甲離、二丙二醇二己離、S己二醇单己離等二醇離 类；醋酸己醋、醋酸了醋、二丙二醇甲離己酸醋、丙二醇甲離己酸醋、丙二醇己離己酸醋、丙 二醇了離己酸醋等醋类；己醇、丙醇、己二醇、丙二醇等醇类；辛烧、癸烧等脂肪族姪；石油 離、石脑油、氨化石脑油、溶剂石脑油等石油系溶剂等。该种有机溶剂可W单独使用一种，也 可混合物的形式使用两种W上。
[0134][固化促进剂]
[01巧]本发明也可W使用热固化成分的固化促进剂（固化催化剂）、热固化成分与含駿 基树脂反应的固化促进剂（固化催化剂）、咪挫?异氯酸醋加成物。
[0136] 对于固化促进剂，例如可W举出；双氯胺、双氯胺的衍生物、=聚氯胺、咪挫、苯并 咪挫、2-甲基咪挫、2-己基咪挫、2-己基-4-甲基咪挫、2-苯基咪挫、4-苯基咪挫、1-氯基 己基-2-苯基咪挫、1-(2-氯基己基）-2-己基-4-甲基咪挫等咪挫衍生物；苄基二甲基胺、 4-(二甲基氨基）-N，N-二甲基苄基胺、4-甲氧基-N，N-二甲基节胺、4-甲基-N，N-二甲基 节胺等胺化合物、苯并曠挫、苯并唾挫、苯并=挫等杂环化合物，例如可W举出；=苯基麟、 =对甲苯基麟、=邻甲苯基麟、=间甲苯基麟等叔麟、四苯基棚四苯基麟、四对甲基苯基棚 四苯基麟、四苯基麟硫代氯酸醋、四了基麟癸酸盐等季麟盐等。其中，优选季麟盐。进而，其 中，从贬藏稳定性的观点出发，特别优选四对甲基苯基棚四苯基麟。
[0137] 该种固化促进剂可W单独使用，也可W混合使用两种W上。固化促进剂的配混量 通常为组合物总体的0. 01质量％~15质量％，更优选为0. 1~10质量％。
[0138] 通常，大多数高分子材料一旦开始氧化便会相继连锁地发生氧化劣化，导致高分 子原料的功能降低，因此，本发明的固化性树脂组合物中可W为了防止氧化而添加可使生 成的自由基失效的自由基捕获剂或/和可使产生的过氧化物分解成无害的物质、不会生成 新的自由基的过氧化物分解剂等抗氧化剂。
[0139] 关于作为自由基捕获剂发挥作用的抗氧化剂，作为具体的化合物，可W举出；氨 酿、4-叔了基儿茶酪、2-叔了基氨酿、氨酿单甲離、2,6-二叔了基-对甲酪、2,2-亚甲基-双 (4-甲基-6-叔了基苯酪）、1, 1, 3-二（2-甲基-4-哲基-5-叔了基苯基）了烧、1, 3, 5-二 甲基-2,4,6-S(3, 5-二叔了基-4-哲基苄基）苯、1，3,5-S(3'，5'-二叔了基-4-哲基 苄基）-均S嗦-2, 4,6-(lH, 3H, 5H)S酬等酪系、对甲氧基苯酪（methoquinone)、苯酿等酿 系化合物、双（2, 2,6,6-四甲基-4-嗽晚基）-癸二酸醋、吩唾嗦等胺系化合物等等。
[0140]自由基捕获剂也可W为市售品，例如可W举出；ADEKASTABA0-30、ADEKASTAB A0-330、ADEKASTABA0-20、ADEKASTABLA-77、ADEKASTABLA-57、ADEKASTABLA-67、 ADEKASTABLA-68、ADEKASTABLA-87 (W上，ADEKACORPORATION制造，商品名）、 IRGANOXIOIO、IRGAN0X1035、IRGAN0X1076、IRGAN0X1135、TINUVINlllFDUTINUVIN 123、TINUVIN144、TINUVIN152、TINUVIN292、TINUVIN5100(W上，CibaSpecialty 化emicalsInc.制造，商品名）等。
[0141] 对于作为过氧化物分解剂发挥作用的抗氧化剂，作为具体的化合物，可W举出；亚 磯酸=苯醋等磯系化合物、季戊四醇四月桂基硫代丙酸醋、二月桂基硫代二丙酸醋、二硬脂 基3, 3' -硫代二丙酸醋等硫系化合物等。
[0142] 过氧化物分解剂也可W为市售品，例如可W举出；ADEKASTABTPP(ADEKA CORPORATION制造，商品名）、MarkA0-412S(AdekaArgusChemicalCo.，Ltd.制造，商品 名）、SumilizerTPS(住友化学株式会社制造，商品名）等。
[0143] 上述抗氧化剂可W单独使用1种或组合使用2种W上。
[0144] 此外，通常高分子材料吸收光，由此发生分解/劣化，因此，本发明的固化性树脂 组合物中，为了实施针对紫外线的稳定化对策，除了上述抗氧化剂之外还可W使用紫外线 吸收剂。
[0145] 作为紫外线吸收剂，可W举出；二苯甲酬衍生物、苯甲酸醋衍生物、苯并S挫衍生 物、S嗦衍生物、苯并唾挫衍生物、肉桂酸醋衍生物、邻氨基苯甲酸醋衍生物、二苯甲酯甲烧 衍生物等。作为二苯甲酬衍生物的具体的例子，可W举出；2-哲基-4-甲氧基二苯甲酬、 2-哲基-4-正辛氧基二苯甲酬、2, 2' -二哲基-4-甲氧基二苯甲酬及2, 4-二哲基二苯甲 酬等。作为苯甲酸醋衍生物的具体的例子，可W举出；水杨酸2-己基己醋、水杨酸苯基醋、 水杨酸对叔了基苯基醋、2, 4-二-叔了基苯基-3, 5-二叔了基-4-哲基苯甲酸醋及十六 烷基-3, 5-二叔了基-4-哲基苯甲酸醋等。作为苯并S挫衍生物的具体的例子，可W举 出；2-(2' -哲基-5' -叔了基苯基）苯并S挫、2-(2' -哲基-5' -甲基苯基）苯并S挫、 2- (2 ' -哲基-3 ' -叔了基-5 ' -甲基苯基）-5-氯苯并S挫、2- (2 ' -哲基-3 '，5 ' -二叔了基 苯基）-5-氯苯并S挫、2- (2 ' -哲基-5 ' -甲基苯基）苯并S挫及2- (2 ' -哲基-3 '，5 ' -二 叔戊基苯基）苯并=挫等。作为=嗦衍生物的具体的例子，可W举出；哲基苯基=嗦、双-己 基己氧苯酪甲氧苯基=嗦等。
[0146] 作为紫外线吸收剂也可W是市售品，例如可W举出：TINUVINPS、TINUVIN99-2、 TINUVIN109、TINUVIN384-2、TINUVIN900、TINUVIN928、TINUVIN1130、TINUVIN400、 TINUVIN405、TINUVIN460、TINUVIM79(W上，CibaSpecialtyChemicalsInc.制造，商 品名）等。
[0147] 上述紫外线吸收剂可W单独使用或组合使用两种W上，通过组合使用前述抗氧化 剂，可W实现由本发明的感光性树脂组合物得到的成型物的稳定化。
[0148] 本发明的固化性树脂组合物中，进一步作为任意成分，可W配混如下公知的添加 剂类；氯酸醋树脂、有机溶剂、弹性体、琉基化合物、着色剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、密合 促进剂、阻聚剂、微粉二氧化娃、有机膨润±、蒙脱石等增稠剂、有机娃系、氣系、高分子系等 消泡剂W及流平剂中的至少任一种、咪挫系、唾挫系、S挫系等硅烷偶联剂、防诱剂、次麟酸 盐、磯酸醋衍生物、麟膳化合物等磯化合物等阻燃剂、嵌段共聚物。
[0149] 本发明的固化性树脂组合物适宜用作形成印刷电路板、特别是FPC用的固化覆 膜，更适宜用作形成永久覆膜，最适宜用作形成覆盖层或阻焊层。需要说明的是，本发明的 固化性树脂组合物也可W用于形成层间绝缘材料、锡堤（SolderDam)等。
[0巧0] <干膜〉
[0151] 本发明的干膜具有涂布本发明的固化性树脂组合物并干燥而形成的固化性树脂 层。本发明的干膜是W接触基材的方式层压固化性树脂层来使用的。上述所形成的固化性 树脂层的溶剂残留量优选为5重量％ ^下。由此，可W将固化性树脂层良好地转印在基材 上。
[0152] 本发明的干膜可W如下制造；在载体膜上通过刮刀涂布机、唇口涂布机（lip coater)、逗点涂布机（commacoater)、薄膜涂布机等适宜的方法均匀涂布固化性树脂组合 物，干燥，形成前述的固化性树脂层、优选在其上层叠覆盖薄膜，从而进行制造。覆盖薄膜和 载体膜可W为相同的薄膜材料，也可W使用不同的薄膜。
[0153] 本发明的干膜中，载体膜、覆盖薄膜的薄膜材料可W任意使用作为干膜中使用的 材料的公知的材料。
[0154] 作为载体膜，例如可W使用厚度为2~150ym的聚对苯二甲酸己二醇醋等的聚醋 薄膜等热塑性薄膜。
[0155] 作为覆盖薄膜，可W使用聚己締薄膜、聚丙締薄膜等，但优选与固化性树脂层的粘 接力比载体膜小的薄膜。
[0156] 本发明的载体膜上的固化性树脂层的膜厚优选为100ymW下、更优选为5~ 50ym的范围。
[0157] <印刷电路板〉
[0158] 本发明的印刷电路板使用构成本发明的固化性树脂组合物或干膜的本发明的固 化性树脂层制作。本发明的印刷电路板优选在基材上层压干膜而制作。本发明的印刷电路 板可W通过刮刀涂布机、唇口涂布机、逗点涂布机、薄膜涂布机等适宜的方法，在基材上直 接涂布固化性树脂组合物而形成固化覆膜。
[0159] 在直接涂布干膜或固化性树脂组合物而形成固化覆膜时，对在基材上所形成的固 化性树脂层，采用接触式或非接触方式使活性能量射线通过形成有图案的光掩模选择性地 进行曝光或者利用激光直接曝光机直接进行图案曝光。固化性树脂层的曝光部，即由活性 能量射线照射的部分固化。
[0160] 作为基材，除了预先形成有电路的印刷电路板、柔性印刷电路板之外，还可W采用 使用了纸-酪醒树脂、纸-环氧树脂、玻璃布-环氧树脂、玻璃-聚酷亚胺、玻璃布/无纺 布-环氧树脂、玻璃布/纸-环氧树脂、合成纤维-环氧树脂、氣树脂?聚己締?PPO?氯酸 醋等复合材料的所有等级（FR-4等）的覆铜层叠板、聚酷亚胺薄膜、PET薄膜、玻璃基板、陶 瓷基板、晶圆板等。
[0161] 作为活性能量射线照射所使用的曝光机，可W使用直接描绘装置（例如通过来自 计算机的CAD数据利用直接激光描绘图像的激光直接成像装置），搭载有金属面化物灯的 曝光机、搭载有（超）高压隶灯的曝光机、搭载有LED的曝光机、搭载有水银短弧灯的曝光 装置。
[0162] 作为活性能量射线，优选使用最大波长处于350~410皿的范围的光。通过将最 大波长设为该范围，能够由光聚合引发剂高效地生成自由基。此外，其曝光量根据膜厚等而 不同，但通常可W设为5~500mJ/cm2、优选设为10~300mJ/cm2的范围内。
[0163] 作为直接描绘装置，例如可W使用化botechLtd.制造、阳NTAXCo巧oration制 造、OAKCo巧oration制造、SCREENHoldingsCo.，Ltd.制造等装置，只要为照射最大波长 为350~410nm的活性能量射线的装置就可W使用任意的装置。
[0164] 而且，如此通过曝光固化性树脂层使曝光部固化，然后利用稀碱水溶液（例如， 0. 3~3wt%碳酸钢水溶液）对未曝光部进行显影，在固化性树脂层上形成图案。
[0165] 作为显影方法，可W使用浸溃法、淋洗法、喷雾法、刷涂法等。此外，作为显影液，可 W使用氨氧化钟、氨氧化钢、碳酸钢、碳酸钟、磯酸钢、娃酸钢、氨、胺类等的碱水溶液。
[0166] 进而，例如通过加热至约140~180°C的温度将固化性树脂层固化，可W形成相对 于基材形成材料的密合性、耐热性、耐化学药品性、电绝缘性等各种特性优异的固化覆膜的 图案。需要说明的是，固化覆膜的图案也可W通过照射C〇2激光、UV-YAG激光等半导体激光 而形成。
[0167] 本发明的印刷电路板中的固化覆膜的总膜厚优选为100ymW下、更优选为1~ 50um的范围。
[0168] 实施例
[0169]W下示出实施例和比较例对本发明进行具体的说明，但本发明并不限定于下述实 施例。需要说明的是，W下，"份"和"％ "在没有特别说明的情况下全部是指质量基准。
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