硅片慢提拉清洗槽的制作方法

文档序号:13341241阅读:来源:国知局
技术总结
本实用新型涉及太阳能电池片制备技术领域,尤其是一种硅片慢提拉清洗槽,包括用于清洗硅片的水槽,水槽上具有开口向上的清洗腔,水槽的顶端位于清洗腔开口的两侧分别设置有热风刀及挡风板,热风刀内具有风腔,热风刀的内表面开设有若干与风腔连通的出风孔道,出风孔道的轴线由外至内向下倾斜,挡风板的内侧面由外至内向上倾斜,本实用新型的硅片慢提拉清洗槽具有脱水效果好、清洁度高、对硅片表面无损伤且不易留下水痕等优点,硅片进行脱水处理后,硅片表面不会留下水痕,热风刀的设置可以有效提升慢提拉速度,实现快速下降提升,以配合不同的清洗工艺要求。

技术研发人员:虞凯;孙铁囤;姚伟忠
受保护的技术使用者:常州亿晶光电科技有限公司
文档号码:201720722949
技术研发日:2017.06.20
技术公布日:2017.12.29

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