，这些保护层可以为单层，或者，也可以为由相同或者不同的层构成的多层结构。另外，在上述保护层上，或者替换上述保护层，形成其它的保护层也可以。例如，替换上述保护层，可以在Cr层上通过乙醇系的溶剂稀释四烷氧硅烷的过程中，使硅胶体微粒子分散而进行涂敷，进而烧成并形成二氧化硅(Si02)层。通过使用以如上方式获得的本发明的信息记录介质用玻璃基板为基体的磁记录介质，能够使高速旋转时的磁头的动作稳定。本发明的信息记录介质用玻璃基板并不仅限于磁记录介质，也可以用于光磁盘或光盘等。实施例(实施例15、比较例16)(1)熔融、加压工序作为玻璃材料，使用Tg为48(TC的高铝硅酸盐玻璃，将熔融玻璃加压成形，从而制作出毛坯件(外径68mm、厚1.3mm)。(2)去除中心部分工序接下来，使用圆筒状的金刚石磨具，在玻璃基板的中心部开出圆孔(直径18mm)。(3)第1研磨工序使用磨削机(HAMAI公司制)对玻璃基板的两表面进行磨削。作为磨削条件，金刚石颗粒使用#1200号，负荷为100g/cm2，上平板的转速为30rpm，下平板的转速为10rpm。得到的玻璃基板的厚度为0.9mm，表面粗糙度Rmax为1.5iim，Ra为1.0iim。[OH4](4)内外径精密加工工序通过鼓状的金刚石磨具进行内外径加工，内径为20mm，外径为65mm。(5)端面加工工序将IOO个结束了内外径加工工序而得到的玻璃基板重叠，使用端面磨削机对内周和外周的端面进行磨削。磨削机的刷毛使用直径为0.2mm的尼龙纤维。磨削液使用粒径为3ym的氧化铈。得到的玻璃基板的内周端面的表面粗糙度Rmax为0.3iim，Ra为0.03iim。(6)第2研磨工序使用磨削机(HAMAI公司制)对玻璃基板的两表面进行磨削。作为磨削条件，金刚石颗粒使用#1200号，负荷为100g/ci^，上平板的转速为30rpm，下平板的转速为10rpm。得到的玻璃基板的表面粗糙度为Rmax为3iim，Ra为0.3iim。(7)化学强化工序接下来，将玻璃基板浸入化学强化处理液并进行化学强化工序。使用硝酸钾(KN03)和硝酸钠(NaN03)的混合熔融盐作为化学强化处理液。混合比的质量比为1:1。另外，化学强化处理液的温度为40(TC，浸入时间为40分钟。12(8)磨削工序接下来，作为磨削工序的第1抛光工序，使用磨削机(HAMAI公司制)，使用硬度A为80度的发泡氨基甲酸乙酯作为衬垫。磨削材料使用使平均粒径为1.5m的氧化铈分散在水中而形成为糊膏状的材料。水和磨削剂的混合比例为2:8。负荷为100g/cn^，上平板的转速为30rpm，下平板的转速为10rpm。磨削量为30ym。得到的玻璃基板的表面粗糙度Rmax为30nm，Ra为3nm。接下来，作为第2抛光工序，使用磨削机(HAMAI公司制)，在衬垫中使用硬度A为70度的发泡氨基甲酸乙酯。磨削材料使用使平均粒径为60nm的氧化铈分散在水中而成为糊膏状的材料。水和磨削剂的混合比例为2:8。负荷为90g/cn^，上平板的转速为30rpm，下平板的转速为10rpm，磨削量为3iim。得到的玻璃基板的表面粗糙度Rmax为5nm，Ra为0.3nm。(9)擦洗清洗工序在第2抛光工序结束后，通过图4所示的清洗装置进行擦洗清洗。作为清洗液，使用过氧化氢浓度为表1所示的过氧化氢水，从而进行擦洗清洗。清洗液通过喷射喷雾进行供给，从擦洗清洗开始3秒之前起，到擦洗清洗结束时为止连续供给，每分钟供给100ml的量。作为擦洗部件的海绵，使用聚乙烯醇海绵。空隙率为50%，硬度为45°(JISK7312)。在上述那样的实施例15以及比较例16中，分别制作10000张玻璃基板，对初期的100张与从最后的第9900张到10000张为止的100张的污渍进行评价。制作的玻璃基板的污渍的检查使用扫描型激光盘表面检查装置进行，对玻璃基板表面的微小附着物进行评价。将比较例1的过氧化氢浓度为0%的情况作为l，对100张微小附着物的数量的合计进行相对评价。等级为，以附着物的数量为00.5的情况为，以超过0.5到0.7为止的情况为O，以超过0.7到0.8为止的情况为A，以超过0.8到1为止的情况为X。另外，当附着物的数量的相对值超过O.8时，磁头在磁盘上的读取错误的产生增多，所以，要求0.8以下的产品。评价结果在表l中示出。[表l]<table>tableseeoriginaldocumentpage13</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage14</column></row><table>在表1中，由初期的100张的结果可知，比较例13的清洗液的过氧化氢浓度较低、为00.4，擦洗部件的表面的亲水性几乎不提高，擦洗部件和玻璃基板的接触面积不足，所以，不能够有效地清洗。另外，在经过较长时间后的第9900张到第10000张为止的100张中，在比较例46中，清洗液的过氧化氢浓度较浓、为5.610.O，擦洗部件的表面经过长时间而劣化，不能够有效地清洗。这样，当实施例15的过氧化氢浓度在0.55.0质量％范围内时，在初期和经过长时间后都具有良好的清洗效果。权利要求一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法，具有使用擦洗部件和清洗液清洗玻璃基板的擦洗清洗工序，其特征在于，作为上述清洗液，使用添加了0.5～5.0质量％的过氧化氢的水，对上述玻璃基板进行擦洗清洗。2.如权利要求1记载的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，作为上述清洗液，使用添加了1.03.0质量％的过氧化氢的水，对上述玻璃基板进行擦洗清洗。3.如权利要求1或2记载的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述信息记录介质用玻璃基板的制造方法具有磨削上述玻璃基板的磨削工序，在该磨削工序后，对上述玻璃基板进行擦洗清洗。4.如权利要求1至3中的任意一项所记载的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述擦洗部件为在表面具有海绵的旋转辊，使该旋转辊与上述玻璃基板的表面接触而进行擦洗清洗，将上述清洗液滴到上述旋转辊与上述玻璃基板的接触部附近。5.如权利要求4记载的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述海绵的空孔率为2080%。6.如权利要求4或5记载的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述海绵的硬度为3070。7.如权利要求4至6中的任意一项所记载的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述海绵由亲水性树脂材料构成。8.—种信息记录介质用玻璃基板，其特征在于，通过权利要求1至7中的任意一项所记载的信息记录介质用玻璃基板的制造方法进行制造。9.一种磁性记录介质，其特征在于，在权利要求8中记载的信息记录介质用玻璃基板的表面具有磁性膜。全文摘要一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法，能够不使清洗工序复杂化地切实地除去附着于磨削工序后的玻璃基板上的磨削剂或异物。作为清洗液，使用添加了0.5～5.0质量％的过氧化氢的水，对上述玻璃基板进行擦洗清洗。文档编号G11B5/84GK101796582SQ20088010492公开日2010年8月4日申请日期2008年8月19日优先权日2007年9月4日发明者佐伯慎一,加藤孝司,石田太申请人:柯尼卡美能达精密光学株式会社