显示基板的制作方法

显示基板的制作方法
【专利摘要】公开了显示基板。在一个方面，该显示基板包括：基体基板，具有第一折射率并且接收外部光；绝缘层，形成在基体基板下方并且具有不同于第一折射率的第二折射率。显示基板还包括：像素电极，形成在第一绝缘层下方；第一补偿层，与绝缘层形成界面并且具有大于第一折射率并且小于第二折射率的第三折射率。第一补偿层形成在第一绝缘层和基体基板之间。
【专利说明】显不基板
[0001] 本专利申请要求于2013年9月24日提交的第10-2013-0113422号韩国专利申请 的优先权，该申请的内容通过引用全部包含于此。

【技术领域】
[0002] 所描述的技术总体上涉及显示基板和具有显示基板的显示面板。

【背景技术】
[0003] 平板显示器已经基本取代了阴极射线管显示器，因为平板显示器相对薄并且功耗 更小。已经开发出众多品种的平板显示器，诸如，有机发光二极管（0LED)显示器、液晶显示 器（LCD)、等离子体显示器等。
[0004] 标准的平板显示器包括像素和向像素施加信号的信号线。各像素包括连接到对应 信号线的薄膜晶体管。各像素响应于通过对应信号线提供的数据电压或电流来驱动，W在 平板显示器上显示期望的图像。


【发明内容】

[0005] -个发明方面是具有改进的显示质量的显示基板和包括该显示基板的显示面板。
[0006] 另一个方面是能够防止由绝缘层造成的颜色失真现象的显示基板。
[0007] 另一个方面是具有该显示基板的显示面板。
[0008] 另一个方面是一种显示基板，所述显示基板包括：基体基板，接收入射到基体基板 上部的外部光并且具有第一折射率；第一绝缘层，设置在基体基板下方并且具有不同于第 一折射率的第二折射率；像素电极，设置在第一绝缘层下方；第一补偿层，设置在第一绝缘 层和基体基板之间W与第一绝缘层形成界面并且具有大于第一折射率并且小于第二折射 率的第H折射率。外部光的一部分被界面反射，并且被界面反射的光具有通过改变第一绝 缘层的固有反射光谱而得到的反射光谱。
[0009] 显示基板还包括设置在基体基板和第一绝缘层之间的多条信号线，并且第一补偿 层设置在基体基板和信号线之间。
[0010] 显示基板还包括设置在第一绝缘层和像素电极之间的第二补偿层，并且第二补偿 层具有介于与第二补偿层相邻设置的层的折射率之间的折射率。
[0011] 显示基板还包括第二绝缘层，第二绝缘层设置在第一绝缘层和像素电极之间W与 第二补偿层形成界面，并且第二补偿层的折射率大于第二绝缘层的折射率并且小于像素电 极的折射率。
[0012] 第一绝缘层包括氮化娃，并且第一补偿层包括氮氧化娃。
[0013] 第一补偿层的厚度是大约800埃至大约1500埃，并且像素电极的厚度是大约1100 埃至大约1300埃。
[0014] 显示基板还包括公共电极，公共电极被设置在像素电极下方并且被施W与施加到 像素电极的电压不同的电压。
[0015] 另一个方面是一种显示基板，所述显示基板包括：基体基板，接收入射到基体基板 的上部的外部光；绝缘层，设置在基体基板下方并且具有第一折射率；像素电极，设置在绝 缘层下方并且具有第二折射率；第一补偿层，设置在绝缘层和像素电极之间W与绝缘层形 成界面并且具有大于第一折射率并且小于第二折射率的第H折射率。外部光的一部分被界 面反射并且被界面反射的光具有通过改变绝缘层的固有反射光谱而得到的反射光谱。
[0016] 显示基板还包括有机层，有机层设置在像素电极和第一补偿层之间，W与第一补 偿层形成界面并且具有第四折射率，并且第H折射率小于第四折射率。有机层是具有至少 一种颜色的滤色器层。
[0017] 另一个方面是一种显示面板，显示面板包括；第一显示基板，接收外部光并且输出 被反射的光；第二显示基板，设置在第一显示基板下方。
[0018] 第一显示基板包括；第一基体基板，接收入射到第一基体基板上部的外部光并且 具有第一折射率；第一绝缘层，设置在第一基体基板下方并且具有不同于第一折射率的第 二折射率；第一电极，设置在第一绝缘层下方；第一补偿层，与第一绝缘层形成界面并且具 有大于第一折射率并且小于第二折射率的第H折射率。
[0019] 外部光的一部分被所述界面反射，并且被界面反射的光具有通过改变第一绝缘层 的固有反射光谱而得到的反射光谱。第一电极的厚度是大约1100埃至大约1300埃。第一 补偿层设置在第一绝缘层和第一电极之间。
[0020] 显示面板还包括设置在第一绝缘层和第一电极之间的第二绝缘层。
[0021] 显示面板还包括设置在第二绝缘层和第一电极之间W与第二绝缘层形成界面的 第二补偿层，并且第二补偿层具有介于第二绝缘层的折射率和第一电极的折射率之间的折 射率。
[0022] 显示面板还包括设置在第二补偿层和第一电极之间W与第二补偿层形成界面的 有机层，并且第二补偿层的折射率介于第二绝缘层的折射率和有机层的折射率之间。有机 层被用作滤色器层。
[0023] 第二显示基板包括；第二基体基板，设置在第一基体基板下方；第二电极，设置在 第二基体基板上，W面对第一电极。显示基板还包括设置在第一显示基板和第二基板之间 的液晶层。
[0024] 根据至少一个实施例，在对应于透射区的区域中，包括氮氧化娃的补偿层设置在 绝缘层的上方或下方，因此，在可见光的波长范围内，绝缘层的反射光谱可W是基本上均匀 的。因此，显示面板可W基本上防止特定颜色被突出或减弱，因此显示面板的显示质量可W 提局。

【专利附图】

【附图说明】
[0025] 图1是示出根据示例性实施例的显示装置的框图。
[0026] 图2是示出图1中示出的显示面板的一部分的透视图。
[0027] 图3是示出根据示例性实施例的显示面板的一部分的平面图。
[0028] 图4是示出图3的显示面板的剖视图。
[0029] 图5A是示出其中不包括补偿层的显示基板的剖视图。
[0030] 图5B是示出根据示例性实施例的显示基板的剖视图。
[0031] 图6是示出根据示例性实施例的随着补偿层变化的反射光谱的曲线图。
[0032] 图7A是示出根据另一个示例性实施例的显示面板的总反射光谱的曲线图。
[0033] 图7B是示出根据又一个示例性实施例的显示面板的总反射光谱的曲线图。
[0034] 图8A是示出根据示例性实施例的显示基板的一部分的剖视图。
[00巧]图8B是示出根据示例性实施例的显示面板的反射光谱的曲线图。
[0036] 图9A和图9B是示出根据示例性实施例的显示基板的一部分的剖视图。

【具体实施方式】
[0037] 应该理解，当元件或层被称为"在"另一元件或层"上"、"连接至IJ"或"结合至IJ"另一 元件或层时，它可W直接在其它元件或层上、直接连接到或结合到其它元件或层，或者可能 存在中间元件或中间层。相反，当元件被称为"直接在"另一元件或层"上"、"直接连接到" 或"直接结合到"另一元件或层时，不存在中间元件或中间层。类似的标号始终表示类似的 元件。如该里使用的，术语"和/或"包括一个或多个相关所列项的任意组合和全部组合。
[0038] 应该理解，尽管在该里可W使用术语第一、第二等来描述不同的元件、组件、区域、 层和/或部分，但该些元件、组件、区域、层和/或部分应该不受该些术语的限制。该些术语 只是用来将一个元件、组件、区域、层或部分与另一个区域、层或部分区分开。因此，在不脱 离所描述技术的教导的情况下，下面讨论的第一元件、组件、区域、层或部分可W被命名为 第二元件、组件、区域、层或部分。
[0039] 为了便于描述，在该里可W使用空间相对术语（诸如，"下面"、"下方"、"下"、"上 方"、"上"等）描述如图中所示的一个元件或特征与其它元件或特征的关系。应该理解，空 间相对术语意在包含除了在附图中描绘的方位之外的装置在使用或操作时的不同方位。例 女口，如果在附图中装置被翻转，则被描述为在其它元件或特征"下方"或"下面"的元件随后 将被定位在其它元件或特征"上方"。因此，示例性术语"下方"可W包括上方和下方该两种 方位。所述装置可W被另外定位（旋转90度或者在其它方位），相应地解释该里使用的空 间相对描述符。
[0040] 该里使用的术语只是为了描述特定实施例的目的，而不意图限制所描述的技术。 如该里使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式。还应该理 解，当在本说明书中使用术语"包含"和/或"包括"时，说明存在所述特征、整体、步骤、操 作、元件和/或组件，但不排除存在或附加一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组 件和/或它们的组。
[0041] 除非另有定义，否则该里使用的所有术语（包括技术术语和科技术语）具有与所 描述技术所属领域的普通技术人员通常理解的意思相同的意思。应该进一步理解，除非该 里明确定义，否则术语（诸如，在通用字典中定义的术语）应该被解释为具有与相关领域的 背景下它们的意思相同的意思，而将不W理想的或者过于正式的意思来解释它们。
[0042] 下文中，将参照附图详细说明所描述的技术。
[004引图1是示出根据示例性实施例的显示装置的框图，图2是示出图1中示出的显示 面板的一部分的透视图。
[0044] 参照图1，显示装置包括显示面板DP、信号控制器100、栅极驱动器200和数据驱动 器300。显示面板DP可W是液晶显示（LCD)面板、有机发光二极管（0LED)显示面板、电泳 显示面板或电润湿显示面板。
[0045] 显示面板DP包括多条信号线和连接到信号线的多个像素PXu至PX""。信号线被 配置成包括多条栅极线GL1至GLn和多条数据线DL1至DLm。栅极线GL1至GLn在第一方 向DR1上延伸并且沿第二方向DR2布置。数据线DL1至DLm与栅极线GL1至GLn绝缘并且 与栅极线GL1至GLn交叉。尽管图中未示出，但信号线还可W包括对应于栅极线GL1至GLn 的多条公共线。
[0046] 像素PXu至布置成矩阵。像素PXu至中的每个连接到对应的栅极线和 对应的数据线。
[0047] 在本示例性实施例中，包括液晶显示器（LCD)面板的LCD将被描述为显示装置。在 该种情况下，显示装置还可W包括背光单元。LCD面板DP可W在垂直取向（VA)模式、图案 化垂直取向（PVA)模式、面内切换（IP巧模式、边缘场切换（FF巧模式或面线切换任L巧模 式下操作。
[0048] 信号控制器100接收输入的图像信号RGB并且将输入的图像信号RGB转换成适于 LCD面板DP操作的图像数据R' G' B'。另外，信号控制器100接收各种控制信号CS(诸 女口，垂直同步信号、水平同步信号、主时钟信号、数据使能信号等）并且输出第一控制信号 C0NT1和第二控制信号C0NT2。
[0049] 栅极驱动器200响应于第一控制信号C0NT1向栅极线GL1至GLn施加栅极信号。 第一控制信号C0NT1包括指示栅极驱动器200的操作开始的垂直起始信号、用于确定栅极 电压的输出时序的栅极时钟信号W及用于确定栅极电压的导通脉冲宽度的输出使能信号。
[0050] 数据驱动器300接收第二控制信号C0NT2和图像数据R' G' B'。数据驱动器 300将图像数据R' G' B'转换成数据电压并且将数据电压施加到数据线DL1至DLm。
[0051] 第二控制信号C0NT2包括指示数据驱动器300的操作开始的水平起始信号、用于 转换数据电压极性的反转信号W及用于确定来自数据驱动器300的数据电压的输出时序 的输出指示信号。
[0052] 如图2中所示，LCD面板DP包括第一显示基板DS1和第二显示基板DS2。第一显 示基板DS1和第二显示基板DS2在LCD面板DP的厚度方向DR3(下文中，称为第H方向） 上彼此分隔开。第一显示基板DS1和第二显示基板DS2通过设置在第一显示基板DS1和第 二显示基板DS2的边缘部分中的密封剂（未示出）彼此连接。
[0053] 液晶层（未示出）设置在第一显示基板DS1和第二显示基板DS2之间。外部光入 射到第一显示基板DS1的上部（或表面）。外部光被第一显示基板DS1和第二显示基板DS2 反射。由于第一显示基板DS1和第二显示基板DS2的性质，导致特定波长的光W更大强度 被反射。
[0054] 显示面板DP包括多个透射区TA和与透射区TA相邻设置的阻光区SA。透射区TA 透射背光单元产生的光，阻光区SA阻挡背光单元产生的光。
[00巧]栅极线化1至化n和数据线DL1至DLm设置在第一显示基板DS1上。栅极线化1 至化n和数据线DL1至DLm被设置成与阻光区SA叠置。像素PX。至？《"^皮设置成分别对 应于透射区TA。
[0056] 图3是示出根据示例性实施例的显示面板的一部分的平面图，图4是示出图3的 显示面板的剖视图。图3示出对应于一个像素PX。的区域，图4示出沿着图3的I-I'线 截取的剖视图。
[0057] 参照图3和图4,第一显示基板DS1包括第一基体基板SUB1、两条栅极线化i-1和 化i、两条数据线DLj和化j+1 W及绝缘层GI和化。
[0058] 像素PXy设置在第一基体基板SUB1和第二基体基板SUB2之间。像素PXy可W设 置在第一基体基板SUB1的下侧。
[0059] 第一基体基板SUB1包括内侧表面IS和面对内侧表面IS的外侧表面ES。栅极线 GLi-1和GLi和数据线DLj和化j+1设置在内侧表面IS上，并且外部光入射到外侧表面ES。 入射的外部光经过第一基体基板SUB1，然后被上述组件反射。第一基体基板SUB1可W是透 明基板，诸如玻璃基板、塑料基板、娃基板等。
[0060] 像素PX。包括薄膜晶体管TFT和第一电极阳。薄膜晶体管TFT被设置成叠置阻 光区SA。第一电极PE被设置成叠置透射区TA的与阻光区SA相邻的对应透射区。
[0061] 薄膜晶体管TFT的栅电极GE W及栅极线GLi设置在第一基体基板SUB1的内侧表 面IS上。栅电极GE连接到栅极线化i。栅电极GE由与栅极线GLi相同的材料形成并且具 有与栅极线GLi相同的层结构。
[0062] 栅电极GE和栅极线GLi包括低反射性材料。例如，栅电极GE和栅极线GLi可W 包括铁、氧化钢锋、氧化钢锡、铜、或它们的合金。另外，栅电极GE和栅极线GLi可W具有包 括至少一种上述材料的多层结构。包括上述材料的栅电极GE和栅极线GLi具有相对于外 部光的低反射率。
[0063] 绝缘层GI设置在栅电极GE下方。绝缘层GI被配置成包括用于将栅电极GE与其 它组件绝缘的多个绝缘层。在本示例性实施例中，栅极绝缘层GI将被称为栅极绝缘层。
[0064] 栅极绝缘层GI覆盖栅电极GE和栅极线化i-1。栅极绝缘层GI包括有机或无机材 料并且具有多层结构。栅极绝缘层GI可W包括娃无机材料。娃无机材料包括氧化娃和氮 化娃中的至少一个。
[0065] 数据线DLj和化j+1设置在栅极绝缘层GI上。数据线DLj和化j+1包括铜（化）、 铁（Ti)、铅（A1)或它们的合金。数据线DLj和DLj+1具有不同金属层的多层结构。
[0066] 在数据线DLj和DLj+1之中，数据线DLj连接到薄膜晶体管TFT的源电极SE。源 电极SE由与数据线DLj和化j+1相同的材料形成并且具有与数据线DLj和化j+1相同的 层结构。
[0067] 半导体层AL设置在栅极绝缘层化下方。漏电极DE设置在栅极绝缘层GI下方并 且与源电极SE分隔开。源电极SE和漏电极DE叠置半导体层AL (与半导体层AL叠置）。 [006引补偿层化设置在栅极绝缘层GI和第一基体基板SUB1之间。补偿层化设置在第 一基体基板SUB1的内侧表面IS上并且与栅极绝缘层GI-起形成界面。补偿层化覆盖第 一基体基板SUB1的整个表面。补偿层化包括无机材料，例如氧化娃、氮化娃或氮氧化娃。
[0069] 补偿层化的折射率大于第一基体基板SUB1的折射率且小于栅极绝缘层GI的折 射率。补偿层化补偿第一基体基板SUB1和栅极绝缘层GI之间的折射率差异。
[0070] 补偿层化可W具有各种厚度。根据与补偿层化相邻的层的材料和补偿层化的 材料，确定补偿层化的厚度Dip。例如，当补偿层化包括氮氧化娃并且栅极绝缘层GI包括 氮化娃时，补偿层化具有大约600埃至大约1200埃的厚度Dip。
[0071] 然而，补偿层化的厚度Dip应该不限于此或受此限制。也就是说，可W通过改变补 偿层CL的材料和相邻层的材料，调节补偿层CL的厚度Dip。补偿层CL的折射率和厚度对 栅极绝缘层GI反射的光的光谱有影响。
[0072] 有机层化设置在栅极绝缘层GI下方，W覆盖源电极SE、漏电极DE和数据线化j 和化j+1。有机层化将上面设置有第一电极阳的表面平面化。
[0073] 在本示例性实施例中，有机层化可W是滤色器层。滤色器层设置在第一基体基板 SUB1上，类似于薄膜晶体管TFT。有机层化可W包括具有不同颜色的彩色图案。每个彩色 图案可W具有红色、绿色、蓝色或白色。
[0074] 尽管在图中未示出，但在栅极绝缘层GI和有机层化之间还可W设置纯化层（未 示出）。纯化层可W包括无机材料。当被包括时，纯化层覆盖源电极SE、漏电极DE和数据 线DLj和化j+1，W保护源电极SE、漏电极DE和数据线DLj和化j+1不受其它组件影响。 [00巧]第一电极阳设置在有机层化或纯化层（未示出）下方。第一电极阳叠置透射 区TA。第一电极PE可W包括透明的导电材料。例如，第一电极PE可W包括氧化钢锋、氧化 钢嫁、或氧化钢嫁锋。第一电极PE提高了透射区TA的透射率。
[0076] 第一电极PE可W具有各种厚度。根据与第一电极PE相邻的层的材料和第一电极 PE的材料，确定第一电极PE的厚度DpE。例如，当LCD面板DP包括厚度DpE为大约1100埃 至大约1300埃的第一电极PE时，LCD面板DP的反射率可W降低。然而，第一电极PE的厚 度Dw应该不限于此或不受此限制。
[0077] 如图4中所示，第一电极PE通过在有机层化中形成的接触孔CH1连接到薄膜晶 体管TFT的漏电极DE。在本示例性实施例中，第一电极PE将被称为像素电极。尽管在图中 未示出，但还可W在像素电极PE上设置保护像素电极PE的保护层（未示出）W及取向层 (未示出）。
[0078] 尽管在图中未示出，但还可W在有机层化和第一电极PE之间设置覆盖层（未示 出）。覆盖层可W包括有机或无机材料。例如，覆盖层可W是由有机材料形成的用于将有机 层化平面化的保护涂层，或者覆盖层可W是由无机材料形成的用于将有机层化和薄膜晶 体管TFT平面化的纯化层。
[0079] 第二显示基板DS2设置在第一显示基板DS1下方。第二显示基板DS2包括第二基 体基板SUB2、阻光图案层B化和第二电极CE。根据一些实施例，阻光图案层B化和第二电 极CE设置在第一显示基板DS1上。
[0080] 阻光图案层B化和第二电极CE设置在第二基体基板SUB2的面对第一显示基板 DS1的表面上。第二基体基板SUB2可W包括与第一基体基板SUB1相同的材料，但它不应该 限于此或受此限制。
[0081] 阻光图案层B化包括多个阻光图案。其中设置有阻光图案的区域对应于阻光 区SA，并且其中没有设置阻光图案的区域对应于透射区TA。阻光图案叠置数据线DLj和 化j+1、栅极线化i-1和化i和薄膜晶体管TFT。在本示例性实施例中，阻光图案层B化用作 黑矩阵。
[0082] 阻光图案层B化基本上防止背光单元产生的并且行进至第二基体基板SUB2的光 入射到其中设置有数据线DLj和化j+1和薄膜晶体管TFT的区域。另外，阻光图案层BPL 基本上防止入射到第一基体基板SUB1并且行进至第二基体基板SUB2的外部光被第二基体 基板SUB2反射。
[0083] 尽管在图中未示出，但在阻光图案层B化上还可W设置平坦化层。平坦化层将阻 光图案层B化平面化（或平坦化）。在本实施例中，第二电极CE设置在阻光图案层B化或 平坦化层上，然而，根据其它实施例，第二电极CE设置在第一显示基板DS1上。
[0084] 第二电极CE被设置成面对第一电极PE。第一电极PE和第二电极CE在其间形成 电场。下文中，第二电极CE将被称为公共电极。
[0085] 公共电极CE设置在第二基体基板SUB2的整个表面上。尽管在图中未示出，但在 公共电极上还可W设置保护公共电极CE的保护层（未示出）W及取向层。
[0086] 液晶层1XL设置在第一显示基板DS2和第二显示基板DS2之间。可W通过使用分 隔件（未示出）将液晶层1XL密封在第一显示基板DS1和第二显示基板DS2之间。通过在 像素电极PE和公共电极CE之间形成的电场，液晶层LCL的液晶分子重新取向。
[0087] 薄膜晶体管TFT响应于施加到栅极线化i的栅极信号，输出施加到数据线化j的 数据电压。像素电极PE接收对应于数据电压的像素电压并且公共电极CE接收公共电压。 像素电极PE和公共电极CE在其间形成垂直电场。由于垂直电场，导致液晶层1XL中包括 的液晶分子的指向矢（director)的排列改变。
[0088] 尽管在图中未示出，但根据另一个实施例，在PLS模式LCD面板中，公共电极CE可 W设置在第一显示基板DS1上。在该种情况下，像素电极PE和公共电极CE形成横向电场。 由于横向电场，导致液晶层LCL中包括的液晶分子的指向矢的排列改变。为此目的，像素电 极PE或公共电极CE可W包括多个隙缝（未示出）。
[0089] 根据另一个实施例，显示面板可W只包括一个显示基板。例如，第一显示基板DS1 可W包括电连接到薄膜晶体管TFT的0LED。
[0090] 图5A是示出其中不包括补偿层的显示面板的剖视图，图5B是示出根据示例性实 施例的显示基板的剖视图。图5A和图5B示出对应于图4中示出的部分AA的区域的剖视 图。为了便于说明，图5A和图5B分别示出不包括补偿层化的显示面板和包括补偿层化 的显示面板。
[0091] 如图5A和图5B中所示，入射到第一显示基板DS1的外侧表面的外部光被第一显 示基板DS1中包括的组件反射。由于第一显示基板DS1中包括的组件的性质和构造，导致 特定波长的光被W比其它波长更大的强度反射。被反射的光通过第一显示基板DS1中包括 的层之间的界面彼此相互作用。在透射区TA中被反射的被反射光的量大于在显示面板的 其它区域中被反射的被反射光的量。
[0092] 参照图5A，当显示基板不包括补偿层化时，第一基体基板SUB1和绝缘层GI在其 间形成界面IF1。通过第一基体基板SUB1入射的外部光在经过第一基体基板SUB1之后被 第一基体基板SUB1和绝缘层GI之间的界面IF1部分反射，因此产生第一反射光L1。
[0093] 然而，根据本实施例的显示基板包括设置在第一基体基板SUB1和绝缘层GI之间 的补偿层化。因此，如图5B中所示，补偿层化与第一基体基板SUB1形成界面I巧并且与 绝缘层GI形成界面IF3。
[0094] 通过第一基体基板SUB1入射的外部光的一部分被第一基体基板SUB1和补偿层化 之间形成的界面I巧反射，因此，在第一基体基板SUB1和补偿层化之间的界面I巧处产生 第二反射光L2。外部光的另一部分在经过补偿层化之后被补偿层化和绝缘层GI之间形 成的界面IF3反射，因此产生第H反射光L3。
[0095] 被界面反射的光具有其中反射率取决于被反射光的波长的反射光谱。反射光谱取 决于形成界面的层之间的折射率差异。通常，随着层之间的折射率差异增大，根据波长的反 射光谱中的反射率也增大。
[0096] 根据本示例性实施例的显示基板还包括补偿层化。补偿层化包括折射率介于与 补偿层CL相邻的两层的折射率之间的材料。例如，当第一基体基板SUB1包括折射率是大 约1. 5的玻璃基板并且绝缘层GI包括折射率是大约1. 8的氮化娃时，补偿层化包括折射 率介于大约1. 5至大约1. 8之间的材料。具体地，补偿层化可W包括折射率是大约1. 6的 氮氧化娃。
[0097] 补偿层化补偿两个相邻层之间的折射率差异。第一反射光L1被折射率差异是大 约0. 3的界面IF1反射，因此用不规则曲线代表反射光谱。第二反射光L2和第H反射光L3 被折射率差异均小于大约0. 3的界面I巧和IF3反射。因此，补偿层化可W减小两个相邻 层之间的折射率差异并且产生根据波长具有规则反射率的反射光谱。
[0098] 如上所述，根据本示例性实施例的显示基板的反射率根据层的材料改变，但是补 偿层化的厚度还影响显示基板的反射率。由于相邻层的设计要求，导致难W调节相邻层的 厚度，然而，因为补偿层化是另外形成的，所W可W容易地调节补偿层化的厚度。因此，显 示基板的反射率可W降低，并且显示面板的显示质量可W提高。
[0099] 图6是示出根据示例性实施例的随着补偿层化的厚度变化的反射光谱的曲线图。 图6示出当补偿层包括氮氧化娃并且分别具有大约600埃、大约900埃、大约1200埃、大约 1500埃、大约2000埃、大约3000埃的厚度时的反射光谱PL1至化6。示出的波形限于可见 光的波长范围（例如，大约380皿至大约780nm)。
[0100] 厚度是大约1500埃或更大的补偿层的反射光谱化4、PL5和PL6在可见光范围内 具有至少一个峰值反射率。例如，厚度是大约1500埃的补偿层的反射光谱PL4在大约480nm 的波长具有峰值反射率并且参照大约480nm的波长，反射率变得更低。
[010。 厚度是大约2000埃的补偿层的反射光谱PL5在大约640nm的波长具有峰值反射 率并且参照大约680nm的波长，反射率变得更低。厚度是大约3000埃的补偿层的反射光谱 PL6在大约480nm的波长具有峰值反射率并且在大约630nm的波长具有最小反射率。
[0102] 峰值反射率指示在特定波长范围内的相邻波长范围之间为最大值的反射率。另 夕F，峰值反射率指示在特定波长范围内的相邻波长范围之间为最小值的反射率。峰值反射 率是因界面IF2和IF3反射的光的相长干扰产生的。峰值反射率所指示的波长范围内的被 反射光在可见光范围内被不规则地反射。因此，被反射光的亮度变化不是均匀的，并且特定 颜色突出，因此，显示面板的显示质量劣化。
[0103] 相比于上述反射光谱化4、PL5和化6,在厚度是大约1200埃或更小的补偿层的反 射光谱化1、PL2和PL3中没有峰值反射率。厚度是大约600埃的补偿层的反射光谱PL1在 可见光范围内线性增大。厚度是大约900埃的补偿层的反射光谱PL2在可见光范围内逐渐 减小并且在大约580nm的波长之后逐渐增大。厚度是大约1200埃的补偿层的反射光谱化3 在可见光范围内逐渐减小。
[0104] 另外，厚度是大约1200埃或更小的补偿层的反射光谱化1、PL2和PL3的反射率小 于波长范围是大约550nm的补偿层的反射光谱化4、PL5和化6。波长是大约550nm的光是 基于绿色的颜色。
[010引通常，用户对大约530nm至大约600nm的波长范围内的光敏感。因此，当用户观看 显示面板时，用户强烈察觉到带绿色的瑕疵或基于绿色的颜色。
[0106] 厚度是大约600埃至大约1200埃的补偿层在不同的波长范围内具有最小反射率。 因此，可W通过选择其中出现最小反射率的波长范围来控制显示面板的颜色。例如，厚度是 大约600埃的补偿层减小了具有基于蓝色或紫色的颜色的光（例如，波长范围是大约380nm 至大约500nm)的反射率。
[0107] 厚度是大约900埃的补偿层减小了具有基于绿色的颜色的光（例如，波长范围是 大约500nm至大约680nm)的反射率。厚度是大约1200埃的补偿层减小了具有基于红色的 颜色的光（例如，波长范围是大约630nm至大约780nm)的反射率。
[010引当补偿层的厚度是大约600埃至大约1200埃时，反射率分布在可见光波长范围内 是均匀的，如图6中所示。另外，厚度是大约600埃至大约1200埃的补偿层的反射光谱代 表绿色波长范围内的相对低的反射率。因此，在根据本示例性实施例的显示面板中，反射率 降低并且颜色被补偿，从而提高显示面板的显示质量。
[0109] 图7A是示出根据示例性实施例的显示面板的总反射光谱的曲线图。为了便于说 明，图7A示出不包括补偿层LC的显示面板的反射光谱化-R(下文中，称为第一反射光谱） 和包括补偿层化的反射光谱化-P (下文中，称为第二反射光谱）。在图7A中，补偿层化包 括氮氧化娃并且具有大约1000埃的厚度。
[0110] 参照图7A，第一反射光谱化-R和第二反射光谱化-P对于各波长而言具有近似的 反射率，但在大约500nm至大约700nm的波长范围内，第二反射光谱化-P的反射率低于第 一反射光谱化-R的反射率。
[01U ] 第一反射光谱化-R包括被第一基体基板SUB1 (参照图4)和绝缘层GI (参照图4) 之间形成的界面反射的光的光谱。然而，第二反射光谱化-P是通过其中补偿层化设置在 第一基体基板SUB1和绝缘层GI之间的结构得到的。
[0112] 在本示例性实施例中，第一基体基板SUB1和绝缘层GI在其间没有界面。因此，第 二反射光谱化-P不包括被第一基体基板SUB1和绝缘层GI之间形成的界面反射的光的光 谱。第二反射光谱化-P包括通过将被第一基体基板SUB1和绝缘层GI之间的界面反射的 光与被补偿层化和绝缘层GI之间的界面反射的光混合而得到的光的光谱。
[0113] 如上所述，补偿层化具有介于与补偿层化有界面的两层的折射率之间的折射率。 补偿层化的折射率大于第一基体基板SUB1的折射率并且小于绝缘层GI的折射率。因此， 第一基体基板SUB1和绝缘层GI之间的折射率差异减小。
[0114] 根据与绝缘层GI的上表面一起形成界面的组件的折射率，来自绝缘层GI的上表 面的光的光谱变化。当第一基体基板SUB1设置在绝缘层GI上时的被反射光的光谱不同于 当补偿层CL设置在绝缘层GI上时的被反射光的光谱。随着该两层之间的折射率差异变小， 被该两层之间的界面反射的被反射光的反射率变小。
[0115] 如图7A中所示，因为根据本示例性实施例的显示面板还包括补偿层化，所W波长 范围是大约500nm至大约700nm的折射率减小。波长范围是大约500nm至大约700nm的光 具有基于绿色的颜色或基于蓝色的颜色。具体地，显示面板减小基于绿色的光的反射率，因 此，显示面板的显示质量可W提高。
[0116] 图7B是示出根据示例性实施例的显示面板的总反射光谱的曲线图。为了便于说 明，在图7B中已经示出设置有具有不同厚度的补偿层的显示面板的反射光谱。
[0117] 在图7B中，具有不同厚度的补偿层被应用于均包括折射率是大约1. 78且厚度是 大约4100埃的绝缘层GI和折射率是大约1. 6且厚度是大约3. 2微米的滤色器层CF的显 示面板。补偿层化包括氮化娃，具有大约1. 55的折射率，并且分别具有大约700埃、大约 800埃、大约1000埃、大约1500埃、大约1600埃的厚度。
[0118] 参照图7B，当不包括补偿层化的显示面板的反射光谱被称为参考光谱时，用其中 在可见光波长范围内幅值最大的图线代表参考光谱。然而，用其中幅值小于参考光谱的幅 值的图线代表包括补偿层化的显示面板的反射光谱。该意味着，当显示面板还包括补偿层 化时，显示面板的反射光谱可W改善。
[0119] 如上所述，当补偿层化的厚度改变时，补偿层化的固有折射率（参照图6)改变。 补偿层CL的固有折射率对显示面板有影响，因此与补偿层相邻的绝缘层的反射光谱改变。 另外，当补偿层化的厚度改变时，其中出现被反射光的相对小幅值的波长范围改变。因此， 被显示面板反射的颜色可W被补偿。
[0120] 如图7B中所示，包括厚度是大约1000埃的补偿层化的显示面板的反射光谱在宽 波长范围内具有逐渐变化的幅值。也就是说，厚度是大约1000埃的补偿层化均匀地控制 显示面板的反射光谱。
[0121] 然而，通常，反射率的减小和颜色的补偿是独立变化的，没有相互成正比或反比。 例如，相比于参考显示面板，包括厚度是大约700埃的补偿层的显示面板具有基本均匀的 反射率，但在接近大约480nm的波长范围内和大约680nm或更大的波长范围内，反射率增 大。因此，可W向用户突出对应于波长范围的颜色。
[0122] 补偿层化基本上均匀地保持显示面板的整体反射光谱，但通过调节补偿层化的 厚度，反射光谱可W相对于特定颜色选择性减小或增大。例如，当如图7B中所示补偿层化 的厚度是大约800埃至大约1500埃时，可W得到包括反射率的减小并且防止带绿色现象的 反射光谱。
[0123] 如上所述，因为显示面板还包括补偿层化，所W可W均匀地改善反射光谱。另外， 当调节补偿层化的厚度时，反射率可W提高并且颜色可W被选择性补偿，从而提高显示质 量。
[0124] 图8A是示出根据示例性实施例的显示面板的一部分的剖视图，图8B是示出根据 示例性实施例的显示面板的反射光谱的曲线图。图8A示出对应于图4中示出的部分BB的 剖视图，图8B示出通过模拟测试得到的显示面板的反射光谱。
[0125] 参照图8A，补偿层化可W设置在绝缘层和有机层化之间。补偿层化与绝缘层和 有机层化中的每个形成界面。
[0126] 绝缘层可W包括多个绝缘层。在一些实施例中，绝缘层被配置成包括栅极绝缘层 GI和纯化层PS。在该些实施例中，纯化层PS是第二绝缘层。尽管在图中未示出，但纯化层 PS覆盖薄膜晶体管TFT (参照图4)。在其它实施例中，绝缘层被配置成包括栅极绝缘层GI 和有机层化。在该些实施例中，有机层化是第二绝缘层。
[0127] 补偿层化设置在纯化层PS和有机层化之间。补偿层化补偿纯化层PS和有机 层化之间的折射率差异。补偿层化包括根据用于形成纯化层PS和有机层化的材料的折 射率选择的材料，纯化层PS和有机层0L中的每个与补偿层CL形成界面。补偿层CL具有 介于纯化层PS的折射率和第一电极PE的折射率之间的折射率。
[012引例如，当纯化层PS包括氮化娃并且第一电极PE包括氧化钢锡（IT0)时，补偿层化 可W包括氮氧化娃。包括氮氧化娃的补偿层化可W具有受化合物中包括的氮原子的比率 控制的折射率。因此，补偿层化可W具有介于氮化娃的折射率和氧化钢锡的折射率之间的 各种折射率。
[0129] 图8B示出被不包括补偿层LC的显示面板的绝缘层反射的光的反射光谱化-R(下 文中，称为第H反射光谱）和被包括补偿层CL的显示面板的绝缘层反射的光的反射光谱 化-P (下文中，称为第四反射光谱）。
[0130] 参照图8B，第H反射光谱化-R具有与在可见光范围内包括两个峰值反射率的正 弦函数近似的曲线。基本上，第H反射光谱化-R在接近大约480nm和大约700nm的波长范 围内具有最大反射率。
[013。 当相比于第H反射光谱化-R时，第四反射光谱化-P只具有一个峰值反射率。第 四反射光谱化-P的峰值反射率出现在接近大约600nm的波长范围处。接近大约600nm的 第四反射光谱化-P的峰值反射率位于第H反射光谱化-R的两个峰值反射率之间。
[0132] 在接近大约480nm和大约700nm的波长范围内的第四反射光谱化-P的反射率比 相同范围内的第H反射光谱化-R的反射率小得多。在接近大约600nm的波长范围的反射 率和第四反射光谱化-P的其它波长范围的反射率之间没有大差异，在所述接近大约600nm 的波长范围出现第四反射光谱化-P的峰值反射率。
[013引第四反射光谱化-P具有与第H反射光谱化-R的曲线相反的曲线。第四反射光谱 化-P在可见光范围内具有宽曲线，在该曲线中，反射率的变化不极端。
[0134] 第H反射光谱化-R包括被纯化层PS和第一电极阳之间形成的界面反射的光的 光谱。根据图8A中示出的本实施例，在纯化层PS和第一电极PE之间没有形成界面。因此， 第四反射光谱化-P不包括被纯化层PS和第一电极PE之间的界面反射的光的光谱。
[01巧]相比于不包括补偿层化的比较显示面板的第H反射光谱化-R，第四反射光谱 化-P包括通过将纯化层PS和补偿层化之间的界面反射的光与补偿层化和第一电极PE之 间的界面反射的光混合而得到的光的光谱。如上所述，补偿层化补偿纯化层PS和第一电 极PE之间的折射率差异，W降低显示面板的反射率。
[0136] 图9A和图9B是示出根据示例性实施例的显示基板的一部分的剖视图。图9A和 图9B 7]^出对应于图4中7]^出的部分BB的剖视图。在图9A和图9B中，相同的参考标号表 示图1至图8中的相同元件，因此将省略对相同元件的详细描述。
[0137] 如图9A和图9B中所示，显示基板可W包括多个补偿层CL1和化2。补偿层CL1和 CL2中的每个被设置成与绝缘层相邻。多个补偿层CL1和CL2中的每个的折射率的值介于 与各个补偿层CL1和CL2相邻的层的折射率之间。补偿层CL1和CL2中的每个补偿与补偿 层相邻的层的折射率之间的差异。
[013引形成界面的层的折射率之间的差异越小，来自界面的光的反射率越低。补偿层通 过减小显示装置中的相邻层的折射率之间的差异来减小显示面板的反射率。
[0139] 作为示例，第一补偿层CL1设置在第一基体基板SUB1和栅极绝缘层GI之间。在 第一基体基板SUB1的折射率小于栅极绝缘层GI的折射率的情况下，第一补偿层化1的折 射率大于第一基体基板SUB1的折射率并且小于栅极绝缘层GI的折射率。第一补偿层化1 补偿与第一补偿层化相邻的第一基体基板SUBl的折射率和栅极绝缘层GI的折射率之间 的差异。
[0140] 第一补偿层CL1与栅极绝缘层GI形成界面。被补偿层CL1和栅极绝缘层GI之间 的界面反射的光的光谱改变栅极绝缘层GI的固有反射光谱。
[0141] 参照图9A，纯化层PS和第一电极阳设置在栅极绝缘层GI下方。第二补偿层化2 设置在第一电极PE和纯化层PS之间。第二补偿层CL2补偿纯化层PS的折射率和第一电 极PE的折射率之间的差异。
[0142] 第二补偿层化2的折射率介于纯化层PS的折射率和第一电极阳的折射率之间。 通常，第一电极PE的折射率大于纯化层PS的折射率。因此，第二补偿层CL2的折射率大于 纯化层PS的折射率且小于第一电极PE的折射率。然而，当第一电极PE的折射率小于纯化 层PS的折射率时，第二补偿层化2的折射率可W小于纯化层PS的折射率且大于第一电极 阳的折射率。
[0143] 尽管在图中未示出，但第二补偿层CL2设置在绝缘层之间，与绝缘层形成界面。例 女口，第二补偿层CL2设置在栅极绝缘层GI和纯化层PS之间。第二补偿层CL2的折射率介 于栅极绝缘层GI的折射率和纯化层PS的折射率之间。第二补偿层CL2具有在栅极绝缘层 GI的折射率和纯化层PS的折射率之间具有较大差异的情况下降低显示面板的反射率的突 出效果。
[0144] 如图9B中所示，显示基板还可W包括设置在纯化层PS和第一电极阳之间的有机 层化，并且在该种情况下，第二补偿层化2设置在纯化层PS和有机层化之间。第二补偿层 CL2补偿纯化层PS的折射率和有机层化的折射率之间的差异。补偿层CL2的折射率大于 有机层化的折射率且小于纯化层PS的折射率。
[0145] 第二补偿层CL2与纯化层PS形成界面。被第二补偿层CL2和纯化层PS之间的界 面反射的光的光谱改变纯化层PS的固有反射光谱。
[0146] 根据本示例性实施例的显示基板可W通过调节第一电极PE的厚度来减小显示面 板的反射率。在W下的表1中已经示出显示面板的反射率的模拟结果。
[0147] 表 1 [014 引

【权利要求】
1. 一种显示基板，所述显示基板包括： 基体基板，具有第一折射率并且被配置成接收外部光； 第一绝缘层，形成在基体基板下方并且具有不同于第一折射率的第二折射率； 像素电极，形成在第一绝缘层下方； 第一补偿层，形成在第一绝缘层和基体基板之间并且被配置成在第一补偿层的面对第 一绝缘层的表面处反射外部光的至少一部分， 其中，第一补偿层具有大于第一折射率并且小于第二折射率的第H折射率。
2. 如权利要求1所述的显示基板，所述显示基板还包括形成在基体基板和第一绝缘层 之间的多条信号线，其中，第一补偿层形成在基体基板和信号线之间。
3. 如权利要求1所述的显示基板，所述显示基板还包括形成在第一绝缘层和像素电极 之间的第二补偿层，其中，第二补偿层具有介于第二补偿层的相邻层的折射率之间的折射 率。
4. 如权利要求3所述的显示基板，所述显示基板还包括第二绝缘层，第二绝缘层形成 在第一绝缘层和像素电极之间并且被配置成在第二绝缘层的面对第二补偿层的表面处反 射外部光的至少一部分，其中，第二补偿层的折射率介于第二绝缘层的折射率和像素电极 的折射率之间。
5. 如权利要求3所述的显示基板，所述显示基板还包括第二绝缘层，第二绝缘层形成 在第二补偿层和像素电极之间并且被配置成在第二绝缘层的面对第二补偿层的表面处反 射外部光的至少一部分，其中，第二补偿层的折射率介于第一绝缘层的折射率和第二绝缘 层的折射率之间。
6. 如权利要求1所述的显示基板，其中，第一绝缘层至少部分地由氮化娃形成，第一补 偿层至少部分地由氮氧化娃形成。
7. 如权利要求6所述的显示基板，其中，第一补偿层的厚度在800埃至1500埃之间。
8. 如权利要求7所述的显示基板，其中，像素电极的厚度在1100埃至1300埃之间。
9. 如权利要求1所述的显示基板，所述显示基板还包括形成在像素电极下方的公共电 极，其中，像素电极被配置成接收第一电压，其中，公共电极被配置成接收不同于第一电压 的第二电压。
【文档编号】H01L27/32GK104465696SQ201410269889
【公开日】2015年3月25日 申请日期:2014年6月17日 优先权日:2013年9月24日
【发明者】朴俊龙, 金亨俊, 尹汝建, 金暻鍱, 申相原, 李相旭, 郑敞午, 姜现皓, 金泰亨, 林兑暻 申请人:三星显示有限公司