4波长板QWP使穿过液晶调制器MD的光的相位偏移(例如，将线性偏振光转换为圆偏振光，反之亦然)。偏振器POL的偏振轴和1/4波长板QWP的偏振轴设置为相对于彼此成45度角。
[0137]因此，穿过液晶调制器MD的光通过偏振器POL偏振，并且通过1/4波长板QWP改善了在反射层处反射的光的透射率。结果，穿过液晶调制器MD的光的噪声降低并且使穿过液晶调制器MD的光的强度最大化。
[0138]如在本实施例中所示，偏振器POL和1/4波长板QWP设置在透明基板SUB的与其上形成有共电极EL的表面相对的表面上。然而，偏振器POL和1/4波长板QWP的位置不限于此。在另一实施例中，偏振器POL和1/4波长板QWP可设置在透明基板SUB与液晶层LC之间。例如，尽管未不出，偏振器POL和1/4波长板QWP可以依次设置在透明基板SUB与粘合剂ADH之间。可省略粘合剂ADH并且共电极EL可以直接形成在透明基板SUB上。
[0139]在图11中，除了额外地设置波长截止滤波器WCF来代替偏振器POL之外，液晶调制器MD具有与如图9中所示的结构大体上相同的结构。
[0140]参照图9和图10，当光穿过液晶调制器MD的各组件时，光的透射率和散射率根据光的波长而改变。因此，特定波长的光透射或散射地较多而作为噪声。波长截止滤波器WCF可截止特定波长的光，尤其是在可见光中波长比蓝光短的光。在示例性实施例中，波长截止滤波器WCF可以是短波长截止滤波器，以截止波长比蓝光短的光，例如，波长为380纳米或更小的光。因此，在光穿过液晶调制器MD之后，由测量单元MU(见图1)测量的光的噪声减小。粘合剂ADH可以被省略，并且共电极可以直接形成在透明基板SUB上。
[0141]图12是示出基于根据实施例的液晶调制器(发明型)和传统的液晶调制器(传统型)的电压的反射亮度的曲线图。在图12中，根据实施例的液晶显示器采用了参照图5描述的液晶调制器MD，并且除了液晶调制器之外其它条件保持相同。
[0142]参照图12，当将相同的驱动电压施加到根据实施例的液晶调制器的共电极和传统的液晶调制器的共电极时，根据实施例的液晶调制器的反射亮度高于传统的液晶调制器的反射亮度。具体地，在根据实施例的液晶调制器中，在约100伏特或更大的驱动电压下反射亮度与传统的液晶调制器相比增加约7%。因此，在根据实施例的液晶调制器的情况下，与传统技术相比可以改善对比度并且与传统的液晶调制器相比有缺陷的像素可以被精确地检测出。而且，在根据实施例的液晶调制器的情况下，与现有技术相比，可以在更低的电压下获得相同的对比度。
[0143]图13是当在根据示例性实施例的液晶调制器中液晶层为聚合物网络液晶(实施例I)和聚合物分散液晶(实施例2)时的反射率的曲线图。在实施例1和实施例2中，除了液晶层之外，使用相同的结构，并且用25Hz驱动液晶调制器。另外，液晶调制器与显示基板之间的距离保持在50微米。
[0144]通过图13，可以看出，第一实施例的反射率比第二实施例的反射率高。换言之，在采用聚合物网络液晶的实施例1中达到相同的反射率的驱动电压低于在采用聚合物分散液晶的实施例2中达到相同的反射率的驱动电压。即，当采用聚合物网络液晶时，即使在比采用聚合物分散液晶时的驱动电压低的驱动电压下，也可以被容易地检测出像素的缺陷。另外，当采用聚合物网络液晶时，对比度大于当采用聚合物分散液晶时的对比度。因此，在作为最终结构的液晶调制器中，当采用聚合物网络液晶时，缺陷像素的形状可容易地可视化。
[0145]图14是示出基于根据实施例的液晶调制器的厚度像素的可检测最小间距的曲线图。在图13中，液晶调制器的“厚度”表示从共电极到液晶调制器的与靶电极相对的最外侧部分的距离。即，液晶调制器的“厚度”表示从共电极到保护层的距离(一实施例)或者从共电极到第一硬涂层的距离(其它实施例)。从液晶调制器到显示基板之间的距离保持在50微米。
[0146]参照图14，像素的可检测间距随着液晶调制器的厚度的减小而减小。根据图14中的曲线图，当液晶调制器的厚度为约118微米时，像素的可检测间距为约27微米。
[0147]如上所述，在根据实施例的液晶调制器中，因为显示基板的靶电极与液晶调制器的共电极之间的总厚度减小，所以能够检测到具有较小的像素间距的高分辨率基板(例如，像素的间距为约20微米的显示基板)的缺陷。
[0148]正如到目前为止所描述的，提供一种具有比传统液晶调制器的厚度小的厚度的液晶调制器。因此，与传统技术相比能够改善对比度，并且能够检测到具有较小的像素间距的显不基板的缺陷。
[0149]虽然已经参照示例性实施例描述了实施例，但对本领域技术人员来说将显而易见的是，在不脱离本实施例的精神和范围的情况下可以做出各种改变和修改。因此，将要理解的是以上示例性实施例不是限制性的，而是说明性的。
【主权项】
1.一种基板检查设备，用于检测基板的缺陷，其特征在于，所述基板检查设备包括: 液晶调制器，被构造为设置在所述基板上； 光源单元，设置为与液晶调制器分隔开； 分束器，设置在液晶调制器与光源单元之间，并且被构造为将来自光源单元的光束反射至液晶调制器；以及 测量单元，被构造为感测来自液晶调制器的光束， 其中，液晶调制器包括: 透明基板； 共电极，设置在透明基板上； 液晶层，设置在透明基板上以与共电极接触；以及 反射层，设置在液晶层上。
2.根据权利要求1所述的基板检查设备，其特征在于，光源单元包括: 光源，被构造为发射光束； 均束器，被构造为引导从光源发射的光束；以及 反射器，被构造为沿分束器的方向反射从均束器发射的光束。
3.根据权利要求2所述的基板检查设备，其特征在于，均束器设置为杆管的形式。
4.根据权利要求1所述的基板检查设备，其特征在于，所述基板检查设备还包括: 第一支撑部件，设置在反射层上，并且被构造为支撑反射层和液晶层。
5.根据权利要求4所述的基板检查设备，其特征在于，第一支撑部件包括: 第一支撑片； 保护层，设置在第一支撑片的一个表面上，以保护第一支撑片；以及 硬涂层，设置在第一支撑片的另一个表面上， 其中，保护层设置在第一支撑片与反射层之间。
6.根据权利要求5所述的基板检查设备，其特征在于，硬涂层包括紫外线可固化聚合物、溶胶-凝胶材料、热固性聚合物以及有机-无机复合材料中的至少一种。
7.根据权利要求6所述的基板检查设备，其特征在于，第一支撑片由有机材料制成。
8.根据权利要求7所述的基板检查设备，其特征在于，有机材料包括聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、环烯烃聚合物、赛璐珞和三乙酰纤维素中的至少一种。
9.根据权利要求1所述的基板检查设备，其特征在于，反射层包括介电镜。
10.根据权利要求9所述的基板检查设备，其特征在于，介电镜包括: 多个第一介电层，具有第一折射率；以及 多个第二介电层，具有与第一折射率不同的折射率， 其中，第一介电层与第二介电层交替地布置。
11.根据权利要求10所述的基板检查设备，其特征在于，所述第一介电层包括氧化锆，所述第二介电层包括氧化硅。
12.根据权利要求1所述的基板检查设备，其特征在于，液晶层包括聚合物网络结晶。
13.根据权利要求12所述的基板检查设备，其特征在于，聚合物网络结晶包括用于形成畴的聚合物网络和设置在由聚合物网络形成的畴中的液晶化合物。
14.根据权利要求1所述的基板检查设备，其特征在于，共电极直接设置在透明基板上。
15.根据权利要求1所述的基板检查设备，其特征在于，所述基板检查设备还包括: 粘合层，设置在透明基板与共电极之间；以及 第二支撑部件，设置在共电极与粘合层之间，以支撑共电极。
16.根据权利要求15所述的基板检查设备，其特征在于，第二支撑部件包括: 第二支撑片；以及 硬涂层，设置在第二支撑片的两个面上。
17.根据权利要求1所述的基板检查设备，其特征在于，所述基板检查设备还包括: 图像处理单元，被构造为将由测量单元产生的信号转化为图像。
18.—种基板检查设备的液晶调制器的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括下述步骤: 在透明基板上形成共电极； 在共电极上直接形成液晶层；以及 在液晶层上形成反射层。
19.根据权利要求18所述的制造方法，其特征在于，所述制造方法还包括在反射层上形成支撑部件，其中，形成支撑部件的步骤包括: 准备第一支撑片； 在第一支撑片的一个表面上形成保护层；以及 在第一支撑片的另一个表面上形成硬涂层。
20.根据权利要求18所述的制造方法，其特征在于，形成液晶层的步骤包括: 在共电极上涂覆聚合物网络液晶组成物；以及 使聚合物网络液晶组成物固化。
【专利摘要】本发明公开了一种基板检查设备及一种基板检查设备的液晶调制器的制造方法。该基板检查设备包括：液晶调制器，被构造为设置在所述基板上；光源单元，设置为与液晶调制器分隔开；分束器，设置在液晶调制器与光源单元之间，并且被构造为将来自光源单元的光束反射至液晶调制器；测量单元，被构造为感测由基板反射的光束。
【IPC分类】G02F1-1334, G02F1-13
【公开号】CN104678611
【申请号】CN201410462901
【发明人】具成谋, 催硕, 卢泳辰, 金榕元, 柳彰贤, 郑治连
【申请人】三星显示有限公司, 三星电子株式会社
【公开日】2015年6月3日
【申请日】2014年9月12日
【公告号】US20150153593