1.一种硅片慢提拉清洗槽，其特征在于：包括用于清洗硅片的水槽(1)，所述水槽(1)上具有开口向上的清洗腔(1-1)，所述水槽(1)的顶端位于清洗腔(1-1)开口的两侧分别设置有热风刀(2)及挡风板(3)，所述热风刀(2)内具有风腔(2-1)，所述热风刀(2)的内表面开设有若干与风腔(2-1)连通的出风孔道(2-2)，所述出风孔道(2-2)的轴线由外至内向下倾斜，所述挡风板(3)的内侧面由外至内向上倾斜。
2.根据权利要求1所述的硅片慢提拉清洗槽，其特征在于：所述热风刀(2)的内侧面为斜面，所述斜面由外至内向上倾斜。
3.根据权利要求1所述的硅片慢提拉清洗槽，其特征在于：所述水槽(1)的侧方设置有热水溢流槽(4)，所述热水溢流槽(4)上具有溢流孔(4-1)，所述溢流孔(4-1)与水槽(1)的清洗腔(1-1)连通。