包括液晶调制器的基板检查设备及液晶调制器的制造方法
【专利说明】包括液晶调制器的基板检查设备及液晶调制器的制造方法
[0001]本申请要求于2013年12月3日提交的第10-2013-0149220号韩国专利申请的优先权，该韩国专利申请的全部通过引用完全包含于此。
技术领域
[0002]本公开涉及一种包括液晶调制器的基板检查设备，更具体地说，涉及一种用于检测基板的缺陷的基板检查设备和一种包括在该基板检查设备中的液晶调制器的制造方法。
【背景技术】
[0003]近来，已经开发出了诸如液晶显示器(IXD)、有机发光显示器(OLED)和等离子体显示面板(rop)的显示装置。这些显示装置具有分辨率高、超纤薄、重量轻以及优异的视角特性。
[0004]这种显示装置包括用于显示图像的像素。每个像素可包括像素电极和诸如分别与像素电极对应并且电连接到像素电极的薄膜晶体管的驱动电路。存在着检查显示装置的像素电极和驱动电路的缺陷的需要。
【发明内容】
[0005]一些实施例提供一种包括液晶调制器的基板检查设备及一种基板检查设备的液晶调制器的制造方法。
[0006]在一些实施例中，一种用于检测基板缺陷的基板检查设备可包括:液晶调制器，被构造为设置在所述基板上；光源单元，设置为与液晶调制器分隔开；分束器，设置在液晶调制器与光源单元之间，以将来自光源单元的光束反射至液晶调制器；测量单元，适于感测从液晶调制器反射的光束。液晶调制器包括:透明基板；共电极，设置在透明基板上；液晶层，设置在透明基板上以与共电极接触；反射层，设置在聚合物网络液晶上。
[0007]在一些实施例中，光源单元可包括:光源，用于发射光束；均束器，用于引导从光源发射的光束；反射器，用于沿分束器的方向反射从均束器发射的光束。均束器可以被设置为杆管的形式。
[0008]在一些实施例中，基板检查设备还可以包括设置在反射层上以支撑反射层和液晶层的第一支撑部件。第一支撑部件包括第一支撑片、设置在第一支撑片的一个表面上以保护第一支撑片的保护层以及设置在第一支撑片的另一个表面上的硬涂层。保护层设置在第一支撑片与反射层之间。
[0009]在一些实施例中，反射层可包括介电镜。介电镜可包括具有第一折射率的多个第一介电层以及具有与第一折射率不同的折射率的多个第二介电层。第一介电层与第二介电层可以交替布置。
[0010]在一些实施例中，液晶层可以包括聚合物网络液晶。
[0011 ] 在一些实施例中，基板检查设备还可以包括设置在透明基板与共电极之间的粘合层以及设置在共电极与粘合层之间以支撑共电极的第二支撑部件。
[0012]在一些实施例中，一种基板检查设备的液晶调制器的制造方法可包括:在透明基板上形成共电极；在共电极上直接形成液晶层；在液晶层上形成反射层。
[0013]在一些实施例中，所述制造方法还可以包括在反射层上形成支撑部件。可通过以下步骤来形成支撑部件:准备第一支撑片；在第一支撑片的一个表面上形成保护层；以及在第一支撑片的另一个表面上形成硬涂层。
[0014]在一些实施例中，可通过以下步骤来形成液晶层:在共电极上涂覆聚合物网络液晶组成物；以及使聚合物网络液晶组成物固化。
[0015]在一些实施例中，反射层可以是介电镜。在这种情况下，可通过交替地堆叠多个具有第一折射率的第一介电层和多个具有与第一折射率不同的折射率的第二介电层来形成反射层。
【附图说明】
[0016]通过参照以下附图的以下描述，上述及其它目的和特征将变得明显，其中，除非另有说明，否则遍及各附图同样的标号表示同样的部分，其中:
[0017]图1示出根据示例性实施例的基板检查设备；
[0018]图2是根据示例性实施例的液晶调制器的剖视图；
[0019]图3是根据另一示例性实施例的液晶调制器的剖视图；
[0020]图4A是示出图3中的液晶调制器的制造方法的剖视图；
[0021]图4B是示出图3中的液晶调制器的另一制造方法的剖视图；
[0022]图5是根据另一示例性实施例的液晶调制器的剖视图；
[0023]图6是示出图5中的液晶调制器的制造方法的剖视图；
[0024]图7是根据另一示例性实施例的液晶调制器的剖视图；
[0025]图8是示出图7中的液晶调制器的制造方法的剖视图；
[0026]图9至图11是根据示例性实施例的液晶调制器的剖视图；
[0027]图12是示出基于根据实施例的液晶调制器和传统的液晶调制器的电压的反射亮度的曲线图；
[0028]图13是示出当在根据示例性实施例的液晶调制器中液晶层为聚合物网络液晶和聚合物分散液晶时的反射率的曲线图；
[0029]图14是示出基于根据示例性实施例的液晶调制器的厚度像素的可检测最小间距的曲线图。
【具体实施方式】
[0030]现在将参照附图更充分地描述示例性实施例，在附图中示出了示例性实施例。然而，示例性实施例可以以许多不同的形式实施，并且不应当被解释为局限于这里阐述的实施例。相反，提供这些示例性实施例使得本公开将是彻底的和完整的，并且这些示例性实施例将向本领域普通技术人员充分传达示例性实施例的构思。在附图中，为清晰起见，夸大了层和区域的厚度。
[0031]说明书中所使用的术语仅是为了描述特定实施例的目的，并且不意图成为本发明的限制。如说明书中所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式的“一个(种)”和“所述(该)”也意图包括复数形式。还将理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，说明存在所述特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除存在或附加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。
[0032]图1示出根据本发明的实施例的基板检查设备。基板检查设备检测显示装置的缺陷，更具体地说，在用于显示装置中的显示基板上进行检测。显示装置的类型不受限制。例如，显示装置可以是液晶显示器(IXD)、电润湿显示器、电泳显示器或有机发光显示器(OLED)。
[0033]显示装置可包括多个像素。显示装置可包括形成有多个与像素对应的薄膜晶体管的显不基板DV、面对显不基板DV的对向基板(未不出)以及设直在显不基板DV与对向基板之间的图像显示层(未示出)。在液晶显示器的情况下，图像显示层可以是液晶层；在电润湿显示器的情况下，图像显示层可以是电润湿层；在电泳显示器的情况下，图像显示层可以是电泳层；在有机发光显示器的情况下，图像显示层可以是有机发光层。根据显示装置的类型和结构，可以将对向基板替换为包封膜。
[0034]在示例性实施例中，显示基板DV可以用在液晶显示器中。例如，显示基板DV可以被用在诸如面线转换(PLS)模式IXD、边缘场转换(FFS)模式IXD、垂直取向(VA)模式IXD、扭转向列(TN)模式LCD、图案垂直取向(PVA)模式LCD和面内转换(IPS)模式LCD的不同模式LCD中。
[0035]显示基板DV可包括形成有薄膜晶体管的阵列基板AS和设置在阵列基板AS上的靶电极EL’。靶电极EL’可以设置为多个，以与每个像素相对应。
[0036]尽管在图中未示出，但阵列基板AS可包括绝缘基板。薄膜晶体管设置绝缘基板上。薄膜晶体管可以电连接到至少一些靶电极EL’，以将预定电压(例如，约10伏特)施加到靶电极EL’。
[0037]在下文中，现在将详细描述基板检查设备的构造和工作原理。
[0038]根据实施例的基板检查设备包括光源单元LU、分束器BS、液晶调制器MD、测量单元MU和图像处理单元IPU。
[0039]光源单元LU输出光。在示例性实施例中，光源单元LU可包括发射光束的光源LS、引导从光源LS发射的光束并且使被引导的光束均化的均束器BH以及反射器MR。
[0040]光源LS不受限制并且可包括发射光束的组件中的任意组件。在示例性实施例中，光源LS可以是发光二极管或激光器等。
[0041]均束器BH将从光源LS发射的光束引导至反射器MR，以将点光源均化为表面光源的形式。在不例性实施例中，均束器BH可以被设置为具有一端和另一端的杆管(rod pipe)的形式。光源LS可以与所述一端相对，反射器MR可以与所述另一端相对。在示例性实施例中，光源LS可以以管的形状设置在均束器BH的一侧处。在这种情况下，可以降低因在均束器的一端处的反射导致的光损失的可能性。
[0042]光束从所述一端传播到所述另一端并且通过均束器BH的另一端被发射到反射器MR。从光源LS发射的光束在其从均束器BH出射之前在均束器BH中进行两次或更多次全反射。因此，从均束器BH出射的光束在预定的区域内具有均匀的密度。
[0043]反射器MR设置在均束器BH与分束器BS之间，以反射光。换言之，光路被改变使得从均束器BH的另一端发射的光束朝向分束器BS的方向传播。在示例性实施例中，当均束器BH的另一端与分束器BS正对时，从均束器BH发射的光束在没有反射器MR的情况下可传播到分束器BS。在这种情况下，可以省略反射器MR。
[0044]还可以在分束器BS与反射器MR之间设置光学透镜，以使光束聚集或扩展。例如，在实施例中，扩束器(未不出)可以设置在分束器BS与反射器MR之间，以使光束扩展。
[0045]分束器BS在将光束分解为多个光元素之后将从光源单元LU发射的光束提供到液晶调制器MD的一侧。分束器BS可以是偏振分束器，以将入射光束分解为两种线性偏振束(例如，S波和P波)。
[0046]还可以将偏振器(未示出)设置在分束器BS的至少一侧处，