92](实施例9)
[0293] 将碳纳米管（Mei jo Nano Carbon社制造、SWNT分散液、碳纳米管浓度0. 1% ) 100 份、烷氧基硅烷低聚物（扶桑化学工业社制造、N-P0S) 1. 3份、己醇（化calai Tesque社制 造、沸点78. 4°C ) 10份、1 %硝酸1份混合，从而得到透明导电膜形成用组合物。利用所得到 的透明导电膜形成用组合物，通过2-1.中记载的方法形成透明导电膜。透明导电膜的膜厚 为 0. 5 um。
[0294] 在透明导电膜中，作为膜缺陷，确认到存在于膜表面的缺损、异物、W及存在于膜 中或膜与基材的界面的缺损。膜缺陷部分最大长度为200 ym。在该透明导电膜上，通过 2-2.中记载的方法形成了凹部。
[0295] 将烷氧基硅烷低聚物（扶桑化学工业社制造、N-P0S)100份、己醇（化calai Tesque社制造、沸点78. 4°C ) 3000份混合，得到修复组合物。对于所得到的修复组合物，利 用3-4.~3-6.中记载的方法评价了全光线透过率、雾度、折射率和色度，结果，制成膜厚为 300皿的干燥膜时的全光线透过率为98. 0%、雾度为0. 3%、在波长633皿的折射率为1. 5、 色度为-0.01。通过2-3.中记载的方法在凹部涂布修复组合物，通过2-4.中记载的方法将 涂布于凹部的不需要的修复组合物除去，通过2-5.中记载的方法进行了加热处理工序。
[0296] 将烷氧基硅烷低聚物（扶桑化学工业社制造、N-P0S)100份、己醇（Nacalai Tesque社制造、沸点78. 4°C ) 950份混合，得到透明树脂层形成用组合物。利用该透明树脂 层形成用组合物，通过2-6.中记载的方法层积透明树脂层，得到透明导电层积体。
[0297](实施例10)
[029引在表面具有直径为150 ym的损伤的玻璃板上，利用实施例1中制作的透明导电膜 形成用组合物，通过2-1.中记载的方法形成透明导电膜。透明导电膜的膜厚为0.2um。在 透明导电膜中，作为膜缺陷，确认到存在于膜表面的缺损，膜缺陷部分最大长度为150 y m。
[0299] 将丙締酸类树脂（化gase chemteX社制造、SG-790、固体成分23%)200份、异氯酸 醋化合物（日本聚氨醋社制造、CORO肥T化、固体成分75% )10份、己醇（化calai Tesque 社制造、沸点78. 4°C ) 5份混合，得到透明树脂层形成用组合物。利用该透明树脂层形成用 组合物，通过2-6.中记载的方法层积透明树脂层，得到透明导电层积体。
[0300](实施例11)
[0301] 在表面具有直径为150 ym的损伤的玻璃板上，利用实施例1中制作的透明导电膜 形成用组合物，通过2-1.中记载的方法形成透明导电膜。透明导电膜的膜厚为0.2ym。在 透明导电膜中，作为膜缺陷，确认到存在于膜表面的缺损，膜缺陷部分最大长度为150 y m。
[0302]将烷氧基硅烷低聚物（扶桑化学工业社制造、N-P0S)100份、己醇（化calai Tesque社制造、沸点78. 4°C ) 3000份混合，得到修复组合物。对于所得到的修复组合物，利 用3-4.~3-6.中记载的方法评价了全光线透过率、雾度、折射率和色度，结果，制成膜厚为 300皿的干燥膜时的全光线透过率为98. 0%、雾度为0. 3%、在波长633皿的折射率为1. 5、 色度为-0.01。通过2-3.中记载的方法在凹部涂布修复组合物，通过2-4.中记载的方法将 涂布于凹部的不需要的修复组合物除去，通过2-5.中记载的方法进行了加热处理工序。
[0303]将丙締酸类树脂OJagase chemteX社制造、SG-790、固体成分23% )200份、异氯酸 醋化合物（日本聚氨醋社制造、CORO肥T化、固体成分75% )10份、己醇（化calai Tesque 社制造、沸点78. 4°C ) 5份混合，得到透明树脂层形成用组合物。利用该透明树脂层形成用 组合物，通过2-6.中记载的方法层积透明树脂层，得到透明导电层积体。
[0304] (实施例 I2)
[03化]在实施例5中制作的透明导电膜形成用组合物中追加丹宁酸（和光纯药工业社制 造）1. 1份，得到透明导电膜形成用组合物。利用所得到的透明导电膜形成用组合物，通过 2-1.中记载的方法形成透明导电膜。透明导电膜的膜厚为0.3 ym。
[0306]在透明导电膜中，作为膜缺陷，确认到存在于膜表面的缺损、W及存在于膜中或膜 与基材的界面的缺损。膜缺陷部分最大长度为200 ym。在该透明导电膜上，通过2-2.中记 载的方法形成了凹部。
[0307]接着，在实施例5中制作的修复组合物中追加丹宁酸（和光纯药工业社制造）5 份，得到修复组合物。对于所得到的修复组合物，利用3-4.~3-6.中记载的方法评价了全 光线透过率、雾度、折射率和色度，结果，制成膜厚为300nm的干燥膜时的全光线透过率为 99.0%、雾度为0.3%、在波长633皿的折射率为1.5、色度为-0.01。通过2-3.中记载的方 法在凹部涂布修复组合物，通过2-5.中记载的方法进行了加热处理工序。
[0308] 进而，利用实施例5中制作的透明树脂层形成用组合物，通过2-6.中记载的方法 层积透明树脂层，得到透明导电层积体。
[0309](实施例 13)
[0310] 在实施例5中制作的透明导电膜形成用组合物中追加丹宁酸（和光纯药工业社制 造）1. 1份，得到透明导电膜形成用组合物。利用所得到的透明导电膜形成用组合物，通过 2-1.中记载的方法形成透明导电膜。透明导电膜的膜厚为0.3 ym。
[0311]在透明导电膜中，作为膜缺陷，确认到存在于膜表面的缺损、W及存在于膜中或膜 与基材的界面的缺损。膜缺陷部分最大长度为200 ym。在该透明导电膜上，通过2-2.中记 载的方法形成了凹部。
[031引接着，利用实施例5中制作的修复组合物，通过2-3.中记载的方法在凹部涂布修 复组合物，通过2-5.中记载的方法进行了加热处理工序。
[0313] 进而，利用实施例5中制作的透明树脂层形成用组合物，通过2-6.中记载的方法 层积透明树脂层，得到透明导电层积体。
[0314](实施例 14)
[0315]在实施例1中制作的透明导电膜形成用组合物中追加丹宁酸（和光纯药工业社制 造）1.2份，得到透明导电膜形成用组合物。利用所得到的透明导电膜形成用组合物，通过 2-1.中记载的方法形成透明导电膜。透明导电膜的膜厚为0.2 ym。在透明导电膜中，作为 膜缺陷，确认到存在于膜表面的缺损。膜缺陷部分最大长度为150 ym。
[0316] 利用实施例10中制作的透明树脂层形成用组合物，通过2-6.中记载的方法层积 透明树脂层，得到透明导电层积体。
[0317](比较例1)
[031引将聚化4-亚己基二氧唾吩）聚苯己締横酸化eraeus社制造、Clevios PH1000) 100份、聚醋树脂（化gase chemteX社制造、G油usen ES-210、固体成分25%)34 份、3-哲基丙膳（东京化成工业社制造、5 D = 17. 2、5 H = 18. 8、5 P = 17. 6) 37份、己醇 (化calai Tesque社制造、沸点78. 4°C ) 255份、离子交换水45份混合，从而得到透明导电 膜形成用组合物。利用所得到的透明导电膜形成用组合物，通过2-1.中记载的方法形成透 明导电膜。透明导电膜的膜厚为0.3 ym。
[0319] 在透明导电膜中，作为膜缺陷，确认到存在于膜表面的缺损、异物、W及存在于膜 中或膜与基材的界面的缺损。膜缺陷部分最大长度为20 ym。
[0320](比较例。
[0321] 根据日本特开2013-142194号公报中记载的方法，在玻璃基材上形成了膜厚为 0.02ym的IT0瓣射膜。
[0322] 在透明导电膜中，作为膜缺陷，确认到异物。膜缺陷部分最大长度为20 ym。在该 透明导电膜上，通过2-2.中记载的方法形成了凹部。
[0323] 将烷氧基硅烷低聚物（扶桑化学工业社制造、N-P0S)100份、己醇（化calai Tesque社制造、沸点78. 4°C ) 1395份混合，得到修复组合物。对于所得到的修复组合物，利 用3-4.~3-6.中记载的方法评价了全光线透过率、雾度、折射率和色度，结果，制成膜厚为 300皿的干燥膜时的全光线透过率为98. 0%、雾度为0. 3%、在波长633皿的折射率为1. 5、 色度为-0.01。通过2-3.中记载的方法在凹部涂布修复组合物，通过2-4.中记载的方法将 涂布于凹部的不需要的修复组合物除去，通过2-5.中记载的方法进行了加热处理工序。
[0324] 将丙締酸类树脂（东亚合成社制造、化rymer S邸301、固体成分40% )40份、己醇 OJacalai Tesque社制造、沸点78. 4°C ) 100份混合，得到透明树脂层形成用组合物。利用 该透明树脂层形成用组合物，通过2-6.中记载的方法层积透明树脂层，得到透明导电层积 体。
[0325] 在W上的实施例和比较例中，通过3-3.~3-8.中记载的方法评价了紧随透明导 电膜形成工序后（修复前）与透明树脂层层积工序后（修复后）的表面电阻率（SR)、全光 线透过率（Tt)、雾度、色度、折射率和外观（目视观察、放大观察）（其中，如上所述，仅仅是 修复后的表面电阻率是在即将进行透明树脂层层积工序前评价的）。另外，通过3-9.中记 载的方法评价了透明树脂层层积工序后（修复后）的耐热性。将结果示于表2。
[0326]
[0327]
[032引
【主权项】
1. 一种透明导电膜的修复和再生方法，该方法的特征在于，该方法包括在透明导电膜 上的凹部层积透明树脂层的工序， 透明导电膜是通过涂布含有导电材料的透明导电膜形成用组合物而形成的，该透明导 电膜被配置于基材的至少一个面上， 凹部为选自由起因于基材形状的凹陷、存在于透明导电膜的损伤和缺损、将存在于透 明导电膜的异物除去而形成的凹陷、以及对存在于透明导电膜的缺损加压而形成的凹陷组 成的组中的至少一种， 凹部的全长为IOym~300ym。2. 如权利要求1所述的修复和再生方法，其中，该方法进一步包括在凹部涂布修复组 合物的工序， 修复组合物在制成膜厚300nm的干燥膜时的全光线透过率为97%以上，雾度为3%以 下，在波长633nm的折射率为1. 40~1. 70,色度为-1. 5~1. 5。3. 如权利要求1或2所述的修复和再生方法，其中，在凹部涂布修复组合物的工序之 后，进一步包括将涂布于凹部的不需要的修复组合物除去的工序、或者加热处理工序。4. 如权利要求1~3中任一项所述的修复和再生方法，其中，修复组合物含有导电材料 和/或粘结剂。5. 如权利要求4所述的修复和再生方法，其中，透明导电膜形成用组合物含有与修复 组合物中的粘结剂相同的粘结剂。6. 如权利要求5所述的修复和再生方法，其中，粘结剂为选自由聚酯树脂、丙烯酸类树 月旨、聚氨酯、环氧树脂、烷氧基硅烷低聚物和聚烯烃树脂组成的组中的至少一种。7. 如权利要求1~6中任一项所述的修复和再生方法，其中，透明导电膜形成用组合物 含有选自由无机导电微粒、金属纳米线和导电性聚合物组成的组中的至少一种作为导电材 料。8. 如权利要求4~7中任一项所述的修复和再生方法，其中，修复组合物含有选自由无 机导电微粒、金属纳米线和导电性聚合物组成的组中的至少一种作为导电材料。9. 一种透明导电层积体，其为具备基材、透明导电膜和透明树脂层的透明导电层积体， 其特征在于， 透明导电膜利用权利要求1~8中任一项所述的修复和再生方法进行了修复和再生。10. 如权利要求9所述的透明导电层积体，其中，基材为玻璃基材，在该透明导电层积 体中依次层积有玻璃基材、透明导电膜和透明树脂层。11. 如权利要求9或10所述的透明导电层积体，其中，透明树脂层为粘合层或硬涂层。12. 如权利要求9~11中任一项所述的透明导电层积体，其中，透明导电膜的膜厚为 30nm~500nm，该透明导电层积体被用于电磁波屏蔽材料、降噪、抗静电材料或透明电极。
【专利摘要】本发明提供透明导电膜的修复和再生方法及透明导电层积体，提供在透明导电膜中存在一定范围的全长的膜缺陷时将膜缺陷部不可见化而将透明导电膜修复和再生的方法。还提供具备通过该方法进行了修复和再生的透明导电膜的透明导电层积体。本发明涉及透明导电膜的修复和再生方法，该方法的特征在于，包括在透明导电膜上的凹部层积透明树脂层的工序，透明导电膜通过涂布含有导电材料的透明导电膜形成用组合物而形成，其配置于基材的至少一个面上，凹部为选自由起因于基材形状的凹陷、存在于透明导电膜的损伤或缺损、将存在于透明导电膜的异物除去而形成的凹陷、以及对存在于透明导电膜的缺损加压而形成的凹陷组成的组中的至少一种，凹部的全长为10～300μm。
【IPC分类】H01B5/14
【公开号】CN104916350
【申请号】CN201510109016
【发明人】大堀达也, 久留岛康功, 常田义真
【申请人】长濑化成株式会社
【公开日】2015年9月16日
【申请日】2015年3月12日