正型感光树脂组成物、感光树脂膜及使用此膜的显示装置的制造方法
【专利说明】
[000。 交叉引用
[0002] 本发明主张2014年4月10日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请案第 10-2014-0043252号的优先权和权益，其全部掲示内容W引用的方式并入本文中。
技术领域
[0003] 本发明涉及一种正型感光树脂组成物、一种感光树脂膜W及一种使用所述感光树 脂膜的显示装置。
【背景技术】
[0004] 半导体装置的常规表面保护层和层间绝缘层包含聚醜亚胺树脂或聚苯并恶哇树 脂作为碱性可溶树脂（a化alisolubleresin),所述碱性可溶树脂具有极佳耐热性、电特 性、机械特性等。所述树脂最近已用于感光聚醜亚胺前体或聚苯并恶哇前体组成物的形式， 且因此易于涂布。组成物涂布在半导体或显示器的衬底上，通过紫外线扣V)图案化，显影 且热亚胺化（imidize)W形成表面保护层、层间绝缘膜等。
[0005] 碱性可溶树脂组成物可作为正型涂覆，其中对曝光部分进行显影和溶解，和作为 负型涂覆，其中对曝光部分进行固化和维持。正型碱性可溶树脂组成物可使用无毒碱性水 溶液作为显影溶液，但就加工特性或在热固化后降低收缩比来说，可能具有在显影后在热 固化期间无法获得所需锥度角（taperedangle)的问题。
[0006] 为解决该个问题，可向其中添加交联剂，但交联剂改变光学特性，且因此难W确保 稳定性。
[0007] 因此，已持续努力开发无需使用交联剂等而具有所需锥度角和高收缩比的碱性可 溶树脂组成物。
【发明内容】
[0008] 本发明一个实施例提供一种可具有高收缩比和极佳耐久性的正型感光树脂组成 物。
[0009] 另一实施例提供一种使用正型感光树脂组成物制造的感光树脂膜。
[0010] 又一实施例提供一种包含感光树脂膜的显示装置。
[0011] 本发明一个实施例提供一种正型感光树脂组成物，包含（A)包含由W下化学式1 表示的重复单元的碱性可溶树脂；炬）感光二氮酿化合物；W及（C)溶剂。
[001引[化学式^
[0013]
[0014] 在W上化学式1中，
[0015]。由W下化学式2表示。
[001引[化学式引
[0017]
[0018] 在W上化学式2中，
[0019] Ri到R3独立地为氨、团素、经取代或未经取代的C1到C20烷基或经取代或未经取 代的C6至IJC20芳基。
[0020] Ri和R2彼此稠合W形成环，且 [00川n为1到10范围内的整数。
[0022] 在W上化学式1中，
[0023] L2为经取代或未经取代的C6到C30芳香族有机基团。
[0024] W上化学式2可由W下化学式3到化学式6中的一个表示。
[002引[化学式引
[0026]
[0033] W碱性可溶树脂的总量计，由W上化学式1表示的重复单元的含量为5重量％到 60重量％。
[0034]碱性可溶树脂可还包含由W下化学式7表示的重复单元、由W下化学式8表示的 重复单元或其组合。
[00对[化学式7]
[0036]
[0039] 在W上化学式7和化学式8中，
[0040] L3为经取代或未经取代的C6到C30芳香族有机基团、经取代或未经取代的二价C1 到C30脂肪族有机基团或经取代或未经取代的二价C3到C30脂环族有机基团，
[0041]L4为经取代或未经取代的C6到C30芳香族有机基团，
[0042]L5为经取代或未经取代的C6到C30芳香族有机基团、经取代或未经取代的二价C1 到C30脂肪族有机基团或经取代或未经取代的二价C3到C30脂环族有机基团或有机娃焼 基团，
[0043]L6为经取代或未经取代的C6到C30芳香族有机基团、经取代或未经取代的四价C1 到C30脂肪族有机基团或经取代或未经取代的四价C3到C30脂环族有机基团，且
[0044] R4和R5独立地为氨、团素、经取代或未经取代的C1到C20烷基或经取代或未经取 代的C6至IJC20芳基。
[0045] 碱性可溶树脂可还包含丙帰酸类树脂、酷酵清漆树脂、双酷A树脂、双酷F树脂或 其组合。
[0046] 碱性可溶树脂可具有1，000克/摩尔到30, 000克/摩尔的重量平均分子量。
[0047] 正型感光树脂组成物可还包含由娃焼类偶合剂、表面活性剂、匀化剂、潜伏热酸产 生剂W及其组合中选出的添加剂。
[0048]W100重量份的碱性可溶树脂（A)计，正型感光树脂组成物可包含5重量份到100 重量份的感光二氮酿化合物炬）和200重量份到900重量份的溶剂（C)。
[0049] 本发明另一实施例提供一种使用正型感光树脂组成物制造的感光树脂膜。
[0050] 本发明又一实施例提供一种包含感光树脂膜的显示装置。
[0051] 本发明的其它实施例包含在W下【具体实施方式】中。
[0052] 具有高收缩比、极佳耐久性等的感光树脂组成物可通过使用包含特定键联基团作 为重复单元的碱性可溶树脂提供，且由所述感光树脂组成物形成的感光树脂膜可有效涂覆 到显示装置上。
【具体实施方式】
[0053] 在W下本发明【具体实施方式】中，下文现将更充分地描述本发明，其中描述本发明 的一些但并非所有实施例。实际上，本发明可W许多不同形式实施且不应理解为限于本文 所陈述的实施例；确切地说，提供该些实施例W使得本发明将满足可应用的法定要求。
[0054] 如本文所用，当不另外提供具体定义时，术语"经取代"是指经至少一个由下列中 选出的取代基取代的基团：团素（F、C1、化或U、羟基、硝基、氯基、氨基（畑2、NH(R2w)或 not)佑°2)，其中R2w、RwiW及R2"2独立地为C1到CIO烷基）、甲脉基、脱基、踪基、駿基、经 取代或未经取代的C1到C30烷基、经取代或未经取代的C2到C30帰基、经取代或未经取代 的C2到C30快基、经取代或未经取代的C1到C30烷氧基、经取代或未经取代的C6到C30 芳基、经取代或未经取代的C3到C30环烷基、经取代或未经取代的C2到C30杂芳基W及经 取代或未经取代的C2到C30杂环烷基，取代本发明的官能团。
[0055] 如本文所用，当不另外提供具体定义时，术语"烷基"是指C1到C30烷基且确切地 说C1到C20烷基，术语"环烷基"是指C3到C30环烷基且确切地说C3到C20环烷基，术语 "烷氧基"是指C1到C30烷氧基且特定目之C1到C1 8烷氧基，术语"芳基"是指C6到C30 芳基且确切地说C6到C20芳基，术语"帰基"是指C2到C30帰基且确切地说C2到C18帰 基，术语"亚烷基"是指C1到C30亚烷基，且确切地说C1到C18亚烷基，且术语"亚芳基"是 指C6到C30亚芳基且确切地说C6到C16亚芳基。
[0056] 如本文所用，当不另外提供具体定义时，术语"脂肪族有机基团"是指C1到C30焼 基、C2到C30帰基、C2到C30快基、C1到C30亚烷基、C2到C30亚帰基或C2到C30亚快基， 确切地说C1到C15烷基、C2到C15帰基、C2到C15快基、C1到C15亚烷基、C2到C15亚帰 基或C2到C15亚快基，术语"脂环族有机基团"是指C3到C30环烷基、C3到C30环帰基、C3 到C30环快基、C3到C30亚环烷基、C3到C30亚环帰基或C3到C30亚环快基，且确切地说 C3到C15环烷基、C3到C15环帰基、C3到C15环快基、C3到C15亚环烷基、C3到C15亚环 帰基或C3到C15亚环快基，术语"芳香族有机基团"是指C6到C30芳基或C6到C30亚芳 基，且确切地说C6到C16芳基或C6到C16亚芳基，且术语"杂环基"是指C2到C30杂环焼 基、C2到C30亚杂环烷基、C2到C30杂环帰基、C2到C30亚杂环帰基、C2到C30杂环快基、 C2到C30亚杂环快基、C2到C30杂芳基或C2到C30亚杂芳基，其在一个环中包含1个到3 个由0、S、N、P、SiW及其组合中选出的杂原子，且确切地说C2到C15杂环烷基、C2到C15 亚杂环烷基、C2到C15杂环帰基、C2到C15亚杂环帰基、C2到C15杂环快基、C2到C15亚 杂环快基、C2到C15杂芳基或C2到C15亚杂芳基，其在环中包含1个到3个由0、S、N、P、 SiW及其组合中选出的杂原子。
[0057] 如本文所用，当不另外提供具体定义时，术语"氣烷基"、"氣亚烷基"、"氣亚环烷基 (fiuorocycloaA^enegroup)"、"氣亚芳基"、"氣烷氧基"W及"氣醇基"是指在烷基、亚焼 基、亚环烷基、亚芳基、烷氧基W及醇基中包含氣原子的取代基。
[0058] 如本文所用，除非另外提供具体定义，否则当化学键在应明示位置处而未绘出时， 氨键结在所述位置处。
[0059] 如本文所使用，当不另外提供定义时，术语"组合"是指混合或共聚。
[0060] 此外，"* "是指相同或不同原子或化学式之间的键联部分。
[0061] 一个实施例提供一种正型感光树脂组成物，其包含（A)包含由W下化学式1表示 的重复单元的碱性可溶树脂；炬）感光二氮酿（diazoquinone)化合物；W及（C)溶剂。
[0062][化学式1]
[0063]
[0064] 在W上化学式1中，
[0065]。由W下化学式2表示。
[006引[化学式引
[0067]
[006引在W上化学式2中，
[0069] Ri到R3独立地为氨、团素、经取代或未经取代的C1到C20烷基或经取代或未经取 代的C6至IJC20芳基，
[0070] Ri和R2彼此稠合W形成环，且 [ocm]n为1到10范围内的整数。
[0072] 在W上化学式1中，
[0073]L2为经取代或未经取代的C6到C30芳香族有机基团。
[0074] 由W上化学式2表示的键联基团可在显影后在固化碱性可溶树脂组成物（例如正 型感光树脂组成物）期间促进聚合物树脂中的交联反应且将锥度角调整到35°到45