X射线管整体靶的散热结构及X射线管整体靶的制作方法

本实用新型涉及散热结构，具体涉及X射线管整体靶的散热结构及X射线管整体靶。

背景技术：

X射线管工作时，阳极钨靶承受高速电子的轰击产生X光的同时，会产生大量热能致使整体靶温度升高，影响X射线管工作稳定性，减少使用寿命。X射线管在工作时需要保证散热良好，一般的散热结构及方式散热能力有限，不足以满足高功率X射线管长时间稳定工作的需求。

为此，期望寻求一种技术方案，以至少减轻上述问题。

技术实现要素：

一方面，本实用新型要解决的技术问题是，提供一种散热能力强的X射线管整体靶的散热结构。

另一方面，本实用新型要解决的技术问题是，提供一种散热能力强的X射线管整体靶。

为解决一方面的技术问题，本实用新型采用如下技术方案。

一种X射线管整体靶的散热结构，包括：

第一构件，其包括凹腔及与所述X射线管整体靶接触的接触面；以及

第二构件，其包括由第一入口连通至第一出口的第一通道及由第二入口连通至第二出口的第二通道；

其中，所述第一出口、第二入口分别与所述凹腔连通。

所述第二构件具有能伸入所述凹腔的凸台，所述第一出口、第二入口位于该凸台上，所述凹腔的侧壁与该凸台的周向外壁液密封连接。

所述凹腔的侧壁与该凸台的周向外壁之间设置有密封圈。

所述凸台的顶面具有凸起，所述第一出口位于该凸起的顶面。

所述凹腔呈圆柱形。

为解决另一方面的技术问题，本实用新型采用如下技术方案。

一种X射线管整体靶，包括上述结构的X射线管整体靶的散热结构。

本实用新型具有下述有益技术效果。

本实用新型通过循环水能够作用于X射线管整体靶，能够更加有效的吸收热量，控制整体靶温度，保证X射线管稳定工作，延长X射线管使用寿命。

附图说明

图1示意性示出本实用新型的一种结构图。

图2示意性示出本实用新型的第一构件的结构图。

图3示意性示出本实用新型的第二构件的结构图。

具体实施方式

为能详细说明本实用新型的技术特征及功效，并可依照本说明书的内容来实现，下面结合附图对本实用新型的实施方式进一步说明。

图1示例性示出本实用新型涉及的众多X 射线管的阳极结构中的一种X射线管整体靶的散热结构的实施例，其中，图1中的箭头表示水流动的方向。该X射线管整体靶的散热结构，包括第一构件1及第二构件2。

一并参见图2，第一构件1包括凹腔11及与X射线管整体靶4接触的接触面12，接触面12以便X射线管整体靶4将热传递给第一构件1。

一并参见图3，第二构件2包括由第一入口21连通至第一出口22的第一通道23及由第二入口24连通至第二出口25的第二通道26。

第一出口21、第二入口24分别与凹腔11连通。

在一些实施例中，第二构件2具有能伸入凹腔11的凸台27，第一出口21、第二入口24位于该凸台27上，凹腔11的侧壁与该凸台27的周向外壁液密封连接。

凹腔11的侧壁与该凸台27的周向外壁之间设置有密封圈3。

凸台27的顶面具有凸起28，第一出口22位于该凸起28的顶面。

凹腔11可以但不限于呈圆柱形。

本实用新型还描述一种X射线管整体靶，包括上述结构的X射线管整体靶的散热结构。

需要说明的是，上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何适合的方式进行组合。为了避免不必要的重复，本实用新型对各种可能的组合方式不再进行描述。

上面参照实施例对本实用新型进行了详细描述，是说明性的而不是限制性的，在不脱离本实用新型总体构思下的变化和修改，均在本实用新型的保护范围之内。