环己醇衍生物作为抗菌抗微生物活性物质的用途
【专利摘要】本发明涉及至少一种式(I)和/或(II)的环己醇衍生物作为抗微生物活性物质或作为抗痤疮、去头屑、止汗剂或除臭活性物质的用途，还涉及包含这些化合物的制剂，以及特定的环己醇衍生物及其制备方法。
【专利说明】环己醇衍生物作为抗菌抗微生物活性物质的用途
[0001]本发明涉及至少一种式I和/或II的环己醇衍生物作为抗微生物活性物质或作为抗痤疮、去头屑、止汗剂或除臭活性物质的用途，还涉及包含这些化合物的制剂，以及特定的环己醇衍生物及其制备方法。
[0002]微生物污染是我们日常生活，例如与化妆品或药物产品、食品、浴室或厨房中或手术器械的表面有关的日常生活中的重要问题。通常使用防腐剂以阻止微生物污染。
[0003]然而，抗微生物活性物质不仅仅作为防腐剂是必要的。抗微生物活性物质还对于许多化妆品应用起重要作用:
[0004]头皮屑形成是人群中很普遍的头皮病症，其通常伴有轻度至中度瘙痒。平常的此类型头皮屑的形成不应被认为是一般意义上的皮肤病。头皮屑可由于头皮损伤产生，其可例如由过度暴露于阳光、空气中的环境影响或化妆发用产品触发。在这种情况下头皮屑由角化细胞的过度产生而形成，通过头皮的微小炎症灶起始，其起因是，例如，由真菌(如糠批马拉色菌(Malassezia furfur)或球形马拉色菌(Malassezia globosa))或细菌引起的微生物繁殖增加。不完全成熟的角化细胞因此以较大的细胞群集(头皮屑)过早地剥落。因为最外面的皮层由于皮肤细胞的丧失变得较薄，头皮屑形成导致头皮的敏感性增加，其表现为瘙痒和发红。
[0005]痤疮指一种表现为炎性丘疹、脓疱或结节的皮肤病，由增加的片层产生(Talkproduktion)和角质化障碍引起。炎症可能与发红、肿胀和压痛相关。除遗传倾向之外，痤疮形成的可能原因可以是雄激素、产生粉刺的物质(例如化妆品内的物质)、吸烟、紧张或细菌在皮肤上的过度繁殖。痤疮可被，例如，微生物，如疮疱丙酸杆菌(Propionibacterium acnes)、颗粒丙酸杆菌(Propionibacterium granulosum)或表皮葡萄球菌(Staphylococcus epidermidis)触发。疮疱丙酸杆菌是一种通常寄居皮肤并靠皮脂生活的细菌。例如，如果这些细菌的数目增加，则痤疮可产生。囊泡内细菌的存在导致炎症反应，其表现为红色结节或脓疱的形式。细菌产生游离脂肪酸还促进囊泡内的炎症反应。
[0006]除水和盐之外，腋汗含有许多其它物质(如脂肪、氨基酸、糖、乳酸、尿素等)。新生成的汗没有气味；典型的汗味首先通过皮肤细菌对汗的作用(分解汗)产生。此种细菌的实例为葡萄球菌属(Staphylococcus)、棒状杆菌属(Corynebacterium)或马拉色氏霉菌属(Malassezia)。因此,除芳香剂和止汗剂之外在除臭剂和止汗剂中还通常使用抗微生物物质，旨在控制与臭味形成有关的细菌。
[0007]在制剂中使用抗微生物物质的情况下，特别是它们的相容性，还有它们在相应制品(例如香波、霜剂、除臭剂)中的可配制性(即溶解度、稳定性等)是至关重要的。特别是在化妆品中，这些性质是必要的。因此，例如，特别期望成分在大气压下在_5°C至40°C之间处于液体的物态。
[0008]因此本发明的目的是提供具有抗微生物作用的新成分，其具有上面提到的有利的性质。
[0009]令人惊奇地，现在已经发现某些环己醇衍生物在具有优良的抗微生物作用的同时还具有上面提到的性质。[0010]在先有技术中有用于化妆品中的类似化合物的描述。
[0011]US5858958描述了作为有效抗氧化剂的4_叔丁基环己醇。没有描述抗微生物作用。
[0012]在W091/09589中公开了用于口腔和牙齿护理制剂的环烷甲酸的磷酸酯。
[0013]W003/057184A2描述了苯并羟酰胺用于使皮肤增亮的用途。
[0014]其它已知的环己醇衍生物是P-薄荷烷-3，8- 二醇(PMD)，其作为柠檬桉香精油的成分，具有驱虫剂作用。
[0015]因此本发明首先涉及至少一种式I和/或II化合物作为抗微生物活性物质的用途
[0016]
【权利要求】
1.至少一种式I和/或II化合物作为抗微生物活性物质的用途
2.根据权利要求1的在化妆品/药物制剂、医药产品、食品、家用产品、塑料制品、纸和/或涂料中的用途。
3.根据权利要求2的在牙齿或口腔护理产品中的用途。
4.至少一种式I和/或II化合物作为抗痤疮、去头屑、止汗剂或除臭活性物质的用途
5.根据权利要求1至4中一项或多项的用途，其特征在于，所述基团Rl、R2、R3、R4和R5彼此独立地代表H或0H，其中基团R1、R2、R3、R4和R5的1、2或3个基团代表0H。
6.根据权利要求5的用途，其特征在于，所述式I和II化合物选自式la、lb、IIa和IIb化合物
7.根据权利要求1至6中的一项或多项的用途，其特征在于，所述基团R6和R7代表选自下列的基团:
_Η，
-CH2-CH2-OH, -含I至10个C原子的直链或支链烷基基团，其还可含有饱和或不饱和的C6-环烷基基团。
8.根据权利要求7的用途，其特征在于，使用选自式1-1至1-28化合物的式I化合物
9.包含至少一种式I和/或II化合物和至少一种适宜的载体的制剂
10.根据权利要求9的制剂，其特征在于，以基于制剂总量的0.01至20%重量的量包含式I和/或II化合物。
11.根据权利要求9或10的制剂，其特征在于，所述制剂为除臭剂、止汗剂、去头屑或抗痤疮组合物或抗菌制剂，尤其用于牙齿或口腔护理。
12.制备根据权利要求9至11中一项或多项制剂的方法，其特征在于，将所述式I和/或II化合物与适宜的载体混合。
13.式la、Ib、IIa或IIb化合物
14.根据权利要求13的化合物，其特征在于，所述化合物选自下列化合物:
15.制备根据权利要求13或14的式Ia、Ib、Ic或Id化合物的方法，其特征在于，将式Ia_x、Ib-χ> IIa-χ 或 IIb-χ 化合物
【文档编号】C11D3/48GK104010525SQ201280063200
【公开日】2014年8月27日 申请日期:2012年12月3日 优先权日:2011年12月21日
【发明者】T·鲁道夫, T·米勒 申请人:默克专利股份有限公司