一种阵列基板及其制备方法、显示装置的制造方法_4

文档序号:8397055阅读:来源:国知局
数据线20之间的电连接。
[0095]相比所述栅线连通线11和所述数据线连通线21均为一根,由于在阵列基板的制备过程中,所述栅线10和所述栅线连通线11或所述数据线20和所述数据线连通线21需要通过过孔电连接,在此过程中,可能会由于电连接不良导致某些栅线10和栅线连通线11或某些数据线20和数据线连通线21不能电连接,因此,通过设置两根栅线连通线11并使其均与栅线10电连接,设置两根数据线连通线21并使其均与数据线20电连接,可以减少发生电连接不良的概率,从而避免由于发生电连接不良而使某个信号线上累积电荷而发生静电放电。此外,若将所述栅线连通线11和所述数据线连通线21做的太多则会占用周边区域太多空间,导致周边区域其他布线受到限制而增加工艺难度。
[0096]优选的,所述栅线连通线11和所述数据线连通线21与所述栅极10同层设置;或者,所述栅线连通线11和所述数据线连通线21与所述数据线20同层设置;或者,所述栅线连通线11与所述栅线10同层设置,所述数据线连通线21与所述数据线20同层设置。
[0097]这样,即使在原有工艺基础上,增加了栅线连通线11和数据线连通线21,也不会导致构图工艺次数的增加。
[0098]基于上述,所述阵列基板还包括成与所述漏极电连接的第一电极。
[0099]其中,所述第一电极可以为像素电极,在此基础上,所述阵列基板还包括:形成公共电极。
[0100]其中,对于共平面切换型(In-Plane Switch,简称IPS)阵列基板而言,所述像素电极和所述公共电极同层间隔设置,且均为条状电极;对于高级超维场转换型(Advanced-super Dimens1nal Switching,简称ADS)阵列基板而言,所述像素电极和所述公共电极不同层设置,其中在上的电极为条状电极,在下的电极为板状电极。
[0101]当然,所述第一电极也可以为阳极或阴极,在此基础上,所述阵列基板还包括:有机材料功能层和阴极或阳极。即:当所述第一电极40为阳极的情况下,还包括有机材料功能层和阴极;当所述第一电极40为阴极的情况下,还包括有机材料功能层和阳极。
[0102]其中,所述有机材料功能层至少包括电子传输层、发光层和空穴传输层;为了能够提高所述电子和所述空穴注入发光层的效率,所述有机材料功能层还可以包括设置在所述阴极与所述电子传输层之间的电子注入层,以及在所述阳极与所述空穴传输层之间的空穴注入层。
[0103]根据所述阳极和所述阴极的材料的不同,可以分为单面发光型柔性显示基板和双面发光型柔性显示基板;即:当所述阳极和所述阴极中其中一个电极的材料为不透明材料时,所述柔性显示基板为单面发光型;当所述阳极和所述阴极的材料均为透明材料时,所述柔性显示基板为双面发光型。
[0104]本发明实施例还提供了一种显示装置,包括上述的阵列基板。
[0105]上述显示装置具体可以是液晶显示装置,可以为液晶显示器、液晶电视、数码相框、手机、平板电脑等具有任何显示功能的产品或者部件。当然,上述显示装置也可以是有机电致发光二极管显示装置。
[0106]以上所述,仅为本发明的【具体实施方式】,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
【主权项】
1.一种阵列基板的制备方法,包括形成薄膜晶体管以及信号线,其特征在于,还包括形成信号线连通线,其中,所述信号线连通线至少将同一类信号线电连接; 在所述阵列基板制程的最后一层膜层制作完成前,所述方法还包括:在所述信号线连通线上或所述信号线靠近所述信号线连通线的位置处刻蚀出过孔,所述过孔用于断开所述信号线之间的电连接。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述信号线包括栅线和数据线,所述信号线连通线包括栅线连通线和数据线连通线; 其中,至少一根所述栅线连通线将所有所述栅线电连接,至少一根所述数据线连通线将所有所述数据线电连接。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述栅线连通线为两根,分别位于显示区域两侧的周边区域,且均与所述栅线电连接; 所述数据线连通线为两根,分别位于显示区域两侧的周边区域,且均与所述数据线电连接。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述栅线连通线和所述数据线连通线与所述栅线通过同一次构图工艺形成; 或者,所述栅线连通线和所述数据线连通线与所述数据线通过同一次构图工艺形成; 或者,所述栅线连通线与所述栅线通过同一次构图工艺形成,所述数据线连通线与所述数据线通过同一次构图工艺形成。
5.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:将所述栅线连通线和所述数据线连通线电连接。
6.根据权利要求1-5任一项所述的方法,其特征在于,对绝缘材料的刻蚀采用干法刻蚀,对金属材料的刻蚀采用湿法刻蚀。
7.—种阵列基板,包括薄膜晶体管以及信号线,其特征在于,还包括信号线连通线; 其中,在所述信号线连通线上或所述信号线靠近所述信号线连通线的位置处设置多个过孔,所述过孔用于断开所述信号线之间的电连接。
8.根据权利要求7所述的阵列基板,其特征在于,所述信号线包括栅线和数据线,所述信号线连通线包括栅线连通线和数据线连通线; 其中,在所述信号线连通线上或所述信号线靠近所述信号线连通线的位置处设置多个过孔,所述过孔用于断开所述信号线与所述信号线连通线的电连接,包括: 在所述栅线连通线上或所述栅线靠近所述栅线连通线的位置处设置多个第一过孔,所述第一过孔用于断开所述栅线之间的电连接;在所述数据线连通线上或所述数据线靠近所述数据线连通线的位置处设置多个第二过孔,所述第二过孔用于断开所述数据线之间的电连接。
9.根据权利要求8所述的阵列基板,其特征在于,所述栅线连通线为两根,且分别位于显示区域两侧的周边区域;其中,所述第一过孔用于断开经每根栅线连通线连接的所述栅线之间的电连接; 所述数据线连通线为两根,且分别位于所述显示区域两侧的周边区域;其中,所述第二过孔用于断开经每根数据线连通线连接的所述数据线之间的电连接。
10.根据权利要求8所述的阵列基板,其特征在于,所述栅线连通线和所述数据线连通线与所述栅极同层设置; 或者,所述栅线连通线和所述数据线连通线与所述数据线同层设置; 或者,所述栅线连通线与所述栅线同层设置,所述数据线连通线与所述数据线同层设置。
11.一种显示装置,包括权利要求7-10任一项所述的阵列基板。
【专利摘要】本发明的实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,可有效减少TFT阵列基板在制造过程中发生的静电放电,提高产品良率。该阵列基板的制备方法,包括形成薄膜晶体管以及信号线,还包括形成信号线连通线,其中,所述信号线连通线至少将同一类信号线电连接;在所述阵列基板制程的最后一层膜层制作完成前,所述方法还包括:在所述信号线连通线上或所述信号线靠近所述信号线连通线的位置处刻蚀出过孔,所述过孔用于断开所述信号线之间的电连接。用于阵列基板,显示装置的制造。
【IPC分类】H01L21-77, H01L27-12
【公开号】CN104716146
【申请号】CN201510145249
【发明人】李全虎, 李永谦, 王龙彦
【申请人】京东方科技集团股份有限公司
【公开日】2015年6月17日
【申请日】2015年3月30日
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