技术特征：
1.一种用于等离子刻蚀设备的上盖，所述上盖包括导电的壳体，其特征在于，所述上盖还包括分隔板，所述分隔板与所述壳体围成空腔，所述分隔板包括彼此相连的介质窗部和导电板部，所述介质窗部环绕所述导电板部设置；平面线圈设置在介质窗部上并位于所述空腔中。2.根据权利要求1所述的上盖，其特征在于，所述壳体上设置有进气孔，所述导电板部上设置有出气孔。3.根据权利要求2所述的上盖，其特征在于，所述上盖还包括第一隔板，所述第一隔板的一端与所述壳体相连，另一端与所述导电板部相连，且所述第一隔板环绕所述导电板部设置，以将所述空腔分隔成匀流腔和射频腔，所述导电板部形成为所述匀流腔的底壁，所述进气孔与所述匀流腔连通，所述导电板部上设置有均匀分布的多个所述出气孔。4.根据权利要求3所述的上盖，其特征在于，所述第一隔板由导电材料制成。5.根据权利要求3或4所述的上盖，其特征在于，所述导电板部与所述壳体的顶壁之间的距离小于或等于所述介质窗部与所述壳体的顶壁之间的距离。6.根据权利要求5所述的上盖，其特征在于，所述导电板部为圆形板，多个所述出气孔绕所述导电板部的圆心排列为多圈。7.根据权利要求5所述的上盖，其特征在于，所述导电板部为圆形板，所述出气孔被划分为多组，每组所述出气孔均沿所述导电板\t部的径向设置。8.根据权利要求7所述的上盖，其特征在于，所述出气孔沿所述导电板部径向的尺寸大于所述出气孔沿所述导电板部周向方向的尺寸，且多个所述出气孔绕所述导电板部的圆心排列为多圈，在同一径向方向上，相邻的两个所述出气孔位于不相邻的圈中，所述导电板部的中部设置有一个所述出气孔，所述导电板部的圆心位于设置在所述导电板部中部的所述出气孔中。9.根据权利要求3或4所述的上盖，其特征在于，所述上盖还包括由介电材料制成的第二隔板，所述第二隔板设置在所述介质窗部上与所述导电板部相连的边缘处，且所述第二隔板与所述第一隔板密封连接。10.一种等离子刻蚀设备，该等离子刻蚀设备包括平面线圈、一端开放的腔室主体、设置在所述腔室主体中的下平板电极和覆盖所述腔室主体的开放端的上盖，其特征在于，所述上盖为权利要求1至9中任意一项所述的上盖，所述导电板部与所述下平板电极的承载表面相对设置，所述导电板部接地，所述平面线圈设置在所述介质窗部上并位于所述空腔中。