5 H = 19. 4、5 P = 14. 8)、氨 基化氯（5D= 15. 5、5H= 27. 6、5P= 16. 8)、3-哲基丙膳（5D= 17. 2、5H= 18. 8、 5P= 17. 6)、化挫（5D= 20. 2、5H= 10. 4、5P= 12. 4)等。该些可W单独使用，也可W 合用两种W上。
[0114] 另外，作为导电性提高剂，还可W使用a)~（vii)、且具有上述范围内的SP值的 物质。
[0115] 在透明导电膜形成用组合物含有导电性提高剂的情况下，对其含量没有特别限 定，相对于导电性聚合物100质量份优选为5质量份~2000质量份、更优选为10质量份~ 1500质量份。若导电性提高剂的含量小于5质量份，则有时不能充分享有由添加导电性提 高剂所带来的导电性改善效果。另一方面，若超过2000质量份，则透明导电膜形成用组合 物中的导电材料的混合量相对变少，制成透明导电膜时有时得不到充分的导电性。
[0116] 作为溶剂，没有特别限定，可W举出例如水；甲醇、己醇、2-丙醇、1-丙醇等醇类； 己二醇、二己二醇、S己二醇、四己二醇等己二醇类；己二醇单甲離、二己二醇单甲離、己二 醇二己離、二己二醇二甲離等二醇離类；己二醇单己離己酸醋、二己二醇单己離己酸醋、二 己二醇单了離己酸醋等二醇離己酸醋类；丙二醇、二丙二醇、=丙二醇等丙二醇类；丙二醇 单甲離、丙二醇单己離、二丙二醇单甲離、二丙二醇单己離、丙二醇二甲離、二丙二醇二甲 離、丙二醇二己離、二丙二醇二己離等丙二醇離类；丙二醇单甲離己酸醋、丙二醇单己離己 酸醋、二丙二醇单甲離己酸醋、二丙二醇单己離己酸醋等丙二醇離己酸醋类；四氨快喃；丙 酬；己膳等。该些溶剂可W单独使用，也可化合用两种W上。
[0117] 溶剂优选为水、或者水与有机溶剂的混合物。在透明导电膜形成用组合物含有水 作为溶剂的情况下，对水的含量没有特别限定，相对于导电材料100质量份优选为20质量 份~1000000质量份、更优选为200质量份~500000质量份。该是因为，水的含量小于20 质量份时，有时粘度变高，导致处理困难，超过1000000质量份时，溶液的浓度过低，有时透 明导电膜的厚度的调整变难。
[0118] 在透明导电膜形成用组合物含有水与有机溶剂的混合物作为溶剂的情况下，有机 溶剂优选为甲醇、己醇、或者2-丙醇。该情况下，对有机溶剂的含量没有特别限定，相对于 导电材料100质量份优选为20质量份~700000质量份、更优选为200质量份~350000质 量份。另外，水与有机溶剂的比例优选为100:0~5:95、更优选为100:0~30:70。
[0119] 溶剂优选不残留在通过涂布透明导电膜形成用组合物而形成的透明导电膜中。
[0120] 需要说明的是，本说明书中，关于使透明导电膜形成用组合物的全部成分完全溶 解的物质（即"溶剂"）、和使不溶成分分散的物质（即"分散介质"），不进行特别区分，均 记载为"溶剂"。
[0121] 通过混配表面活性剂和/或流平剂，能够提高透明导电膜形成用组合物的润湿性 及流平性，通过使用透明导电膜形成用组合物来形成透明导电膜，能够得到均匀的透明导 电膜。需要说明的是，本发明中，一个化合物有时既相当于表面活性剂又相当于流平剂。
[0122] 作为表面活性剂，只要具有流平性提高效果就没有特别限定，作为其具体例，可W 举出例如聚離改性聚二甲基硅氧烷、聚離改性硅氧烷、聚離醋改性含哲基聚二甲基硅氧烷、 聚離改性含丙締酷基聚二甲基硅氧烷、聚醋改性含丙締酷基聚二甲基硅氧烷、全氣代聚二 甲基硅氧烷、全氣聚離改性聚二甲基硅氧烷、全氣聚醋改性聚二甲基硅氧烷等硅氧烷系化 合物；全氣烷基駿酸、全氣烷基聚氧己締己醇等氣系化合物；聚氧己締烷基苯基離、氧化丙 締聚合物、氧化己締聚合物等聚離系化合物；挪子油脂肪酸胺盐、松香等駿酸；藍麻油硫酸 醋类、磯酸醋、烷基離硫酸盐、山梨聚糖脂肪酸醋、横酸醋、班巧酸醋等醋系化合物；烷基芳 基横酸胺盐、横化班巧酸二辛醋钢盐等横酸盐化合物；月桂基磯酸钢等磯酸盐化合物；挪 子油脂肪酸己醇酷胺等酷胺化合物；丙締酸系化合物等。该些表面活性剂可W单独使用，也 可化合用两种W上。该些之中，从显著得到流平性提高效果的方面出发，优选硅氧烷系化合 物和氣系化合物，更优选聚離改性聚二甲基硅氧烷。
[0123] 作为表面活性剂，也可W使用市售品，作为其具体例，可W举出例如BYK-301、 BYK-302、BYK-307、BYK-331、BYK-333、BYK-337、BYK-341、BYK-375、BYK-378、BYK-380N、 BYK-340、BYK-DYNWET800(均为毕克化学?日本株式会社制造）、NI邸化AM-101、NI邸化 AM-30UNI邸OLAM-3130N(均为Nihonsurfactantkogyo株式会社制造）、As址iGuard AG-8025、As址iGuardMA-91 (均为明成化学工业株式会社制造）、AMIPOLAS-8 (日华化 学株式会社制造）、AMOGENAOL、AMOGENCB-C、AMOGENCB-H、AMOGENLB-C、AMOGENNo. 8、 AMOGENS、AM0GENS-H(均为第一工业制药株式会社制造）、AMPHIT0L系列（花王株式会社 制造）、AMP册REX35N、AMP册REX50、AMP册REX50-SF(均为Miyoshi0il&FatCo.，Ltd. 制造）、PlascoatRY-2 (互应化学工业株式会社制造）、ENAGICDLC-30B(LION株式会社制 造）、0bazorin662N、CatinalA0C(均为东邦化学工业株式会社制造）、0funonD(化shiro 化学工业株式会社制造）、CLINKA-27(夕yシクA-27)(吉村油化学株式会社制造）、 GenagenB1566(科莱恩（日本）株式会社制造）、CAPST0NEFS-3100(杜邦株式会社制造） 等。
[0124] 作为流平剂，没有特别限定，可W举出例如聚離改性聚二甲基硅氧烷、聚離改性娃 氧烧、聚離醋改性含哲基聚二甲基硅氧烷、聚離改性含丙締酷基聚二甲基硅氧烷、聚醋改性 含丙締酷基聚二甲基硅氧烷、全氣代聚二甲基硅氧烷、全氣聚離改性聚二甲基硅氧烷、全氣 聚醋改性聚二甲基硅氧烷等硅氧烷系化合物；全氣烷基駿酸、全氣烷基聚氧己締己醇等氣 系化合物；聚氧己締烷基苯基離、氧化丙締聚合物、氧化己締聚合物等聚離系化合物；挪子 油脂肪酸胺盐、松香等駿酸；藍麻油硫酸醋类、磯酸醋、烷基離硫酸盐、山梨聚糖脂肪酸醋、 横酸醋、班巧酸醋等醋系化合物；烷基芳基横酸胺盐、横化班巧酸二辛醋钢盐等横酸盐化合 物；月桂基磯酸钢等磯酸盐化合物；挪子油脂肪酸己醇酷胺等酷胺化合物；丙締酸系化合 物等。该些流平剂可W单独使用，也可化合用两种W上。该些流平剂中，由于与通用的娃酬 制胶布的亲和性优异，因而优选硅氧烷系化合物、氣系化合物、丙締酸系化合物。
[01巧]作为流平剂，也可W使用市售品，作为其具体例，可W举出例如BYK-325、BYK-345、BYK-346、BYK-347、BYK-348、BYK-349、BYK-UV3500、BYK-380N、BYK-381、BYKETOL-AQ、 BYKETOL-WS(均为毕克化学?日本株式会社制造）、P0LYFL0WWS、P0LYFL0WWS-30、P0LYFL0W WS-314(均为共荣社化学工业株式会社制造）等。
[01%] 通过混配水溶性抗氧化剂，能够提高使用透明导电膜形成用组合物而形成的透明 导电膜的耐热性、耐湿热性。
[0127] 作为水溶性抗氧化剂，没有特别限定，可W举出还原性的水溶性抗氧化剂、非还原 性的水溶性抗氧化剂等。
[0128] 作为还原性的水溶性抗氧化剂，可W举出例如k抗坏血酸、k抗坏血酸钢、k抗 坏血酸钟、D(-)-异抗坏血酸（异抗坏血酸）、异抗坏血酸钢、异抗坏血酸钟等具有被2个哲 基取代的内醋环的化合物；麦芽糖、乳糖、纤维素二糖、木糖、阿拉伯糖、葡萄糖、果糖、半乳 糖、甘露糖等单糖类或二糖类（其中不包括庶糖）；儿茶素、芦了、杨梅素、搬皮素、山奈酪、 SANMELIN(注册商标）Y-AF等类黄酬；姜黄素、迷迭香酸、绿原酸、对苯二酪、3, 4, 5-S哲基 苯甲酸、丹宁酸等具有2个W上酪哲基的化合物；半脱氨酸、谷脱甘肤、季戊四醇四（3-琉基 了酸醋）等具有硫哲基的化合物等。
[0129] 作为非还原性的水溶性抗氧化剂，可W举出例如苯基咪挫横酸、苯基S挫横酸、 2-哲基喀晚、水杨酸苯醋、2-哲基-4-甲氧基二苯甲酬-5-横酸钢等将导致氧化劣化的紫 外线进行吸收的化合物。
[0130] 该些水溶性抗氧化剂可W单独使用，也可W合用两种W上。
[0131] 该些之中，优选选自由具有被2个哲基取代的内醋环的化合物W及具有2个W上 酪哲基的化合物组成的组中的至少一种化合物，更优选k抗坏血酸、D(-)-异抗坏血酸、或 者SANMELIN(注册商标）Y-AF、丹宁酸。
[0132] 在透明导电膜形成用组合物含有水溶性抗氧化剂的情况下，对其含量没有特别限 定，相对于导电材料的固体成分100重量份优选为0. 001重量份~1000重量份、更优选为 0. 1重量份~500重量份、进一步优选为0. 05重量份~300重量份。
[0133] 水溶性抗氧化剂的含量小于0. 001重量份时，有时不能充分提高使用透明导电膜 形成用组合物而形成的透明导电膜的耐热性和耐湿热性，另一方面，超过1000重量份时， 使用透明导电膜形成用组合物而形成的透明导电膜中的导电材料的存在比例变少，有时不 能充分确保透明导电膜的导电性。
[0134] (1-3)凹部
[01巧]本发明的修复和再生方法中的透明导电膜上的凹部为选自由起因于基材形状的 凹陷、存在于透明导电膜的损伤和缺损、将存在于透明导电膜的异物除去而形成的凹陷、W 及对存在于透明导电膜的缺损加压而形成的凹陷组成的组中的至少一种。
[0136] 作为起因于基材形状的凹陷，例如可W举出，在表面具有浅凹（dimple)之类的损 伤的基材上形成透明导电膜的情况下在透明导电膜上产生的凹陷。
[0137] 作为存在于透明导电膜的损伤和缺损，可W举出在形成透明导电膜的过程或组装 到显示装置的过程中在透明导电膜的膜中或膜表面产生的凹状的损伤和缺损。需要说明的 是，在本发明的修复和再生方法中，也可W根据损伤和缺损的形状任意地用抛光纸等对损 伤和缺损表面部分地进行削去的处理。
[013引作为将存在于透明导电膜的异物除去而形成的凹陷，可W举出在形成透明导电膜 的过程中混入了异物的情况下通过将异物除去所导致的在透明导电膜上产生的凹陷。
[0139] 作为对存在于透明导电膜的缺损加压而形成的凹陷，可W举出；在形成透明导电 膜的过程中在透明导电膜的膜中或膜表面（包含透明导电膜与基材的界面）混入了气泡的 情况下，通过对该缺损加压所导致的在透明导电膜上产生的凹陷。
[0140] 作为将存在于透明导电膜的异物除去而形成凹陷的方法，没有特别限定，可W举 出例如用抛光纸削去异物的方法、用粘合漉除去异物的方法等。
[0141] 作为对存在于透明导电膜的缺损加压而形成凹陷的方法，没有特别限定，可W举 出利用粘合漉进行加压的方法等。
[0142] 在本发明的修复和再生方法中，凹部的全长为10ym~300ym很重要，在具有该 范围的全长的凹部的透明导电膜的修复和再生中，能够显著地享有本发明的效果。需要说 明的是，对凹部的深度没有特别限定，为20nm~20ym。
[0143] (1-4)透明树脂层层积工序
[0144] 本发明的修复和再生方法中，在透明导电膜上的凹部层积透明树脂层。
[0145] 作为在透明导电膜上的凹部层积透明树脂层的方法，可W举出；将后述的透明树 脂层形成用组合物涂布至透明导电膜上的凹部后进行加热处理的方法；将预先作为粘合膜 形成的透明树脂层贴合至透明导电膜上的凹部的方法等。
[0146] 将透明树脂层形成用组合物涂布至透明导电膜上的凹部的方法及加热处理的条 件与上述的形成透明导电膜时可采用的方法、条件相同。
[0147] 对透明树脂层的折射率没有特别限定，优选为1. 4~1. 7、更优选为1. 5~1. 6。折 射率小于1. 4时或超过1. 7时，透明导电膜与透明树脂层的折射率差变大，有时无法有效地 进行膜缺陷部的不可见化。
[0148] (1-5)透明树脂层形成用组合物
[0149] 下面，对透明树脂层形成用组合物进行说明。
[0150] 作为透明树脂层形成用组合物，没有特别限定，可W使用含有粘结剂、导电性提高 剂、溶剂等的组合物。
[0151] 能够用于透明树脂层形成用组合物的粘结剂、导电性提高剂、溶剂与上述能够用 于透明导电膜形成用组合物的粘结剂、导电性提高剂、溶剂相同。
[0152] (1-6)修复组合物涂布工序
[0153] 本发明的修复和再生方法还可W在透明树脂层层积工序之前任选地包括在凹部 涂布修复组合物的修复组合物涂布工序。
[0154] 透明导电膜上的凹部为错综复杂的形状时，即使将上述透明树脂层形成用组合物 直接涂布于凹部，透明树脂层形成用组合物也无法遍布凹部的各个角落，有时会产生在透 明导电膜与透明树脂层的界面形成空隙的不良情况。但是，在将透明树脂