基板处理装置的制作方法

专利名称：基板处理装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种传送基板并同时对其上表面供给流体来处理该基板的基板处理装置。
背景技术：
基板的制造步骤中例如有涂敷显影液或蚀刻液、光阻剥离液的步骤，在所述步骤中，例如在处理室内朝向规定的传送方向传送基板并同时对该基板的上表面供给显影液或 蚀刻液、光阻剥离液。而且，作为所述步骤中所使用的基板传送装置，先前已知有例如日本专利特开平 2-144312号公报中所公开的传送辊装置。该传送辊装置包括配置在基板下侧而支承该基 板的下辊；配置在基板上侧而按压该基板的上辊；使下辊及上辊朝向互不相同的方向旋转 的旋转驱动机构；支承下辊及上辊而使所述下辊及上辊旋转自如的架台。所述下辊及上辊分别具有相互平行的旋转轴，在下辊的旋转轴的一端固定设置有 通过驱动源旋转驱动的驱动齿轮，在另一端固定设置有第一传动齿轮。另一方面，在上辊的 旋转轴的一端固定设置有与下辊的第一传动齿轮啮合的第二传动齿轮。通过驱动源使驱动 齿轮旋转时，下辊旋转，并且利用各传动齿轮将旋转力传递给上辊而使该上辊旋转，由此将 基板朝向规定的传送方向传送。所述架台包括支承各辊的旋转轴的一端部的构件和支承各辊的旋转轴的另一端 部的构件，所述构件在与基板的传送方向垂直的方向上隔开间隔相对向。所述构件上分别 形成有上部被切口而形成的U字状的嵌入部，该嵌入部中分别嵌入有设置在下辊及上辊的 各旋转轴的两端的套筒。另外，在各套筒的靠近旋转轴的中央的端部分别形成有凸缘部，通 过将所述凸缘部与架台的各构件的相对面卡合，而相对于架台分别定位各辊。[专利文献1]日本专利特开平2-144312号公报另外，将所述显影液或蚀刻液、光阻剥离液等处理液加热至一定温度以有效进行 基板处理。因此，供给到基板上的处理液与下辊或上辊接触而将下辊或上辊加热，且由于该 处理液而使处理室内的环境温度上升，因该温度上升的环境而将下辊或上辊加热。另外，所述先前的传送辊装置中，因各套筒的凸缘部与架台的各构件的相对面卡 合，因而即使下辊或上辊受到加热而温度上升，各辊的旋转轴也无法伸长。因此，若下辊或 上辊的温度上升，则会产生所述下辊或上辊的旋转轴变形而弯曲，无法朝向规定方向笔直 地传送基板的问题，或因由于旋转轴的弯曲而作用于基板的力导致基板断裂的问题。另外，近年来处理对象的基板大型化，伴随于此，下辊或上辊的旋转轴变得非常 长。因此，当下辊或上辊的旋转轴进行热位移时该旋转轴的伸长量也较大，从而上述问题更 显著地出现。另外，下辊或上辊等通常由耐化学品性优异的氯乙烯树脂所构成，此时，因氯 乙烯树脂的线膨胀系数比金属材料等大，所以热膨胀时的伸长量变得极大。
发明内容
本发明鉴于以上实际情况，其目的在于提供一种能够防止在基板传送用辊的温度 上升时该辊的旋转轴变形的基板处理装置。用于实现上述目的的本发明是一种基板处理装置，其是传送基板并同时对该基板的上表面供给流体来处理该基板的装置，包括基板传送机构，其通过下述下辊及各上辊夹持所述基板而进行传送，包括多个下 辊，它们分别具有与所述基板的传送方向垂直的旋转轴，且沿着该传送方向并列设置在所 述基板的下方以支承该基板；第一上辊及第二上辊，它们具有与所述下辊的旋转轴平行的 旋转轴，且配置在至少一个所述下辊的上方，所述第一上辊按压所述基板的宽度方向的一 端部，所述第二上辊按压所述基板的宽度方向的另一端部；旋转驱动机构，其对至少一个所 述下辊的旋转轴进行驱动而使其旋转；辊保持机构，其保持所述各辊，而使所述各辊旋转自如；流体喷出机构，其配置在由所述基板传送机构传送的基板的上方，并朝向该基板 的上表面喷出流体；流体供给机构，其对所述流体喷出机构供给流体；支承机构，其支承所述流体喷出机构，该基板处理装置的特征在于，所述辊保持机构包括平板状的第一架台及第二架台，它们在所述基板的两外侧 隔开一定间隔相对向地在所述基板的传送方向上细长地形成，该第一架台保持所述下辊的 旋转轴的一端部，而使该一端部旋转自如，该第二架台保持所述下辊的旋转轴的另一端部， 而使该另一端部旋转自如且在轴线方向上能够位移；第一保持构件，其由所述第一架台支 承，并保持所述第一上辊的旋转轴而使该旋转轴旋转自如；第二保持构件，其由所述第二架 台支承，并保持所述第二上辊的旋转轴而使该旋转轴旋转自如；所述第一架台及第二架台构成为分别具有上部被切口而形成的U字状的第一嵌 入部，且该第一嵌入部中能够装卸地嵌入有所述第一保持构件及第二保持构件，在所述各第一嵌入部的两侧壁、及各保持构件的外表面的与所述第一嵌入部的两 侧壁相对应的部分上，以沿上下方向且能够相互嵌合的方式在其中一方形成有凹槽而在另 一方形成有突起，所述各保持构件构成为，使所述凹槽及突起相嵌合而嵌入到所述第一嵌入部，并 且在所述凹槽及突起相嵌合的状态下能够在上下方向上移动。根据该发明，下辊的至少一个由旋转驱动机构所驱动而进行旋转，处理对象的基 板由下辊及各上辊夹持并沿着规定传送方向传送。此时，通过从流体供给机构供给到流体 喷出机构并从该流体喷出机构喷出的流体，对所述传送的基板实施规定处理。而且，在将从流体喷出机构喷出的流体加热至规定温度时，若进行基板处理，则因 所喷出的流体而将下辊或上辊加热，但本发明中，由于通过第二架台将下辊的旋转轴的另 一端部支承为在其轴线方向上能够位移，因此即使下辊的旋转轴温度上升，也容许由该温 度上升所引起的旋转轴的伸长。另外，由按压基板的一端部的第一上辊及按压基板的另一 端部的第二上辊构成上辊，且分别利用由第一架台支承的第一保持构件保持第一上辊，利 用由第二架台支承的第二保持构件保持第二上辊，因此即使各上辊的旋转轴温度上升，也 不会限制由该温度上升所引起的旋转轴的伸长。
因此，本发明中，当各辊温度上升时所述辊的旋转轴能够伸长，因此能够防止旋转 轴变形而弯曲。由此，能够防止产生无法朝向规定方向笔直地传送基板、基板断裂等基板传 送上的问题。另外，在维护时等卸除各上辊时，仅从第一嵌入部卸除各保持构件即可，该作业容 易。另一方面，在安装各上辊时，仅以凹槽及突起相嵌合的方式将各保持构件嵌入到第一嵌 入部即可，该作业容易，且可通过凹槽及突起的嵌合而以高安装精度进行安装。另外，所述各上辊可分别包括一个辊主体；所述下辊构成为在其旋转轴的轴线方 向上具有多个辊主体，并且所述辊主体中，位在两端的辊主体与所述各上辊的辊主体上下 相对向；至少对所述第二上辊的辊主体及所述下辊的与第二上辊相对应的辊主体而言，其 中一个辊主体的外周面可形成为半圆形，另一个辊主体的外周面可形成为具有一定宽度的 平坦面。
通常，各辊的辊主体的外周面形成为半圆形。此时，若利用下辊及上辊夹持基板而 进行传送，则会产生如下问题。即，若由于各辊的升温而其旋转轴伸长，下辊的辊主体的位置 与各上辊的辊主体的位置在旋转轴的轴线方向上偏移，则剪切方向的力会作用于基板，因此 由所述剪切方向的力而导致产生基板破损的问题、或者基板被弯弯曲曲地传送的问题。另外，由于通过第二架台将下辊的旋转轴的另一端部支承为在轴线方向上能够位 移，因此第一上辊的辊主体与下辊的对应于第一上辊的辊主体的位置偏移并不大，而存在 也可不考虑该位置偏移的情况。因此，如上所述，至少对第二上辊的辊主体及下辊的与第二上辊相对应的辊主体 而言，若使其中一个辊主体的外周面成为半圆形，且使另一个辊主体的外周面成为一定宽 度的平坦面，则即使辊的旋转轴伸长，而第二上辊的辊主体的位置与下辊的对应于第二上 辊的辊主体的位置在旋转轴的轴线方向上偏移，也可通过外周面为平坦面的辊主体来承受 由外周面为半圆形的辊主体作用于基板的力。由此，可防止产生剪切方向的力作用于基板 而导致产生基板破损的问题、或者基板被弯弯曲曲地传送的问题。另外，在将所述下辊及各上辊的上下的辊间隔设定为小于所述基板的厚度的情况 下，可在所述突起的前端与凹槽之间、及所述突起的根部与凹槽的开口部之间分别形成有 间隙，并且可在所述各保持构件与第一嵌入部之间，在所述凹槽的下部侧或下方分别形成 有使所述间隙与所述第一嵌入部外的空间连通的连通部。在从流体喷出机构喷出处理液时，根据该形态的不同，喷出的处理液落到各保持 构件或各架台而进入到凹槽与突起之间，该进入的处理液未流出到外部而结晶，所产生的 结晶固着在凹槽的内表面或突起的外表面。另一方面，在基板通过下辊及各上辊之间时，各 保持构件及各上辊由凹槽及突起引导并朝向上方移动。继而，当处理液结晶而固着时，凹槽 与突起难以相对移动而各保持构件难以朝向上方移动，因此当基板通过下辊及各上辊之间 时，各保持构件的一方或双方未上升，力作用于基板，而成为基板断裂的原因或者缺欠的原 因。因此，如上所述，若在突起的前端与凹槽之间、及突起的根部与凹槽的开口部之间 形成有间隙，并且在保持构件与第一嵌入部之间，在凹槽的下部侧或下方形成有使所述间 隙与第一嵌入部外的空间连通的连通部，则可使流入到凹槽与突起之间的液体经由间隙及 连通部而有效地流出到第一嵌入部外。由此，可防止从流体喷出机构喷出的处理液结晶而固着在凹槽的内表面或突起的外表面。因此，在基板通过下辊及各上辊之间时可使各保持 构件可靠地上升，因而可防止产生基板断裂、基板缺欠等问题。另外，所述各保持构件可分别具有用于以预先设定的载荷按压所述基板的锤。当 对基板施加比利用第一保持构件及第一上辊整体的重量、或第二保持构件及第二上辊整体 的重量能够施加的载荷更高的载荷时，也可使用弹簧，该弹簧通常由金属所构成，因耐化学 品性较差而需要进行包覆。因此，若通过锤而调整施加于基板的载荷，则即使对锤进行包 覆，也比包覆弹簧容易，另外，若在各保持构件中形成锤收容用的收容孔而将锤收容在该收 容孔内，则可简单地设置锤。此时，若将收容孔的形成位置设为例如各保持构件的基板侧的 相反侧的侧面等难以受到从流体喷出机构喷出的流体的影响的位置，则也可不特别对锤进 行包覆而设置。另外，优选，所述第一保持构件的锤的重量为能够通过所述第一保持构件及第一 上辊整体的重量而以5N 35N的载荷来按压所述基板的一端部，所述第二保持构件的锤的 重量为能够通过所述第二保持构件及第二上辊整体的重量而以5N 35N的载荷来按压所 述基板的另一端部。当对按压基板所需的载荷进行设定时，必需考虑例如从流体喷出机构喷出的流体 的种类、当从流体喷出机构喷出的流体为药液时的该药液的种类(例如是否含有界面活性 剂等)、基板尺寸、基板的表面状态(例如表面粗糙度或湿润性等)、基于从流体喷出机构 喷出的流体碰触基板时的冲击力的反作用力(推回基板的力)等。其中，必需考虑流体的 种类的原因在于，若喷出的流体为气体、纯水或药液，则辊依照气体、纯水及药液的顺序变 得容易打滑而空转，另外，必需考虑反作用力的原因在于，例如在喷出气体进行去液时，当 将气体的喷出方向设定为相对于基板传送方向为反方向且斜下方向时，反作用力变得特别 大。继而，若根据所述观点使所述锤成为如上所述，则能够可靠地传送基板而不会产生任何 不良。另外，在按压基板的力小于5N时，上辊或下辊空转而对可靠的基板传送产生阻碍，在 按压基板的力大于35N时，产生基板断裂等不良。另外，也可以是，在所述下辊的旋转轴的一端部设置支承该一端部而使该一端部 旋转自如的第一轴承，并且在所述下辊的旋转轴的另一端部设置支承该另一端部而使该另 一端部旋转自如的第二轴承，在所述第一架台的第一嵌入部，在其下侧形成使所述第一轴 承能够装卸地嵌入的部分，并且在其上侧形成使所述第一保持构件能够装卸地嵌入的部 分，在所述第二架台的第一嵌入部，在其下侧形成使所述第二轴承以能够装卸且能够在轴 线方向上移动的方式嵌入的部分，并且在其上侧形成使所述第二保持构件能够装卸地嵌入 的部分，在所述第一嵌入部的至少嵌入有所述各保持构件的部分上，形成所述凹槽或突起， 在所述第一轴承或第一架台上设置对该第一轴承在轴线方向上的移动进行限制的限制构 件。由此，下辊也可相对于第一嵌入部进行装卸，因此在维护时等，与各保持构件及各 上辊同样地可容易装卸下辊。另外，可将暂时卸除的下辊高精度地安装在各架台上。另外，在所述各架台的第一嵌入部的嵌入 有所述各轴承的部分、与嵌入有所述各 保持构件的部分之间，可分别设置用以抵接于所述各保持构件的下端而对所述各上辊的高 度位置进行定位的间隔件。由此，当将各保持构件嵌入到第一嵌入部时，能够通过间隔件限制各保持构件朝向下方的移动，而将各保持构件设置在规定的高度位置，因此不仅能够更简单地进行各保 持构件的安装，也能够在各保持构件的再安装后，使下辊及各上辊的上下的辊间隔成为高 精度。另外，也可以是，所述流体喷出机构在与所述基板的传送方向交叉的方向上遍及 该基板的整个宽度而细长地形成，所述支承机构包括支承所述流体喷出机构的长度方向 的一端部的第一支承构件、和支承所述流体喷出机构的长度方向的另一端部的第二支承构 件，所述第一架台及第二架台构成为分别具有上部被切口而形成的U字状的第二嵌入部， 且该第二嵌入部中能够装卸地嵌入有所述第一支承构件及第二支承构件。流体喷出机构与基板之间的间隔根据处理内容而设定为最佳的间隔，若该间隔改 变，则基板处理的条件改变，而无法进行最佳的基板处理。因此，在维护时等对暂时卸除的 流体喷出机构进行设置时，必需以所述间隔成为最佳间隔的方式加以调整，该调整作业繁 琐。另外，流体喷出机构的在基板传送方向的位置也以从流体喷出机构喷出的流体大致碰 触利用下辊所支承的部分的方式进行设定，若改变该位置而使所述所喷出的流体碰触到未 由下辊所支承的部分，则在所述所喷出的流体碰触到基板时的冲击力的作用下，会产生根 据处理内容而导致处理不均的问题。因此，与所述间隔同样地，流体喷出机构的在基板传送 方向上的位置也必需在对流体喷出机构进行再设置时以配置在规定位置的方式进行调整， 该调整作业繁琐。因此，如上所述，若利用各支承构件支承流体喷出机构的长度方向的两端部，并将 各支承构件嵌入到第二嵌入部，则仅通过将各支承构件嵌入到第二嵌入部，就能够以流体 喷出机构与基板之间的间隔、及流体喷出机构的在基板传送方向上的位置成为规定间隔及 位置的方式配置流体喷出机构，而将流体喷出机构精度良好地安装在各架台上。而且，可简 单地装卸流体喷出机构。另外，在所述各架台的第二嵌入部的至少一个中，也可以以在所述流体喷出机构 的长度方向上能够位移的方式嵌入所述第一支承构件或第二支承构件。当将从流体供给机构供给到流体喷出机构的流体加热至规定温度时，由于供给的 流体，流体喷出机构受到加热而热膨胀。此时，若限制流体喷出机构的热膨胀，则该流体喷 出机构变形，流体喷出机构与基板之间的间隔变得不固定，且流体喷出机构的流体喷出口 的形状发生变化。继而，若流体喷出机构与基板的间的间隔变得不固定，则产生处理条件变 得不均勻的问题，若流体喷出口的形状发生变化，则产生从该流体喷出口喷出的流体的流 量变得不均勻而无法均勻地进行基板处理的问题。另外，伴随着基板的大型化，流体喷出机 构的长度方向的长度变长，因此当流体喷出机构温度上升时长度方向的伸长量较大，所述 问题更显著地出现。另外，在考虑到耐化学品性而由氯乙烯树脂构成流体喷出机构时，因氯 乙烯树脂的线膨胀系数较大，因而热膨胀时的伸长量极大。因此，如上所述，若将各支承构件的至少一个以在流体喷出机构的长度方向上能够位移的方式嵌入到第二嵌入部，则即使流体喷出机构温度上升，也可在其长度方向上伸 长，因此可防止流体喷出机构变形而该流体喷出机构与基板之间的间隔变得不固定、或该 流体喷出机构的流体喷出口的形状发生变化。由此，可防止产生如下问题流体喷出机构与 基板之间的间隔变得不固定而基板处理条件变得不均勻、或流体喷出口的形状发生变化而 从该流体喷出口喷出的流体的流量变得不均勻，从而无法实施均勻的基板处理等。
另外，所述第二嵌入部也可以与所述第一嵌入部同样地构成为嵌入有下辊及各保 持构件。另外，所述各架台的第一嵌入部与第二嵌入部也可以形成为同一形状。由此，无需 区别形成第一嵌入部与第二嵌入部，因而能够实现制造的容易化。另外，作为所述基板处理，例如可列举喷出气体而进行的去液处理、喷出气体而进 行的干燥处理、喷出显影液而进行的显影处理、喷出蚀刻液而进行的蚀刻处理、喷出光阻剥 离液而进行的光阻剥离处理、喷出清洁液而进行的清洁处理等，但并不限定于所述处理。另 夕卜，作为所述处理的对象的基板，例如可列举硅基板或玻璃基板等，但并不限定于所述基 板。[发明效果]如上所述，根据本发明的基板处理装置，能够防止在基板传送用辊的温度上升时 该辊的旋转轴变形，而防止产生基板传送上的问题。


图1是表示本发明的一实施方式的基板处理装置的简要构成的剖面图。图2是图1的箭头A-A方向的剖面图。图3是图1的箭头B-B方向的剖面图。图4是用以对本实施方式的下辊、第一上辊及第二上辊的保持构造进行说明的剖 面图。图5是图4的箭头C-C方向的剖面图。图6是图4的箭头D-D方向的剖面图。图7是图5的箭头E-E方向的剖面图。图8是图7的F部分的详细图。图9是表示各保持构件、间隔件、下辊及各支承构件嵌入到各架台的嵌入部前的 状态的说明图。图10是图3的箭头G-G方向的剖面图。图11是表示下辊在轴线方向上伸长的状态的剖面图。符号说明1 基板处理装置21 下辊22、23 上辊25 旋转驱动部33、34 架台35、36 嵌入部46、47:凹槽50、51 保持构件50d、51d:突起71 狭缝喷嘴体72 喷雾喷嘴体
81、82:支承构件
具体实施例方式以下，根据

本发明的具体实施方式
。如图1至图3所示，本例的基板处理装置1构成为，包括具有一定内容积的处理 室10 ；基板传送机构20，其通过水平配置在处理室10内的多个下辊21、第一上辊22及第 二上辊23而在水平的传送方向上传送基板K ；辊保持机构30，其配设在处理室10内并保持 各辊21、22、23，使各辊21、22、23旋转自如；处理液喷出机构70，其朝向由基板传送机构20 传送的基板K的上表面喷出处理液；处理液供给机构75，其对处理液喷出机构70供给处理 液；支承机构80，其设置在处理室10内并支承处理液喷出机构70 ；支承处理室10的框架 (未图示)。如图1至图4所示，所述基板传送机构20除包括所述下辊21、第一上辊22及第二 上辊23以外，还包括对所述辊21、22、23进行驱动而使它们旋转的旋转驱动部25，且下辊 21、第一上辊22及第二上辊23以规定间隔配设在基板传送方向上。另外，下辊21以比各 上辊22、23更短的间隔进行设置。另外，关在各上辊22、23的配置间隔，此处虽未详述，但 能够以与后述的对按压基板K所需的载荷进行设定时的想法相同的想法进行设定。
所述下辊21配置在基板K的下侧，包括设置在与基板传送方向垂直的水平方向 上的旋转轴21a ；以规定间隔设置在旋转轴21a的轴线方向上并支承基板K的多个辊主体 21b ；在多个辊主体21b中的位于两端的辊主体21b的外周部上分别设置的剖面为矩形的橡 胶制的环构件21c。所述第一上辊22及第二上辊23同轴地配置在基板K的上侧，且分别具备相同的 构成，包括与下辊21的旋转轴21a平行地配置在其上方的旋转轴22a、23a ；设置在旋转轴 22a、23a的一端并按压基板K的一个辊主体22b、23b ；设置在辊主体22b、23b的外周部上的 剖面为圆形的橡胶制的环构件22c、23c。所述各辊主体22b、23b配置在下辊21的所述位于两端的辊主体21b的正上方，通 过所述辊主体21b、22b、23b来夹持基板K。另外，各辊主体22b、23b及辊主体21b的上下的 辊间隔设定为小于基板K的厚度。另外，设置所述各环构件21c、22c、23c是为了提高夹持 力而可靠地传送基板K。所述旋转驱动部25包括第一传动齿轮26，其分别固定设置在下 辊21的两端；第 二传动齿轮27，其固定设置在各上辊22、23的另一端，并分别与第一传动齿轮26啮合；驱 动机构28，其具有与在下辊21的旋转轴21a的一端侧所固定设置的第一传动齿轮26啮合 的驱动齿轮28a，通过使该驱动齿轮28a旋转，经由各传动齿轮26、27而使各旋转轴21a、 22a、23a(下辊21及各上辊22,23)旋转。如图2至图9所示，所述辊保持机构30包括第一基座31及第二基座32，它们在 由所述基板传送机构20所传送的基板K的两外侧，配设在所述处理室10的底面；第一架台 33及第二架台34，它们配设在所述基座31、32上并分别支承所述下辊21的旋转轴21a的 端部；第一保持构件50，其由第一架台33支承，并保持所述第一上辊22的旋转轴22a的另 一端而使该另一端旋转自如；第二保持构件51，其由第二架台34支承，并保持所述第二上 辊23的旋转轴23a的另一端而使该另一端旋转自如。
所述各架台33、34由分别细长地形成在基板传送方向上的平板状的构件所构成， 将基板K夹持在中间而相对向。另外，在各架台33、34上，在长度方向上形成有多个上部被 切口而形成的U字状的嵌入部35、36，所述嵌入部35、36的下部侧为下辊21的旋转轴21a 的嵌入部分(下辊嵌入部)35a、36a，上部侧为各保持构件50、51的嵌入部分(上辊嵌入 部)35b、36b，下辊嵌入部35a、36a与上辊嵌入部35b、36b之间为间隔件37、38的嵌入部分 (间隔件嵌入部)35c、36c。另外，如下所述，所述上辊嵌入部35b、36b也作为支承狭缝喷嘴 体71的各支承构件81、82的嵌入部分而发挥作用。在所述下辊21的旋转轴21a的一端部上，设置有支承该一端部而使该一端部旋转 自如的第一轴承39，并且在另一端部上，设置有支承该另一端部而使该另一端部旋转自如 的第二轴承40，所述第一轴承39能够装卸地嵌入到所述第一架台33的下辊嵌入部35a，所 述第二轴承40以能够装卸且能够在轴线方向上移动的方式嵌入到所述第二架台34的下辊 嵌入部36a。嵌入到所述下辊嵌入部35a的第一轴承39通过以夹持该第一轴承39的方式 被拧入到第一架台33的两侧面的多个固定螺钉(限制构件)41来限制该第一轴承39在轴 线方向上的移动。所述各间隔件嵌入部35c、36c包括以在各架台33、34的两侧面形成开口的方式形 成在所述各嵌入部35、36的两侧壁上的贯通槽42、43，所述贯通槽42、43内水平地嵌入有 平板状的间隔件37、38。间隔件37、38上形成有从其长度方向的一端朝横向突出的突出部 37a、38a，该突出部37a、38a通过被拧入至各架台33、34的基板K侧的侧面的固定螺钉44、 45而固定在各架台33、34上。所述各上辊嵌入部35b、36b的两侧壁间的间隔形成为比下辊嵌入部35a、36a的两 侧壁间的间隔更宽，且在两侧壁以沿上下方向的方式形成有凹槽46、47。所述各保持构件50、51分别由长方体块状的构件所构成，并以长度方向为上下方 向的方式而设置。另外，各保持构件50、51包括轴承52、53，它们支承所述各上辊22、23的 旋转轴22a、23a的另一端而使该另一端旋转自如；保持孔50a、51a，它们从基板K侧的面贯 通到其相反侧的面，并在内部设置有轴承52、53 ；锤54、55，它们用于以规定载荷按压基板 K ；收容孔50b、51b，它们形成在上部并收容锤54、55 ；凸部50c、51c，它们在下部侧的侧面形 成在与所述各嵌入部35、36的两侧壁相对向的部分，并抵接于该两侧壁；突起50d、51d，它 们以沿上下方向的方式形成在凸部50c、51c上，并且可与所述凹槽46、47嵌合。另外，各保持构件50、51通过使凹槽46、47及突起50d、51d相嵌合，而能够装卸地 嵌入到所述各上辊嵌入部35b、36b，并且在凹槽46、47及突起50d、51d相嵌合的状态下能够 在上下方向上移动。嵌入到各上辊嵌入部35b、36b的各保持构件50、51的下表面抵接于间 隔件37、38的上表面，由此对该各保持构件50、51的高度位置进行定位，将各辊主体22b、 23b及辊主体21b的上下的辊间隔设定为规定间隔。所述突起50d、51d的突出量低于所述凹槽46、47的深度，且对该突起50d、51d的前端面的两角部进行倒角，由此突起50d、51d的前端部与凹槽46、47之间形成有间隙56、 57。另外，对凹槽46、47的开口角部进行倒角，由此在突起50d、51d的根部与凹槽46、47的 开口部之间形成有间隙58、59。在所述各保持构件50、51的下端附近的侧面未设置所述凸 部50c、51c，由此在该侧面与所述各嵌入部35、36的两侧壁之间，形成有使所述间隙56、57、 58,59与各嵌入部35、36的外部连通的间隙(连通部)60、61。
所述锤54的重量设定为能够通过第一保持构件50及第一上辊22的整体重量而 以5N 35N的载荷来按压基板K，所述锤55的重量设定为能够通过第二保持构件51及第 二上辊23的整体重量而以5N 35N的载荷来按压基板K。另外，优选也对所述下辊21的旋转轴21a的轴线方向的中间部进行保持，本例中，例如通过配设在所述处理室10的底面的多个中间部保持构件65而旋转自如地且在轴线方 向上能够位移地加以保持。另外，在所述各架台33、34的基板K侧的侧面的相反侧的侧面 设置有安装板67，该安装板67与设置在所述处理室10的侧壁上的支承构件68相连接。如图1、图3及图10所示，所述处理液喷出机构70包括配置在由各辊21、22、23所 传送的基板K的上方且下辊21的正上方的狭缝喷嘴体71、及多个喷雾喷嘴体72，狭缝喷嘴 体71配置在比喷雾喷嘴体72靠基板传送方向上游侧。所述狭缝喷嘴体71以遍及与基板传送方向垂直的方向的基板K的整个宽度的方 式，在与基板K的上表面平行且与基板传送方向垂直的方向上细长地形成。另外，狭缝喷嘴 体71包括中空部71a、和在下表面形成开口并与中空部71a连接的狭缝状的喷出孔71b，将 从所述处理液供给机构75供给到中空部71a内的处理液从喷出孔71b朝向下方的基板K 向正下方喷出。所述喷雾喷嘴体72配置在比所述狭缝喷嘴体71靠上方，且并列设置在基板传送 方向及与基板传送方向垂直的方向上，将从所述处理液供给机构75供给的处理液朝向下 方的基板K喷出。所述处理液供给机构75包括用于对所述狭缝喷嘴体71供给处理液的第一供给 管76 ；将第一供给管76与狭缝喷嘴体71的中空部71a连接的多个连接管77 ；用于对所述 各喷雾喷嘴体72供给处理液的多个第二供给管78 ；对所述供给管76、78供给处理液的处 理液供给部79。所述第一供给管76的一部分在所述处理室10内与基板传送方向垂直地设置在狭 缝喷嘴体71的上方。所述连接管77以一定间隔设置在第一供给管76的轴线方向上。所 述各第二供给管78的一部分在所述处理室10内与基板传送方向垂直地设置，且隔开一定 间隔地平行配置在基板传送方向上。另外，在所述第二供给管78的下部的轴线方向上以一 定间隔固定设置有所述喷雾喷嘴体72。如图3、图5、图6、图9及图10所示，所述支承机构80支承所述狭缝喷嘴体71，且 包括支承该狭缝喷嘴体71的长度方向的一端部的第一支承构件81、和支承长度方向的另 一端部的第二支承构件82。所述各支承构件81、82分别由矩形平板状的构件所构成，且以长度方向为上下方 向的方式进行设置。另外，各支承构件81、82分别经由安装构件83、84来支承狭缝喷嘴体 71的长度方向的端部，且所述各支承构件81、82能够装卸地嵌入到所述各上辊嵌入部35b、 36b。另外，各支承构件81、82在嵌入到各上辊嵌入部35b、36b的状态下，外表面抵接于所 述各嵌入部35、36的两侧壁，且能够在狭缝喷嘴体71的长度方向上移动。另外，在各支承构件81、82的与狭缝喷嘴体71的长度方向垂直的两侧面的上部形 成有朝横向伸出的伸出部81a、82a，在所述伸出部81a、82a中，分别从上侧拧入有下端突出 而抵接于各架台33、34的上表面的高度调整螺钉85、86。通过使各高度调整螺钉85、86的 下端抵接于各架台33、34的上表面，而对嵌入到各上辊嵌入部35b、36b内的各支承构件81、82的高度位置进行定位，由此将狭缝喷嘴体71与基板K之间的间隔设定为规定间隔。另外，优选也对所述狭缝喷嘴体71的长度方向的中间部进行支承，本例中，例如 通过上端与处理室10的顶面连接的多个第三支承构件87的下端部加以支承。另外，以该 第三支承构件87的中间部支承所述第一供给管76。根据以所述方式构成的本例的基板处理装置1，下辊21及各上辊22、23受到旋转 驱动部25的驱动而进行旋转，在处理室10内沿规定的传送方向传送基板K。此时，当基板 K通过下辊21及各上辊22、23之间时，各保持构件50、51及各上辊22、23受到凹槽46、47 及突起50d、51d的引导并朝向上方移动后，以各保持构件50、51及各上辊22、23的重量按 压基板K。此处，将可使各上辊22、23按压基板K的载荷分别成为5N 35N的锤54、55设置 在各保持构件50、51中，因此不会因按压力过小，上辊22、23或下辊21空转而对可靠的基 板传送产生阻碍，反之，也不会因按压力过大而产生基板K断裂等不良。因此，能够可靠地 传送基板K而不产生任何不良。
另外，在对按压基板K所需的载荷进行设定时，例如根据以下各项进行设定即可 从狭缝喷嘴体71及各喷雾喷嘴体72喷出的流体的种类；在从狭缝喷嘴体71及各喷雾喷嘴 体72喷出的流体为药液时的该药液的种类(例如是否含有界面活性剂等)；基板尺寸；基板K的表面状态(例如表面粗糙度 或湿润性等)；基于从狭缝喷嘴体71及各喷雾喷嘴体72喷出的流体碰触基板K时的冲击 力的反作用力(推回基板K的力)等。另外，必需考虑喷出的流体的原因在于，若喷出的流 体为气体、纯水或药液，则辊依照气体、纯水及药液的顺序逐步变得容易打滑而空转，另外， 必需考虑反作用力的原因在于，例如在喷出气体而进行去液时，当将气体的喷出方向设定 为相对于基板传送方向为反方向且斜下方向时，反作用力变得特别大。另外，为了对基板K施加比利用第一保持构件50及第一上辊22的整体重量、或第 二保持构件51及第二上辊23的整体重量能够施加的载荷更高的载荷，也可以使用弹簧，该 弹簧通常由金属所构成，因耐化学品性较差，因而必需进行包覆。因此，若利用锤54、55而 调整施加于基板K的载荷，则即使对锤54、55进行包覆，也比包覆弹簧容易，另外，若在各保 持构件50、51中形成锤收容用的收容孔50b、51b而将锤收容在该收容孔50b、51b内，则可 简单地设置锤54、55。此时，如本例所示，若将收容孔50b、51b的形成位置设为例如各保持 构件50、51的基板K侧的相反侧的侧面等难以受到从狭缝喷嘴体71及各喷雾喷嘴体72喷 出的处理液的影响的位置，则也可不特别对锤54、55进行包覆而设置。继而，在以所述方式所传送的基板K的上表面上，从处理液供给部79经由第一供 给管76及连接管77而供给到狭缝喷嘴体71的处理液，及从处理液供给部79经由第二供 给管78而供给到各喷雾喷嘴体72的处理液，会从所述狭缝喷嘴体71及各喷雾喷嘴体72 中喷出，由此对基板K实施规定的处理。从各喷雾喷嘴体72喷出的处理液落到各保持构件50、51或各架台33、34而进入 到凹槽46、47与突起50d、51d之间，本例中，在所述突起50d、51d的前端部与凹槽46、47之 间形成有间隙56、57，在突起50d、51d的根部与凹槽46、47的开口部之间形成有间隙58、 59，在各保持构件50、51的下端附近的侧面与各嵌入部35、36的两侧壁之间形成有使所述 间隙56、57、58、59与各嵌入部35、36的外部连通的间隙60、61，因此可使流入到凹槽46、47与突起50d、51d之间的处理液经由所述间隙56、57、58、59、60、61而有效地流出到嵌入部 35、36的外部，能够防止喷出的处理液结晶而固着在凹槽46、47的内表面或突起50d、51d的 外表面。由此，能够在基板K通过下辊21及各上辊22、23之间时使各保持构件50、51可靠 地上升，能够防止产生基板断裂、基板缺欠的问题。另外，支承下辊21的另一端部的第二轴承40以能够在轴线方向上移动的方式嵌 入到第二架台34的下辊嵌入部36a，因此即使由于从狭缝喷嘴体71及各喷雾喷嘴体72喷 出的处理液、或因该处理液而升温的处理室10内的环境，而将下辊21加热，温度上升，也容 许该温度上升所引起的旋转轴21a的伸长。另一方面，关于各上辊22、23，保持第一上辊22 的第一保持构件50由第一架台33支承，保持第二上辊23的第二保持构件51由第二架台 34支承，因此即使各上辊22、23温度上升，也不会限制该温度上升所引起的旋转轴22a、23a 的伸长。因此，在各辊21、22、23温度上升时，所述旋转轴21a、22a、23a能够伸长，因此能够 防止旋转轴21a、22a、23a变形而弯曲。由此，能够防止产生无法朝向规定的传送方向笔直 地传送基板K的问题，且能够防止基板K断裂。另外，如上所述，若下辊21的旋转轴21a伸长，则如图11所示，下辊21的辊主体 21b的位置与各上辊22、23的辊主体22b、23b的位置在旋转轴2la、22a、23a的轴线方向上 偏移。此时，若各辊21、22、23的辊主体21b、22b、23b的外周面形成为半圆形，则产生剪切 方向的力作用于基板K而导致产生基板K破损、环构件21c、22c、23c损伤、基板K被弯弯曲 曲地传送的问题。另外，图11中，符号α、β分别表示轴线方向的位置偏移量。因此，在下辊21的与各上辊22、23相对应的辊主体21b的外周部上，设置剖面为 矩形的环构件21c，且使辊主体21b的外周面成为一定宽度的平坦面。因此，即使产生所述 位置偏移，也能够通过所述环构件21c来承受由各上辊22、23的辊主体22b、23b作用于基 板K的力。由此，能够防止由剪切方向的力作用于基板K而导致产生基板K破损、或环构件 21c、22c、23c损伤、基板K被弯弯曲曲地传送的问题。另外，对狭缝喷嘴体71的长度方向的两端部进行支承的第一支承构件81及第二 支承构件82以能够在狭缝喷嘴体71的长度方向上移动的方式嵌入到下辊嵌入部35a、36a， 因此即使由于从处理液供给部79供给到狭缝喷嘴体71的处理液，该狭缝喷嘴体71受到加 热而热膨胀，狭缝喷嘴体71也能够在其长度方向上伸长。因此，能够防止因狭缝喷嘴体71的热膨胀受到限制而该狭缝喷嘴体71变形，狭缝喷嘴体71与基板K之间的间隔变得不固定；或狭缝喷嘴体71的喷出孔71b的形状发生变 化。由此，能够防止狭缝喷嘴体71与基板K之间的间隔变得不固定而基板处理条件变得不 均勻，或喷出孔71b的形状发生变化而从喷出孔71b喷出的处理液的流量变得不均勻，从而 无法实施均勻的基板处理。另外，在维护时等卸除各上辊22、23时，仅将各保持构件50、51从各上辊嵌入部 35b,36b卸除即可，该作业容易。另一方面，当安装各上辊22、23时，仅以使凹槽46、47及突 起50d、51d相嵌合的方式将各保持构件50、51嵌入到各上辊嵌入部35b、36b即可，该作业 容易，而且，能够通过凹槽46、47及突起50d、51d的嵌合而高精度地进行安装。另外，下辊 21也与各上辊22、23同样地能够装卸地嵌入到下辊嵌入部35a、36a，因此可获得与上述相 同的效果。
另外，当将各保持构件50、51嵌入到各上辊嵌入部35b、36b时，利用间隔件37、38，能够限制嵌入到各上辊嵌入部35b、36b的各保持构件50、51朝向下方的移动，能够将各保 持构件50、51定位在规定的高度位置。由此，不仅能够更简单地进行各保持构件50、51的 安装，也能够在各保持构件50、51的再安装后，使下辊21及各上辊22、23的上下的辊间隔 成为高精度。另外，狭缝喷嘴体71与基板K之间的间隔根据处理内容而设定为最佳间隔，若该 间隔改变，则基板处理的条件改变而无法进行最佳的基板处理，因此必需在对狭缝喷嘴体 71进行再设置时以所述间隔成为最佳间隔的方式加以调整，另外，狭缝喷嘴体71的在基板 传送方向上的位置也以从狭缝喷嘴体71喷出的处理液大致碰触由下辊21所支承的部分的 方式进行设定，若该位置改变而所述喷出的处理液碰触未通过下辊21所支承的部分，则由 于所述喷出的处理液碰触基板K时的冲击力，根据处理内容的不同而产生处理不均，因此 必需在对狭缝喷嘴体71进行再设置时以所述位置成为所述设定的位置的方式加以调整， 本例中，通过将支承狭缝喷嘴体71的两端部的各支承构件81、82嵌入到各上辊嵌入部35b、 36b，或将各支承构件81、82从各上辊嵌入部35b、36b卸除，能够对狭缝喷嘴体71进行装 卸，因此该装卸作业容易，且能够将狭缝喷嘴体71精度良好地安装在各架台33、34上。另外，由于各上辊嵌入部35b、36b中能够嵌入各保持构件50、51和各支承构件81、 82这两者，因此无需分别形成保持构件50、51用的嵌入部和支承构件81、82用的嵌入部，从 而能够实现制造的容易化。以上，说明了本发明的一实施方式，本发明可采用的具体形态并不限定于此。例如，从狭缝喷嘴体71喷出的处理液的喷出方向也可以不为正下方，且狭缝喷嘴 体71的长度方向也可以不与基板传送方向垂直。而且，所传送的基板K也可以不为水平。另外，所述基板处理并无任何限定，例如可列举喷出气体而进行的去液处理、喷出 气体而进行的干燥处理、喷出显影液而进行的显影处理、喷出蚀刻液而进行的蚀刻处理、喷 出光阻剥离液而进行的光阻剥离处理、喷出清洁液而进行的清洁处理等。而且，作为所述处 理的对象的基板K也无任何限定，例如可列举硅基板或玻璃基板等。
权利要求
一种基板处理装置，其传送基板并同时对该基板的上表面供给流体来处理该基板，包括基板传送机构，其包括多个下辊，它们分别具有与所述基板的传送方向垂直的旋转轴，且沿该传送方向并列设置在所述基板的下方以支承该基板；第一上辊及第二上辊，它们具有与所述下辊的旋转轴平行的旋转轴，且配置在至少一个所述下辊的上方，该第一上辊按压所述基板的宽度方向的一端部，该第二上辊按压所述基板的宽度方向的另一端部；旋转驱动机构，其对至少一个所述下辊的旋转轴进行驱动而使其旋转；该基板传送机构通过所述下辊及各上辊来夹持并传送所述基板；辊保持机构，其保持所述各辊，而使所述各辊旋转自如；流体喷出机构，其配置在由所述基板传送机构所传送的基板的上方，并朝向该基板的上表面喷出流体；流体供给机构，其对所述流体喷出机构供给流体；支承机构，其支承所述流体喷出机构，所述基板处理装置的特征在于，所述辊保持机构包括平板状的第一架台及第二架台，它们在所述基板的两外侧隔开一定间隔而相对向地在所述基板的传送方向上细长地形成，该第一架台保持所述下辊的旋转轴的一端部，而使该一端部旋转自如，该第二架台保持所述下辊的旋转轴的另一端部，而使该另一端部旋转自如且在轴线方向上能够位移；第一保持构件，其由所述第一架台支承，并保持所述第一上辊的旋转轴而使该旋转轴旋转自如；第二保持构件，其由所述第二架台支承，并保持所述第二上辊的旋转轴而使该旋转轴旋转自如，所述第一架台及第二架台构成为，分别具有上部被切口而形成的U字状的第一嵌入部，且该第一嵌入部中能够装卸地嵌入所述第一保持构件及第二保持构件，在所述各第一嵌入部的两侧壁、及各保持构件的外表面的与所述第一嵌入部的两侧壁相对应的部分上，以沿上下方向且能够相互嵌合的方式在其中一方形成有凹槽而在另一方形成有突起，所述各保持构件构成为，使所述凹槽及突起相嵌合而嵌入到所述第一嵌入部，并且在所述凹槽及突起相嵌合的状态下能够在上下方向上移动。
2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于， 所述各上辊分别具有一个辊主体，所述下辊构成为，在其旋转轴的轴线方向上具有多个辊主体，并且所述辊主体中，位于 两端的辊主体与所述各上辊的辊主体上下相对向，至少对所述第二上辊的辊主体及所述下辊的与第二上辊相对应的辊主体而言，其中一 个辊主体的外周面形成为半圆形，另一个辊主体的外周面形成为具有一定宽度的平坦面。
3.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，在将所述下辊及各上辊的上下的辊间隔设定为小于所述基板的厚度的情况下， 在所述突起的前端与凹槽之间、及所述突起的根部与凹槽的开口部之间，分别形成有 间隙，并且在所述各保持构件与第一嵌入部之间，在所述凹槽的下部侧或下方分别形成有 使所述间隙与所述第一嵌入部外的空间连通的连通部。
4.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述各保持构件分别具有用于以预先设定的载荷来按压所述基板的锤。
5.如权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，所述第一保持构件的锤的重量为能够通过所述第一保持构件及第一上辊整体的重量而以5N 35N的载荷来按压所述基板的一端部，所述第二保持构件的锤的重量为能够通过 所述第二保持构件及第二上辊整体的重量而以5N 35N的载荷来按压所述基板的另一端 部。
6.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，在所述下辊的旋转轴的一端部上，设置有支承该一端部而使该一端部旋转自如的第一 轴承，并且在所述下辊的旋转轴的另一端部上，设置有支承该另一端部而使该另一端部旋 转自如的第二轴承，在所述第一架台的第一嵌入部，在其下侧形成有使所述第一轴承能够装卸地嵌入的部 分，并且在其上侧形成有使所述第一保持构件能够装卸地嵌入的部分，在所述第二架台的第一嵌入部，在其下侧形成有使所述第二轴承以能够装卸且能够在 轴线方向上移动的方式嵌入的部分，并且在其上侧形成有使所述第二保持构件能够装卸地 嵌入的部分，在所述第一嵌入部的至少嵌入有所述各保持构件的部分上，形成有所述凹槽或突起，在所述第一轴承或第一架台上，设置有限制该第一轴承在轴线方向上移动的限制构件。
7.如权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，在所述各架台的第一嵌入部的嵌入有所述各轴承的部分、与嵌入有所述各保持构件的 部分之间，分别设置有用于抵接在所述各保持构件的下端而对所述各上辊的高度位置进行 定位的间隔件。
8.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述流体喷出机构在与所述基板的传送方向交叉的方向上遍及该基板的整个宽度而 细长地形成；所述支承机构包括支承所述流体喷出机构的长度方向的一端部的第一支承构件、及 支承所述流体喷出机构的长度方向的另一端部的第二支承构件；所述第一架台及第二架台构成为，分别具有上部被切口而形成的U字状的第二嵌入 部，且该第二嵌入部中能够装卸地嵌入有所述第一支承构件及第二支承构件。
9.如权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，在所述各架台的第二嵌入部的至少其中一个中，以在所述流体喷出机构的长度方向上 能够位移的方式嵌入有所述第一支承构件或第二支承构件。
10.如权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，在所述下辊的旋转轴的一端部上，设置有支承该一端部而使该一端部旋转自如的第一 轴承，并且在所述下辊的旋转轴的另一端部上，设置有支承该另一端部而使该另一端部旋 转自如的第二轴承，在所述第一架台的第二嵌入部，在其下侧形成有使所述第一轴承能够装卸地嵌入的部 分，并且在其上侧形成有使所述第一保持构件能够装卸地嵌入的部分，在所述第二架台的第二嵌入部，在其下侧形成有使所述第二轴承以能够装卸且能够在 轴线方向上移动的方式嵌入的部分，并且在其上侧形成有使所述第二保持构件能够装卸地嵌入的部分，在所述第一轴承或第一架台上，设置有限制该第一轴承在轴线方向上移动的限制构件。
11.如权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于， 所述各架台的第一嵌入部与第二嵌入部形成为同一形状。
全文摘要
本发明提供一种基板处理装置，能够防止在基板传送用辊的温度上升时该辊的旋转轴变形。该基板处理装置包括夹持基板而进行传送的下辊、第一上辊及第二上辊；保持各辊而使各辊旋转自如的辊保持机构；朝向所传送的基板的上表面喷出流体的流体喷出机构；对流体喷出机构供给流体的流体供给机构。辊保持机构包括在基板的两外侧隔开一定间隔相对向的第一架台及第二架台，该第一架台保持下辊的一端而使该一端旋转自如，该第二架台保持下辊的另一端，而使该另一端旋转自如且在轴线方向上能够位移；第一保持构件，其由第一架台支承，并保持第一上辊而使第一上辊旋转自如；第二保持构件，其由第二架台支承，并保持第二上辊而使第二上辊旋转自如。
文档编号H01L21/677GK101840156SQ201010143420
公开日2010年9月22日 申请日期2010年3月17日 优先权日2009年3月19日
发明者松元俊二, 菅长大辅 申请人:住友精密工业株式会社