感光性树脂组合物、感光性薄膜、肋图案的形成方法、中空构造及其形成方法以及电子零件的制作方法_4

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步添加(巧热交联材。作为(F) 热交联材,从固化后树脂强度的观点出发,优选例如环氧树脂、a位被哲甲基、烷氧基甲基 取代的酪树脂、N位被哲甲基和/或烷氧基甲基取代的=聚氯胺树脂、尿素树脂等。它们可 W使用一种,也可W二种W上混合使用。
[0114] 上述(巧热交联材的含量是,W感光性树脂组合物的固体成分总量为基准,优选 为1~20质量%。(巧热交联材的含量如果为上述范围,则感光性树脂组合物的耐热性和 树脂强度良好,显影性也良好。
[0115] 另外,在上述的感光性树脂组合物中,还可W进一步添加佑)热产酸剂。作为佑) 热产酸剂,可W列举出例如鐵盐等由强酸和碱形成的盐W及横酸亚胺等。作为鐵盐,有例如 芳基重氮盐、二苯基舰鐵盐等二芳基舰鐵盐、二芳基舰鐵盐、二(叔了基苯基)舰鐵盐等二 (烷基芳基)舰鐵盐、=甲基箭盐等=烷基箭盐、二甲基苯基箭盐等二烷基单芳基箭盐、二 苯基甲基箭盐等二芳基单烷基舰鐵盐、W及=芳基箭盐。
[0116] 上述似热产酸剂配合量是,相对于(A)成分100质量份,优选为0. 1~30质量 份,更优选为0. 2~20质量份,进一步优选为0. 5~10质量份。
[0117] 另外,在上述的感光性树脂组合物中,还可W进一步添加(H)热自由基发生剂。作 为(H)热自由基发生剂,可W列举出例如叔了基枯基过氧化物(perbutyl C)、正了基4, 4-二(叔了基过氧)戊酸醋(perhexa V)、二枯基过氧化物(percumyl D)等过氧化物。
[0118] 上述做热自由基发生剂的配合量是,相对于(A)成分100质量份,优选为0. 1~ 30质量份,更优选为0. 2~20质量份,进一步优选为0. 5~10质量份。
[0119] 本实施方式的感光性树脂组合物可W通过将上述的(A)光聚合性化合物和炬)光 聚合引发剂、根据需要添加的(C)无机填料、W及其它的材料例如值)增感剂、巧)耐热性 高分子、(巧热交联材、佑)热产酸剂、(H)热自由基发生剂与溶剂一起混合而得到。
[0120] 作为此时使用的溶剂,没有特别限制,例如可W列举出W N-甲基-2-化咯烧酬、 N,N-二甲基己酷胺、N,N-二甲基甲酯胺、丙二醇单甲基離己酸醋等为主成分的极性溶剂、 丫-了内醋等溶剂。上述溶剂可W单独使用一种,也可W使用二种W上的混合物。
[0121] 另外,在感光性树脂组合物中,根据需要,为了提高感光性树脂组合物与基板的粘 接性,还可W添加粘接助剂。作为接着助剂,可W列举出例如丫-环氧丙氧基硅烷、氨基娃 烧、丫-脈基硅烷等硅烷偶联剂等。
[0122] (感光性薄膜)
[0123] 对于上述感光性树脂组合物,W聚对苯二甲酸己二醇醋等有机薄膜作为支撑薄 膜,用公知的各种方法涂布,干燥而除去溶剂,由此可W制成形成有感光性树脂层的2层的 感光性薄膜(干膜抗蚀剂)。另外,也可W将聚对苯二甲酸己二醇醋、聚己締薄膜、聚丙締薄 膜等作为保护薄膜层叠于其上而制成3层的感光性薄膜。另外,感光性树脂层只要具有自 支撑性,就可w将支撑薄膜剥去而制成1层的感光性薄膜。
[0124] 当本发明的感光性薄膜作为中空构造的盖部使用时,如后所述,支撑薄膜可W在 光照射产生的光聚合后剥离后使用,也可W就该样与感光性树脂组合物一起作为盖材料使 用。本发明中,代替上述的支撑薄膜,还可W使用透明或半透明的耐热性塑料(热塑性工程 塑料或具有=维网眼构造的热固性树脂等)、玻璃或陶瓷等。上述的耐热性塑料、玻璃或陶 瓷通过W薄膜或薄片状来使用,与上述的支撑薄膜同样,可W制成层叠了感光性树脂组合 物的薄膜或薄板。另外,上述的耐热性塑料、玻璃或陶瓷可W提高盖的形状维持性和刚性, 同时具有增强的功能。
[0125] 制成感光性薄膜时,其厚度没有特别限制,但支撑薄膜或支撑用薄板优选为 10 y m~3mm,感光性树脂层优选为1~500 y m,保护薄膜优选为10~200 y m。上述的支 撑薄膜或支撑用薄板可W根据中空构造设备的形状和厚度W及制造的观点来适当决定它 们的厚度,因此能够使用的范围变宽。
[0126] (肋图案的形成方法)
[0127] 下面,对本实施方式的肋图案形成方法进行说明。在本实施方式的肋图案形成方 法中,经过下述工序可W形成所期望的图案,所述工序为:在基板上层叠使用上述的感光性 树脂组合物或感光性薄膜形成的感光性树脂层(感光性树脂膜)的层叠工序;对该感光性 树脂层的规定部分通过掩模而照射活性光线,从而使曝光部进行光固化的曝光工序;使用 显影液将感光性树脂层的上述曝光部W外的部分除去的除去工序;W及使感光性树脂层的 上述曝光部进行热固化,从而形成树脂固化物的热固化工序。
[0128] 下面,对各个工序进行说明。
[0129] 在上述层叠工序中,通过将上述的感光性树脂组合物或感光性薄膜在支撑基板上 涂布并干燥或者进行层叠,可W形成感光性树脂膜。作为支撑基板,可W列举出例如玻璃基 板、半导体、金属氧化物绝缘体(例如Ti〇2、Si〇2等)、氮化娃、陶瓷压电基板等。另外,作为 感光性树脂组合物的涂布方法,可W列举出使用旋涂器的旋转涂布、喷雾涂布、浸溃涂布、 漉涂布等方法,但不限于它们。当为感光性薄膜时,可W使用层压机等进行层叠。
[0130] 感光性树脂组合物的涂布膜厚根据涂布手段、感光性树脂组合物的固体成分浓度 W及粘度等的不同而不同,但通常按照使干燥后的覆盖膜(感光性树脂层)的膜厚达到 1~500 ym的方式来涂布,从残存挥发成分的观点出发,优选按照使干燥后的覆盖膜(感 光性树脂层)的膜厚达到1~300 ym的方式来涂布。为了使干燥后的覆盖膜的膜厚达到 1~300 y m,优选用溶剂溶解上述的感光性树脂组合物,并将粘度调节为0. 5~20化'S,从 涂布性的观点出发,更优选调节为1~10化?S。另外,感光性树脂组合物的固体成分浓度 优选设定为20~80质量%,从涂布性的观点出发,更优选设定为30~70质量%。得到的 覆盖膜的膜厚特别是为300 ym W下时,分辨率良好。在使用感光性薄膜的情况下,可W预 先使感光性树脂层的膜厚形成为上述的膜厚。
[0131] 然后,使用热板、烘箱等在60~120°C的范围内干燥1分钟~1小时,由此可W在 支撑基板上形成感光性树脂膜。
[0132] 接着,在曝光工序中,对于在支撑基板上形成了覆盖膜的感光性树脂膜,根据需要 通过具有所期望的图案的负型掩模对规定部分照射活性光线,使曝光部光固化。
[0133] 该里,作为曝光中使用的活性光线,可W列举出紫外线、可见光线、电子束、X射线 等。其中,特别优选紫外线、可见光线。
[0134] 接着,作为除去工序,使用有机溶剂系或碱性水溶液系的显影液除去感光性树脂 层的除曝光部W外的部分(未曝光部),从而形成图案,然后,使感光性树脂层的曝光部热 固化,形成由树脂固化物构成的图案。
[01巧]该里,作为显影液,可W使用N-甲基化咯烧酬、己醇、环己酬、环戊酬、丙二醇甲基 離己酸醋等有机溶剂。另外,可W使用氨氧化钢、氨氧化钟、娃酸钢、氨、己基胺、二己基胺、 =己基胺、=己醇胺、四甲基氨氧化锭等碱性水溶液。其中,从显影速度的观点出发,优选使 用丙二醇甲基離己酸醋。
[0136] 另外,显影后,根据需要,优选使用水或甲醇、己醇、异丙醇等醇、正了基己酸醋、丙 二醇单甲基離己酸醋、二甘醇二甲基離己酸醋等进行冲洗。
[0137] 进而,进行使上述感光性树脂层的上述曝光部进行热固化而形成树脂固化物的热 固化工序。显影后的热固化(cure)优选选择温度后,一边逐步地升温,一边实施1~2小 时。热固化优选在120~240°C下进行。当逐步地升温加热温度时,例如优选在120°C、160°C 下各进行10~50分钟(优选为约30分钟)热処理后,在220°C下进行30~100分钟(优 选为约60分钟)热処理。
[013引(中空构造的形成方法)
[0139] 用上述的形成方法形成的树脂固化物所构成的肋图案具有充分的膜厚,也可W通 过将陶瓷基板、Si基板、玻璃基板、金属基板、聚酷亚胺薄膜、PET薄膜、丙締酸醋板等作为 盖来进行覆盖,从而形成中空构造。
[0140] 本发明中,不仅可W预先将本发明的感光性树脂组合物或由其薄膜化而成的感光 性薄膜作为上述的中空构造肋部来使用,也可W将其作为盖部来使用。例如,将上述感光性 树脂组合物暂时薄膜化的薄膜、或预先制成的感光性薄膜贴付、层叠于上述的图案上部之 后,经过曝光工序、根据需要的显影工序(除去工序)、热固化工序,就可W形成中空构造。 当本发明的感光性树脂组合物或感光性薄膜作为盖使用时,未必一定要经过显影工序,但 在下述情况下,通过采用显影工序可W提高本发明的中空构造设备的有效利用性。例如,想 要控制盖的形状的情况、或在同时一并地制造多个中空构造设备时,通过掩模仅将相当于 单个的中空设备的盖的大小进行曝光后,对其周边的未曝光部分进行显影,由此分割成单 个的情况等。
[0141] 层叠工序、曝光工序、除去工序W及热固化工序可W与在上述肋图案的形成方法 的说明中说明过的方法同样地进行。用于形成盖部的感光性树脂层的膜厚优选为5~ 500 y m,更优选为10~400 y m。从图案形成性W及图案的强度的观点出发,经过固化工序 而形成的盖部的最终膜厚优选为10 y m~3mm,更优选为20 y m~2mm。对于上述的盖部的 厚度,不仅可W通过本发明的感光性树脂组合物或感光性薄膜的厚度,还可W通过如上所 述的那样使支撑用的薄膜或薄板直接作为盖材残留,来调整为所期望的厚度。
[0142] 另外,盖部与肋图案的粘接例如可W通过使用压力机或漉层压机、真空层压机的 热压粘的粘接等来进行。
[0143] 此外,本发明中,肋图案也可W不使用本发明的感光性树脂组合物制作,而仅仅盖 部使用本发明的感光性树脂组合物来形成,但如果肋图案和盖部该两者都使用本发明的感 光性树脂组合物,则其之间的粘接性优良,因而是优选的。特别是,作为肋图案和盖部该两 者使用的感光性树脂组合物,通过使用光聚合性化合物的种类和无机填料的含量相近的感 光性树脂组合物,可W进一步实现粘接性的提高。
[0144]如上所述,根据本发明,在中空构造形成工序中,可W用光刻法一并地形成厚膜的 肋图案,进而从其上面,将形成为薄膜状的感光性树脂组合物的固化物(或陶瓷等密封用 基板)作为盖部来进行密封,由此可W形成中空构造。另外,该中空空间内通过周围的感 光性树脂组合物而防湿,并且,即使在高温下也能够保持中空部,因此能够适用于SAW滤波 器、CMOS?CCD传感器、MEMS等需要中空构造的电子零件,对于电子零件的小型化、薄型化、 高功能化是有用的。本发明的感光性树脂组合物特别是适合SAW滤波器的中空构造的肋部 和盖部形成用,在能够实现高可靠性该点上,特别适合盖部形成用。
[0145] (SAW滤波器及其制造方法)
[0146]下面对上述SAW滤波器W及其制造方法进行说明。图1(a)~(C)是表示本发明 的SAW滤波器100 W及其制造方法的合适的一个实施方式的工序图。
[0147] 首先,如图1(a)所示,在形成有梳形电极20的基板10上层叠使用本发明的感光 性树脂组合物形成的感光性树脂层32。层叠方法可W使用与在上述肋图案的形成方法中记 载的方法同样的方法。
[0148]有关涂布膜厚,与上述肋图案的形成方法同样,通常按照使干燥后的覆盖膜(感 光性树脂层)的膜厚达到1~300 ym的方式进行涂布。
[0149] 在基板10上涂布感光性树脂组合物后,对覆盖膜进行干燥,得到感光性树脂层 32。干燥优选使用烘箱、热板等在60~120°C的范围内干燥1分钟~1小时。
[0150] 接着,如图1(a)所示,根据需要,通过具有所期望的图案的负型掩模60对感光性 树脂层32的规定部分照射活性光线,使曝光部进行光固化。该里,作为曝光中使用的活性 光线,可W列举出紫外线、可见光线、电子束、X射线等。其中,特别优选紫外线、可见光线。
[0151] 然后,如图1(b)所示,使用有机溶剂系的显影液除去感光性树脂层32的除曝光部 W外的部分(未曝光部),从而形成图案,然后使感光性树脂层32的曝光部进行热固化,形 成由树脂固化物构成的肋部30。上述的曝光工序、除去工序、热固化工序可W使用与上述肋 图案的形成方法同样的方法。
[0152] 接着,如图1(c)所示,在肋部30上设置盖部40而形成中空构造。该里,盖部40例 如可W使用预先将本发明的感光性树脂组合物成膜而进行了薄膜化的薄膜或预先作为感 光性薄膜而成型的薄膜来制作。目P,将该些薄膜贴付于肋30的上部之后,通过曝光、显影、 热固化,可W形成盖部40。
[0153] 另外,盖部40与肋部30的粘接例如可W通过使用漉层压机的热压粘的粘接等来 进行。
[0154] 此外,盖部40也可W由本发明的感光性树脂组合物W外的材料构成。不过,盖部 40优选由耐湿热性优良、并且吸水率较低的材料构成。另外,作为盖部40,还可W使用陶瓷 等密封用基板。此时,至少将由本发明的感光性树脂组合物形成的肋图案用作SAW滤波器 的中空构造形成用的肋材。
[0巧5] 另一方面,当将本发明的感光性树脂组合物或感光性薄膜用于SAW滤波器的中空 构造形成用的盖部时,肋部也可W通过使用本发明的感光性树脂
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