磁盘用玻璃基板、磁盘的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及磁盘用玻璃基板、磁盘。
【背景技术】
[0002] 当前，在个人计算机或者DVD (Digital Versatile Disc :数字多功能光盘）记录 装置等中，为了进行数据记录而内置有硬盘装置（HDD :Hard Disk Drive :硬盘驱动器）。特 别是在笔记本型个人计算机等以可移动性为前提的设备中使用的硬盘装置中，使用在玻璃 基板上设置有磁性层的磁盘，利用在磁盘的表面上稍微悬浮的磁头对磁性层记录或读取磁 记录信息。此时的磁盘的转速例如是5400rpm左右。作为该磁盘的基板，适合采用刚性比 金属基板（铝基板）等高且抗冲击性强的玻璃基板。此外，在例如2. 5英寸的尺寸的磁盘 的情况下，磁盘用玻璃基板的板厚一般是〇. 635mm或者0. 8mm。
[0003] 近年来，对于在网络服务器装置等固定型的服务器装置中使用的磁盘，以访问时 间或传送速度的进一步提尚为目标，要求磁盘的尚速旋转化。在使磁盘以比以往尚的速度 进行旋转时，即使增加以往的磁盘用铝基板的板厚，刚性也显得不足，从而产生抖动。这里， 抖动是指基板由于基板的旋转而产生振动（不停颤动）的现象。因此，在专利文献1中，为 了降低高速旋转时的抖动，公开了如下这样的磁盘用玻璃基板：使从投影到与主表面平行 的面上的投影像的内周到外周的间隔S的最大值Smax与最小值Smin之差Δ S小于2 μ m。
[0004] 现有技术文献
[0005] 专利文献
[0006] 专利文献1 :日本特开2008-226376号公报
【发明内容】
[0007] 发明所要解决的课题
[0008] 在以往的磁盘用玻璃基板中，规定了从主表面的内周到外周的间隔的最大值与最 小值之差。但是，已确认了存在由于玻璃基板的端面形状而导致产生高速旋转时的抖动的 情况。
[0009] 因此，本发明的目的是提供能够进一步降低高速旋转时的抖动的磁盘用玻璃基板 和磁盘。
[0010] 解决问题的手段
[0011] 本申请的发明人为了进一步降低高速旋转时的抖动而进行了伸入的研宄，结果发 现：通过减小玻璃基板的外周端面（包含与主表面垂直的侧壁面、和主表面与侧壁面之间 的倒角面）在圆周方向上的形状变化，能够进一步降低抖动。
[0012] 关于其理由，本申请发明人如下述这样进行了考察。S卩，可以认为：当玻璃基板的 周向上的外周端面的形状在短周期内的变化增大时，与该外周端面接触的空气的量大幅变 化，由此，与基板的旋转相伴随的外周端面周边的气流变得不稳定。另外，在近年来的磁盘 驱动装置中，存在设置有对安装在主轴上的磁盘的外周进行覆盖的壁（保护罩）的情况，通 过减小该壁与磁盘的外周端面之间的间隙，能够使该间隙中的气流稳定。但是，在间隙较小 的状态下，如果玻璃基板的周向上的外周端面的形状变化增大，则该壁与磁盘的外周端面 之间的间隙的变化比例变大，由此可以认为该间隙中的气流容易紊乱。因此，如果减小玻璃 基板的周向上的外周端面的形状变化，则能够使玻璃基板的外周端面周边的气流稳定，并 且能够将该壁与磁盘的外周端面之间的间隙保持为大致固定，所以可进一步降低抖动。
[0013] 因此，本发明的第1观点是一种磁盘用玻璃基板，其是在中心形成有圆孔且具有 一对主表面和外周端面及内周端面的环型的磁盘用玻璃基板，所述外周端面及所述内周端 面分别由侧壁面和在主表面与侧壁面之间形成的倒角面构成，该磁盘用玻璃基板的特征在 于，在外周端面上，以所述玻璃基板的中心为基准沿着周向每隔30度设置测量点，求出所 述侧壁面与所述倒角面之间的部分的形状在所述测量点处的曲率半径，此时，相邻的测量 点之间的所述曲率半径之差在0,01mm以下。
[0014] 在上述磁盘用玻璃基板中优选的是，相邻的测量点之间的所述曲率半径之差在 0. 005mm 以下。
[0015] 在上述磁盘用玻璃基板中优选的是，以所述玻璃基板的中心为基准沿着周向每隔 30度设置测量点，并求出所述主表面与所述倒角面之间的部分的形状在所述测量点处的曲 率半径作为第2曲率半径，此时，相邻的测量点之间的所述第2曲率半径之差在0. 004_以 下。
[0016] 在上述磁盘用玻璃基板中优选的是，所述玻璃基板的板厚是0. 635mm以下。
[0017] 本发明的第2观点是一种磁盘，其中，对于上述的磁盘用玻璃基板至少形成有磁 性层。
[0018] 发明效果
[0019] 根据本发明的磁盘用玻璃基板、磁盘，能够进一步降低高速旋转时的抖动。
【附图说明】
[0020] 图IA是实施方式的磁盘用玻璃基板的俯视图。
[0021] 图IB是示出沿图IA中的X-X箭头观察的放大截面的图。
[0022] 图IC是将图IB的一部分进一步放大并示出的图。
[0023] 图2是图IB的重要部位放大图。
[0024] 图3A是说明实施方式中的玻璃基板的研磨方法的图。
[0025] 图3B是说明实施方式中的玻璃基板的研磨方法的图。
[0026] 图3C是说明实施方式中的玻璃基板的研磨方法的图。
[0027] 图4是说明本实施方式中的玻璃基板的研磨方法的图。
【具体实施方式】
[0028] 以下，详细说明本实施方式的磁盘用玻璃基板以及磁盘。
[0029] [磁盘用玻璃基板]
[0030] 作为本实施方式中的磁盘用玻璃基板的材料，可以使用铝硅酸盐玻璃、碱石灰玻 璃、硼硅酸盐玻璃等。尤其是从可以实施化学强化并且可以制作主表面平坦度和基板强度 优异的磁盘用玻璃基板这些方面考虑，可以优选使用铝硅酸盐玻璃。若为无定形的铝硅酸 盐玻璃则进一步优选。
[0031] 对本实施方式的磁盘用玻璃基板的组成不作限定，但本实施方式的玻璃基板优选 为由如下组成构成的无定形的铝硅酸盐玻璃（以下，作为玻璃组成（1)):换算成氧化物基 准，以摩尔％表示，含有50%?75%的Si0 2;l%?15%的Al 203;合计为5%?35%的选自 Li20、Na2(^P K2O中的至少1种成分；合计为0%?20%的选自MgO、CaO、SrO、Ba(^PZnO* 的至少1种成分；以及合计为0%?10%的选自Zr0 2、Ti02、La203、Y20 3、Ta205、Nb2O5和HfO 2 中的至少1种成分。
[0032] 例如如日本特开2009-99239号公报所公开的那样，本实施方式的玻璃基板也 可以优选是由如下组成构成的无定形的铝硅酸盐玻璃：以质量％表示，含有57?75%的 SiO2;5?20%的Al 203(但是，SiOdP Al 203的总量在74%以上）；合计超过0%且在6%以 下的21〇2、!1?) 2、恥205、了3205、1^ 203、￥203以及1102;超过1%且在9%以下的1^20 ;5?18% 的Na2O(但是，质量比Li2CVNa2O在0· 5以下）；0?6%的K2O ;0?4%的MgO ;超过0%且 在5%以下的CaO(但是，MgO与CaO的总量在5%以下，而且CaO的含有量多于MgO的含有 量）；以及〇?3%的SrO+BaO。
[0033] 例如如日本专利4815002号所公开的那样，本实施方式的玻璃基板也可以是具有 如下特征的结晶化玻璃：以氧化物基准的质量％表示，含有45. 60?60%的Si02、7?20% Al2O3U. 00?不足8%的Β203、0· 50?7%的P205、1?15%的TiO2以及总量为5?35%的 R〇(其中，R是Zn以及Mg)的各成分，CaO的含有量是3. 00%以下，BaO的含有量是4%以 下，不含有PbO成分、As2O3成分、Sb 203成分以及Cl \N(T、S02\ F成分，作为主结晶相，含有 从RAl204、R2Ti0 4(其中，R是从Zn、Mg中选择的1种以上）中选出的一种以上，主结晶相的 结晶粒径是〇· 5nm?20nm的范围，结晶度是15%以下，比重是2. 95以下。
[0034] 对于本实施方式的磁盘用玻璃基板的组成，可以是：包含从Si02、Li20、Na 20、 以及由MgO、CaO、SrO及BaO构成的组中选出的一种以上的碱土类金属氧化物来作为 必须成分，CaO的含有量相对于MgO、CaO、SrO以及BaO的合计含有量的摩尔比（CaO/ (Mg0+Ca0+Sr0+Ba0))在0. 20以下，玻璃态转变温度在650°C以上。这样的组成的磁盘用玻 璃基板适用于在能量辅助磁记录用磁盘中使