1.一种等离子刻蚀设备，包括反应腔室(1)，反应腔室内设置相对平行放置的正电极板(2)和负电极板(3)，反应腔室左侧设置有气体入口(4)，反应腔室右下侧处设置有气体出口(5)，掩膜版(6)；其特征在于：所述负电极板(3)设置于反应腔室(1)的上方，所述负电极板(3)和掩膜版(6)相互连接，掩膜版(6)位于负电极板(3)的下方，掩膜版(6)的版面朝下；所述正电极板(2)设置于反应腔室(1)的下方并与掩膜版(6)相对。
2.根据权利要求1所述的等离子刻蚀设备，其特征在于：所述负电极板(3)上设置有气孔(8)，真空通过负电极板(3)上的气孔(8)把负电极板(3)和掩膜版(6)吸附连接在一起。
3.根据权利要求1或2所述的等离子刻蚀设备，其特征在于：所述正电极板(2)的板面下侧面连接有导线，导线通过反应腔室接地。
4.根据权利要求1或2所述的等离子刻蚀设备，其特征在于：所述负电极板(3)的板面上侧面连接有导线，导线与射频电源(7)连接。
5.根据权利要求1所述的等离子刻蚀设备，其特征在于：所述负电极板(3)和掩膜版(6)通过机械连接方式连接在一起。