光学可变装置,安全装置和利用它的制品及其生产方法

文档序号:2649813阅读:290来源:国知局
专利名称:光学可变装置,安全装置和利用它的制品及其生产方法
技术领域
本发明总体上涉及光学可变装置(OVD),更具体地涉及具有整体成像系统的0VD, 该整体成像系统包括聚焦元件阵列和相应的微对象(micro-object)阵列,当通过透镜阵 列进行观察时,所述微对象的外观根据观察OVD的相对位置而改变。本发明还涉及包括这 种OVD的安全装置、利用这种安全装置的制品、以及生产这种OVD的方法。
背景技术
光学可变装置(OVD)是这样的视觉装置当从不同的相对观察点进行观察时,该 视觉装置在外观上产生变化或偏移,例如但不限于,颜色的变化。OVD作为安全装置的发展 主要源于寻找用于防止特定制品或产品的伪造或者明显呈现这样的复制的机制。例如但不 限于,纸币、钞票、证书、安全标签、产品吊牌、驾驶证、身份证、信用卡等等,经常利用一个或 多个OVD以防止伪造或者证实其真实性。在一些OVD中所利用的伪造防止手段包括使用一个或多个图像,所述的一个或多 个图像所表现出的光学效果不能通过传统的印刷和/或影印处理得到重现。在一些例子 中,所述的图像包括全息图,其中,当从预定的位置观察OVD时,产生例如但不限于图像移 动的光学效果。然而,为了保持在伪造者获取或仿造新图像技术的能力之上,不断地需要额 外的独特的效果。因此,随时间的推移而发展了具有与图像相关的光学效果的其它安全机 制。一种这样的光学效果是基于莫尔放大概念来展现出一个或多个对象的至少一种 放大形式,所述的莫尔放大是指一种现象,即,当使用透镜阵列去观察位于透镜的焦点处的 相同对象或者相同对象元素的阵列时发生的现象,这两个阵列具有近似相同的节距。莫尔 放大是本领域所熟知的,并且与积分图像(integralimage)的产生和积分摄影有关。当透 镜阵列与对象阵列对准时,就会观察到莫尔图案,在所述莫尔图案中,每一个莫尔条纹由对 象阵列的重复元素的放大的图像组成。当这些阵列相互旋转时,图像的放大倍数和取向就 会发生改变。通常,已知的OVD莫尔放大方法涉及以下步骤产生多个微对象,选择性地布置微 对象,以及提供一个相应布置的微聚焦元件的覆盖层(overlyinglayer)。聚焦元件通常是 球形或柱形透镜。这样,这种OVD通常包括顶透镜层、中间基板、以及底印刷或对象层,所述 的底印刷或对象层包含当通过透镜进行观察时将被放大或者要不然改变的微对象。微对象 层通常包括印刷品。传统的印刷技术限制了各个印刷元素的尺寸,这就意味着大约50到 250微米的透镜直径是实践上可用于使用传统印刷技术的这种构造中的最小尺寸。为了实 现足够的光学性能,使用上述尺寸的透镜类型要求相似大小(例如,大约50到250微米) 的焦距。因此,具有上述构造的OVD对于期望更薄的安全制品的很多应用来说太厚了。
美国专利5712731公开了一种0VD,其包括直径在50到250微米范围中的基本上 球形的透镜的阵列、以及相关联的印刷微图像阵列。透镜的直径为50到250微米,透镜的 典型焦距为200微米。主要取决于焦距的OVD的总厚度为大约250至450微米。但是,这样的厚度并不适用于某些制品,例如但不限于钞票、支票、安全标签以及 证书。因此,已经尝试去提供更薄的(例如大约50微米或更小)并因此适用于这些应用的 积分成像0VD。这种尝试通常使用压花、浇铸或者其它非印刷的微对象,这些微对象可以被 制造得比印刷微对象小。这样就允许使用更短焦距的透镜,从而产生更薄的装置。美国专利7468842公开了一种具有微对象的积分成像系统,其厚度小于50微米, 所述的微对象是由微结构化的物理浮雕形成的。孤立的物理浮雕由于在高低区域之间没有 视觉对比度而很难观察到。该专利还公开了在由微结构化的物理浮雕形成的微对象中产生 视觉对比度的技术。例如,浮雕中的凹部可被不透明的或者有颜色的材料涂敷,或者,浮雕 可以形成在特定区域中反射或吸收光的光学结构。但是,仍然需要一种具有下述更加精细的光学效果的非常薄的OVD及其制作方 法提供与现有的光学安全特征和莫尔放大方法明显不同的视觉差异,因而更加难以仿造。

发明内容
通过本发明的实施例满足上述和其它的需求,本发明的实施例针对一种光学 可变装置,该光学可变装置包括与包含视觉数据元素的共面数据承载体(co-planar data-bearing volume)组合的聚焦元件阵列,其中聚焦阵列提供所述数据元素的放大视 图。通常,OVD包括具有第一表面和第二表面的基板;设置在第一表面上的体 (volume),在该体内包含多个视觉数据元素或对象;以及设置在第二表面上的聚焦元件或 透镜的阵列。光学几何结构被布置为聚焦阵列被设置在观察者和对象阵列之间,当从预定 的相对点观察OVD时,观察到至少一个数据元素的至少一种放大的视觉表示。在一种构造中,聚焦阵列和对象阵列被制造在分离的基板上并被永久地组合 (即,层叠),或者被制造在同一基板的相对侧上。在这种构造中,整个OVD被附着到制品上, 作为公开的防伪装置。在另外一种构造中,对象阵列被制造在一个基板上,而相应的聚焦阵列被制造在 分离的基板上。对象阵列作为隐蔽的安全装置被附着到遭受伪造的制品上。在没有聚焦阵 列的情况下,数据元素是不可见的。为了确认制品的真实性,使用者将聚焦阵列放置成与对 象阵列相对,从而实现光学效果并显示数据元素的放大图像。在该构造的另一形式中,具有 反射放大器的聚焦阵列被附着到制品上。为了确认制品的真实性,使用者将对象阵列放置 成与聚焦阵列相对,从而显示数据元素的放大图像。对象阵列可以包括在对象层内选择性地组织的多个独立的数据元素,并且可以 包括在体内形成可见图像的任意元素。例如,但非限制性的是,数据元素可以通过光波的 干涉效应产生,其包括诸如体全息图、李普曼照片、多层光学干涉膜、标准具结构(etalon structure)、液晶材料层、设置在基板内的颜色效应薄片(color-effect flake)或墨、或者 它们的组合之类的技术。这种对象阵列与现有技术根本不同,在现有技术中,对象元素被印 刷到基板的表面上或者被压花到基板中以形成凹部或物理浮雕。
聚焦阵列可包括选择性地组织到聚焦层中的多个折射、衍射或反射元件,其中,所 述聚焦层的元件被结构化为取决于要观察OVD的预定的相对观察点,折射、衍射或反射不 同波长的光,并且/或者以不同的焦距折射、衍射或反射光。聚焦元件还可以是反射放大 器。聚焦元件可按照线形或圆形图案或者它们组合的图案设置,并且可以包括具有改变的 形状或轮廓的元件,以产生特定的光学优点或效果。除了数据元素的至少一种放大形式以 外,聚焦元件还可以被结构化为(通过自身或者与数据元素结构的组合)赋予额外的一种 或多种光学效果。这种额外的光学效果可从下列组中进行选择,该组包括观察到的颜色的 变化;与照明和观察的角度相关的对比度的变化;数据元素的观察到的视觉表示的移动或 动画;数据元素的观察到的视觉表示的尺寸或形状的变化;观察到的视觉表示的偏振特性 (其可以是线偏振或圆偏振的形式)的变化;以及数据元素的观察到的视觉表示到第二不 同的图像或光学效果的变换,或者,数据元素的观察到的视觉表示到多种不同的图像或光 学效果的变换。聚焦阵列可被耦接到基板,例如,通过粘合剂或通过压花、浇铸、注塑到基板上,或 者,例如通过激光切入到基板的表面。例如,聚焦阵列可通过压花或模制直接形成到数据承 载体的表面中。聚焦阵列可以是但不必一定是能够从对象阵列去除的。OVD还可包括从下列组中选择的至少一个附加层,该组包括金属层;部分透明部 分反射层;反射层;保护层;以及附加基板。保护层可覆盖至少一个聚焦元件、至少一个数 据元素以及至少一个基板。本发明还公开了包括上述OVD的安全装置、包括这种安全装置的制品、以及制造 这种OVD的方法。


图1是根据本发明实施例的示例OVD的侧视图IA是根据本发明实施例的示例OVD和放大图像的等角图2是根据本发明实施例的示例OVD的侧视图3是根据本发明实施例的示例OVD的侧视图4是根据本发明实施例的示例OVD的侧视图5是根据本发明实施例的示例OVD的侧视图6是根据本发明实施例的示例OVD的侧视图7是根据本发明实施例的示例OVD的侧视图8是根据本发明实施例的示例OVD的侧视图9是根据本发明实施例的示例OVD的侧视图10是根据本发明实施例的示例OVD的侧视图11是利用根据本发明实施例的OVD的制品的简化的放大透视图;以及
图12是示出根据本发明实施例的OVD的制作方法的步骤的流程图。
具体实施例方式
本文所使用的术语“光学可变装置”(OVD)在其传统的广义上得以使用,并且包括 单一光学元件的使用,或者包括布置为阵列的多个光学元件的使用,所述多个光学元件可以相互接触或不接触、重叠、或物理上相互接近。这样,本文所使用的“安全装置”是指利用 一个或多个OVD以便检验设置有该安全装置的制品的真实性并防止和抵制该制品的复制 或伪造的任何已知的或合适的装置。本文所使用的术语“制品”是指利用示例OVD的物品或产品,确切地包括但不限 于,在高安全性行业、银行业、鉴定和品牌保护市场中使用的制品,例如身份证、信用卡、借 记卡、智能卡、组织会员卡、安全系统卡、安全通行证、钞票、支票、财政税印花税票、护照叠 层体(passport laminate)、法律文件、包装标签、以及提供信息的其它制品,其中,可能希 望证实制品的真实性,并且/或者防止对制品的修改、窜改或复制。本文所使用的术语“对象”和“数据元素”是指为了表现出期望的光学效果(例如 但不限于放大、移动或动画、或者颜色变化)而在示例OVD中实施的任何已知的或合适的图 形、图片、阵列、图案等。作为一个例子,根据本发明的一个实施例的光学效果是当从预定的 相对观察点观察OVD时对象的放大的视觉表示。根据本发明,在任何合适的构造中,一个或 多个对象可以独自地布置,或者,可以与其它的对象、元素和阵列组合布置,以便形成“对象 阵列”、“对象层”、“微对象层”、“数据元素阵列”、“数据元素层”或者“数据元素体”。为了简化图解,根据本发明的在附图中示出且在本文中描述的示例OVD以简化、 放大的形式示出。具体地说,为了更加清楚地显示OVD的特征或部件、元件、层和整体结构, 诸如各种结构的厚度的OVD的特定特征以放大的形式示出了,因而不是按比例绘制的。体全息图(volume hologram)是本领域所熟知的数据承载体,并且是由驻波图案 产生的反射和/或衍射元素的阵列,该驻波图案是由光敏体内的至少两种相干激光辐射波 图案的干涉形成的。一种波图案从目标主体(target subject)反射或透射通过该目标主 体,并入射到光敏体的一侧。第二波图案与主体波图案不同,并且通常是称为参考波的平面 波阵面。参考波也可以是复波。但是,参考波从与承载主体信息的波相对的一侧入射到光 敏体上。一旦全息图被曝光了并经处理,以与参考波相同的入射角度入射的光就会在原始 主体的位置或者其非常接近处重新构建或投射原始主体的图像。在本发明的优选实施例中,数据承载体是这样的体全息图其中,投射的全息图像 形成实现莫尔放大条件所需的微对象阵列。图1示出OVD 101,其具有包括聚焦元件103的阵列的聚焦层102 ;支撑基板104 ; 以及包括一个或多个反射和/或衍射数据元素106的体全息图105。聚焦元件103可以是 梯度折射率光学器件,或者是传统的折射透镜、衍射透镜或混合透镜。支撑基板104是光学 透明的,从而允许光通过并进入体全息图105,体全息图105将微对象107重新构建至预定 的虚拟位置,如图所示。光被体全息图105内的数据元素106反射或衍射,以产生虚拟对象 阵列108,该虚拟对象阵列108与聚焦层102结合在一起满足了莫尔放大条件。从点A处将 会观察到虚拟对象阵列108的放大图像200。例如,但非限制性的是,体全息图105可重新构建具有离散的相同形状的阵列 108,例如,一个或多个字母数字字符(例如,图IA的非限制性的实施例中所示的字符 “US”) 107的阵列。更具体地,针对图IA的例子来说,每一个虚拟位置107将被字符“US”的 虚像所占据,而虚拟对象阵列108是多个重复的“US”字符的阵列,如图所示。如图所示(例 如,根据图IA的透视图,观察点A的右边),当通过聚焦层102 (在图IA中,是凸透镜103的
7阵列)进行观察时,在以特定的角度照射体全息图105的情况下,观察者会看到“US”字符 的放大形式(例如,并不限于从观察点A处)。为了构建体全息图105,将光敏材料体暴露 于两种相干激光辐射波图案下,所述的体全息图105重新构建包括相同的字符“US”的阵列 的虚拟对象阵列108。一种波图案(通常称为对象波)被字符“US”的阵列的物理表示反射 或者透射通过字符“US”的阵列的透明体,另一种波图案(通常称为参考波)被定向为在没 有被阵列反射的情况下直接入射到光敏体的另一侧。这两种波图案在光敏体内干涉,从而 产生用于对字符“US”的对象阵列108的图像进行编码和记录的驻波图案。一旦经过处理, 当用与参考波相同的入射角度的光进行照射时,体全息图105将会重新构建字符“US”的原 始对象阵列108的虚像200。照射该结构的光必须来自观察者一侧,并且重新构建的微对象是在一个特定的角 度范围内产生的,所述特定的角度范围由在产生体全息图期间普遍存在的几何结构决定。 因此,可以在一个特定的锥形视角内产生放大的图像。另外,数据承载体可以承载来自几 个不同的微对象阵列的反射和/或衍射的干涉面,并且每一个都能以不同的锥形视角重现 (replay),从而对于观察者在同一平面内但以不同的视角产生多个放大的图像。这样的复 合对象阵列基本上不同于通过印刷或其重现和层几何结构固定的表面浮雕而产生的对象 阵列。可以使虚拟对象阵列在距离数据承载体的任意距离处聚焦,由于从聚焦元件到微对 象阵列的距离决定莫尔放大条件,所以基板的层厚可以是非常薄。在本发明的另外一个实施例中,聚焦层可以是分离的元件,并在后生产环境中与 体全息图105a重新组合。图2以两部分的形式示出OVD IOla 第一部分,包括由聚焦元件 103a的阵列组成的聚焦层102a ;第二部分,包括支撑基板104a和包括一个或多个反射和/ 或衍射数据元素的体全息图105a。支撑基板104a和体全息图105a可以附着到诸如安全 文件的制品上。当将聚焦层102a放置在支撑基板104a和体全息图105a之上时,聚焦元件 103a就会显示放大的图像,从而提供隐蔽的法律性的安全特征。图3示出根据本发明的另外一个实施例,其中,聚焦层102b被直接施加到体全息 图105b的表面,所述的体全息图105b包括以不同的视角的与一个或多个微对象阵列相关 的干涉图案。在这个实施例中,支撑基板104b不必是光学透明的。聚焦层102b和体全息图105b可以形成在分离的基板上并连接在一起,或者聚焦 阵列102b可直接形成在体全息图105b的表面,例如,可以通过压花或者模制将聚焦阵列 102b直接形成在包括体全息图105b的光敏聚合物材料的表面。在这个实施例中,支撑基板 104b也不必是光学透明的。在本发明的另外一个实施例(未示出)中,聚焦层可以是分离的元件并在后生产 环境中与体全息图重新组合。当将聚焦元件覆盖在包含体全息图的制品之上时,聚焦元件 就会显示放大的图像,从而提供隐蔽的法律性的安全特征。例如,但非限制性的是,将会 认识到,当聚焦阵列相对于对象阵列未对准(例如,但不限于,旋转)时,放大倍数的水平 (即,视觉表示呈现得多大或多小)和/或被放大的对象元件的旋转可以改变。在本发明的另外一个实施例中,将释放粘合剂层施加到支撑基板和数据承载体之 间,从而在施加时,释放层被激活,并且,在添加聚焦层之前将支撑基板去除。这样就留下了 非常薄的结构,该结构适合于诸如叠层体(特别是护照的应用。图4表示这种实施例的OVD 101c,其中,支撑基板被去除了,聚焦层102c与体全息图105c组合。进入体全息图105c
8的光被数据元素106c反射或衍射,从而在预定的虚拟位置处产生包括重新构建的微对象 107c的虚拟对象阵列108c。虚拟对象阵列108c与聚焦层102c结合满足莫尔放大条件,导 致从点A处可以观察到虚拟对象阵列108c的放大图像。另外的实施例也会提供聚焦层作为分离的元件,从而产生隐蔽的法律性的安全特 征。图5示出本发明的OVD IOld的另外一个实施例,其中,聚焦层102d包括作为反 射放大器的聚焦元件103d。在这个实施例中,支撑基板104d是光学透明的,从而允许光通 过并进入聚焦层102d,在聚焦层102d中,光被反射回通过支撑基板104d并进入体全息图 105d,从而将微对象107d重新构建到预定的虚拟位置。光被体全息图105d内的数据元素 106d反射和/或衍射,以产生虚拟对象阵列108d,所述的虚拟对象阵列108d与聚焦层102d 结合满足莫尔放大条件。如图所示,从点A处会观察到虚拟对象阵列108d的放大的镜像 200d。本发明的另外的实施例可以将包括按两部分布置的反射放大器的聚焦层在对象 层与聚焦层之间与基板组合,将聚焦层直接施加到体全息图的表面,或者在支撑基板与数 据承载体之间施加释放层,从而在施加时,释放层被激活,并且在添加聚焦层之前将支撑基 板去除。为了额外的安全性,防窜改特征可以被加入到OVD中。图6示出了本发明的OVD IOle的实施例,其中,图案化的释放层601设置在聚焦层102e和支撑基板104e之间。然 后,OVD IOle形成窜改显示单元或标签,当通过粘合剂将其施加到制品时,该窜改显示单元 或标签提供在视觉上指示窜改或改变的证据的方法。去除或窜改OVD IOle的任何尝试都 会导致图案化的释放层601分离,这样就破坏了由聚焦层102e所形成的虚拟对象阵列108e 的莫尔放大的区域,从而向观察者清楚地指示OVD IOle已经被窜改。在包括防窜改特征(未示出)的另外一个实施例中,支撑基板104e可设置在远离 观察者的体全息图105 —侧(如图3所示的布置),并且图案化的释放层601可设置在聚焦 层102e和体全息图105e之间。在这个实施例中,支撑基板104e不必是光学透明的。在相关的实施例中,释放粘合剂层(未示出)可以设置在支撑基板104e和体全息 图105e之间,从而,在施加时,释放层被激活,并且,在将图案化的释放层601与聚焦层102e 连接之前去除支撑基板104e。除了体全息图以外,其它的体效应也可以用来提供产生微对象的数据元素。例如, 但非限制性的是,可以使用李普曼照片。在李普曼照相术(即,与体全息术类似的过程,也 是本领域所熟知的)中,来自对象的光被聚焦到光敏体上并与反射面直接接触。该光自身 被反射回来,发生干涉,从而产生与光敏介质反应的驻波。在化学处理过程中,驻波的节点/ 腹点在光敏体内变成了折射率的改变,并通过称为布拉格反射的过程反射光。与体全息图 不同,入射光是不具有相干性的自然白光,因此,取决于光的颜色,以不同的周期产生驻波 图案。当处理和照射时,光在所有的方向上被反射,但是,对于每一个波长,只有在已产生驻 波的方向上反射的光才会发生相长干涉。这样导致了原始主体的非常强的、高分辨率的、全 色图像。这种图像可以提供满足莫尔放大条件的非常高分辨率的、全色微对象阵列。图7示出了 OVD 101f,其具有包含聚焦元件103f的阵列的聚焦层102f ;支撑基 板104f ;以及包括一个或多个折射率变化(布拉格反射器)702的李普曼照片701。反射层703被设置在支撑基板104f和李普曼照片701之间。如前所述,聚焦元件103f可以是梯度 折射率光学器件,或者是传统的折射透镜、衍射透镜或混合透镜。支撑基板104f不必是光 学透明的。反射层703可由任何合适的反射材料(例如但不限于反射金属,例如铝)形成。 照明光可以是漫射的白光并来自位于点A处的观察者的方向,从而会反映数据承载体701 内的折射率变化702,以在虚拟对象阵列108f中产生重新构建的微图像107f,所述的虚拟 对象阵列108f与聚焦层102f结合满足莫尔放大条件。根据莫尔放大的几何学,以预定的 视角,位于点A处的观察者会看到全色的高分辨率的微图像107f的放大图像。除了李普曼照片和体全息图之外,本发明的数据承载体还可以包括多层光学干涉 膜,其中,多层的合成在给定的光波长范围内提供了彩虹反射,其中,一个或多个层的连续 性被改变以提供在膜体内编码光学数据的手段。光学干涉膜的技术是本领域所熟知的。这样的膜可以分为两类包括由少量层组 成的层堆的那些膜和包括由大量层组成的层堆的那些膜,所述少量层通常但不限于是指3 到5层(但是并不仅限于此),所述大量层通常但不限于是指10到100层,它们形成布拉格 型结构。在这两种情况中,层堆包括折射率交替地不同的层。在本发明的另外的实施例中,数据承载体包括包含少量层的光学干涉膜。这些层 的材料可以全部是电介质或者金属电介质,或者是它们的组合。这些层可以通过本领域熟 知的几种方法(例如,真空蒸发、真空溅射、化学气相沉积法等)中的任何方法来涂敷。在 膜层由有机化学材料形成的情况中,有利地,可以利用本领域已知的印刷、涂敷或者挤压方法。这种光学干涉膜的示例性实例为
材料
1) 电介质贴膜:
厚度(
折射率
权利要求
1.一种光学可变装置,包括聚焦元件阵列,该聚焦元件阵列与包含视觉数据元素的共面数据承载体组合,其中,聚 焦元件阵列提供所述数据元素的放大视图。
2.根据权利要求1所述的光学可变装置,其中,包含在数据承载体内的视觉数据元素 是通过光波的干涉效应产生的。
3.根据权利要求2所述的光学可变装置,其中,数据承载体是体全息图。
4.根据权利要求2所述的光学可变装置,其中,数据承载体是李普曼照片。
5.根据权利要求2所述的光学可变装置,其中,数据承载体是多层光学干涉膜。
6.根据权利要求2所述的光学可变装置,其中,数据承载体是液晶材料层。
7.一种安全装置,包括至少一个光学可变装置,所述至少一个光学可变装置包括 聚焦元件阵列,该聚焦元件阵列与包含视觉数据元素的共面数据承载体组合,其中,聚焦元件阵列提供所述数据元素的放大视图。
8.根据权利要求7所述的安全装置,其中,聚焦元件阵列和数据承载体是分别形成的, 使得只有当使用者将所述聚焦元件阵列和所述数据承载体组合时才提供所述数据元素的 放大视图。
9.一种制品,包括 表面;和为了防止所述制品的伪造而耦接到所述表面的至少一个安全装置,所述安全装置包括 至少一个光学可变装置,所述光学可变装置包括聚焦元件阵列,该聚焦元件阵列与包含视觉数据元素的共面数据承载体组合,其中,聚 焦元件阵列提供所述数据元素的放大视图。
10.一种制品,包括 表面;和为了防止所述制品的伪造而与所述制品相关联的至少一个安全装置,所述安全装置包 括至少一个光学可变装置,所述光学可变装置包括聚焦元件阵列,该聚焦元件阵列与包含视觉数据元素的共面数据承载体组合,其中,聚 焦元件阵列提供所述数据元素的放大视图,其中,包含在安全装置中的聚焦元件阵列和数据承载体是分别形成的,所述聚焦元件 阵列和所述数据承载体中的至少一个被耦接到所述表面,并且,只有当使用者将所述聚焦 元件阵列和所述数据承载体组合时才提供所述数据元素的放大视图。
11.一种产生具有至少一个光学可变装置的安全装置的方法,所述光学可变装置包括 聚焦元件阵列,该聚焦元件阵列与包含视觉数据元素的共面数据承载体组合,聚焦元件阵 列提供所述数据元素的放大视图,该方法包括设计对象图像; 形成用于聚焦层的母版;形成用于包括至少一个微对象的对象层的母版,其中,对象层是具有基本上平坦的表 面的数据承载体;以及复制所述聚焦层和所述对象层,其中,当所述复制的聚焦层被放置在观察者与所述复制的对象层之间时,从预定的相对观察点处观察到所述微对象的至少一个放大的视觉表示。
12.根据权利要求11所述的方法,还包括在基板的第一部分和第二部分上分别层叠 所述聚焦层和所述对象层。
13.根据权利要求11所述的方法,还包括将所述对象层层叠到基板,以及将所述聚焦 层层叠到所述对象层。
全文摘要
本发明公开一种具有积分成像系统的光学可变装置(“OVD”),该光学可变装置包括聚焦元件和微对象阵列,其中,当通过聚焦元件观察时,根据观察OVD的相对位置,微对象阵列的外观发生改变。本发明还公开了包括OVD的安全装置以及产生OVD的方法。
文档编号B42D15/00GK102092210SQ20101062502
公开日2011年6月15日 申请日期2010年12月10日 优先权日2009年12月11日
发明者D·W·托姆金斯, P·邓恩, R·E·伦顿 申请人:奥普赛科安全集团股份有限公司
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