显示基板及其制造方法、显示面板和显示装置的制造方法

显示基板及其制造方法、显示面板和显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及显示技术领域，具体地，设及一种显示基板、该基板的制造方法、包括 所述显示基板的显示面板和包括该显示面板的显示装置。
【背景技术】
[0002] -些显示装置的基板包括衬底基板100和直接设置在该衬底基板100上的导电图 形层200，该导电图形层200由金属材料制成，如图1所示。
[0003] 在一些具体的应用场合中，设置在衬底基板上的金属层位于显示装置的最外侧， 例如，在触控显示装置中，导电图形层包括触控感应电极和触控驱动电极。如图1中所示，当 包括所述基板的触控显示装置进行显示时，显示面板发出的光线穿过衬底基板出射。但是， 外部环境光（图1中的实线箭头)在所述基板的上表面形成的镜面反光现象比较严重，当外 部环境光较强时，甚至会影响到显示装置的出射光（图1中的虚线箭头），进而影响到显示装 置的正常显示。

【发明内容】

[0004] 本发明的目的在于提供一种显示基板，该基板不会因金属层反光而影响显示装置 的显示效果。本发明还提供一种包括所述基板的显示装置和所述基板的制造方法。
[0005] 为了实现上述目的，作为本发明的一个方面，提供一种显示基板，所述显示基板包 括衬底基板和设置在所述衬底基板上的导电图形层，其中，所述导电图形层包括设置在所 述衬底基板上的低反射图形层和形成在所述低反射图形层上的金属图形层，所述低反射图 形层的材料包括金属氧化物，所述金属氧化物通过对所述金属图形层的金属材料进行氧化 获得。
[0006] 优选地，所述金属图形层的材料为钢、铁、钢合金和铁合金中的任意一者或任意几 者。
[0007] 优选地，所述低反射图形层的材料还包括所述金属图形层的材料形成的金属颗 粒。
[000引优选地，所述低反射图形层的厚度为300A至600A。
[0009] 优选地，所述显示基板为阵列基板或触控基板。
[0010] 作为本发明的另一个方面，提供一种显示面板，所述显示面板包括显示基板，其 中，所显示基板为本发明所提供的上述显示基板。
[0011] 优选地，所述显示基板为阵列基板，所述显示面板还包括对盒基板、背光源和液晶 层，所述对盒基板位于所述背光源和所述液晶层之间，所述液晶层设置在所述对盒基板和 所述阵列基板之间。
[0012] 优选地，所述显示基板为触控基板，所述显示面板还包括显示屏，所述触控基板设 置在所述显示屏的出光面上，且所述金属图形层朝向所述显示屏，所述低反射图形层朝向 所述衬底基板。
[0013] 作为本发明的还一个方面，提供一种显示装置，所述显示装置包括显示基板，其 中，所述显示基板为本发明所提供的上述显示基板。
[0014] 作为本发明的还一个方面，提供一种制造本发明所提供的上述显示基板的制造方 法，其中，所述制造方法包括：
[0015] 提供衬底基板；
[0016] 瓣射形成低反射层，瓣射祀材为金属，工艺气体包括氧气；
[0017] 停止通入氧气，继续瓣射形成金属层；
[0018] 对形成为一体的低反射层和金属层进行图形化，W获得所述导电图形层。
[0019] 优选地，在瓣射形成低反射层的步骤中，工艺气体还包括不与瓣射祀材反应的惰 性气体。
[0020] 优选地，所述惰性气体为氣气。
[0021] 优选地，所述祀材的材料为钢、铁、钢合金和铁合金中的任意一者或任意几者，在 形成低反射层的步骤中，氣气的流速为500seem至700seem,氧气的流速为600seem至 SOOseem。
[0022] 优选地，所述低反射层的厚度在300Λ至拂化4之间。
[0023] 在本申请所提供的技术方案中，与衬底基板直接接触的是低反射图形层，由于低 反射图形层包括制成金属图形层的材料的氧化物，因此，低反射图形层的表面并不光滑，并 且形成有一些诸如空隙之类的缺陷，从而在导电图形层的上表面变得相对粗糖。当外界的 光线穿过衬底基板照射在导电图形层的上表面上时，一部分光被低反射图形层吸收，没被 吸收的光会形成漫反射，散射向不同的方向，不会形成镜面反射，从而可W降低因外部环境 光的反射而对使用本发明所提供的显示装置的出射光，获得较好的显示效果。
【附图说明】
[0024] 附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具 体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：
[0025] 图1是现有的基板的示意图；
[0026] 图2是本发明所提供的基板的示意图；
[0027] 图3是本发明所提供的显示装置的一种实施方式；
[0028] 图4是本发明所提供的显示装置的另一种实施方式；
[0029] 图5是本发明所提供的制造方法的流程图。
[0030] 附图标记说明
[0031] 100:衬底基板 200:导电图形层
[0032] 210:低反射图形层 220:金属图形层
[0033] 300:对盒基板 400:背光源
[0034] 500:液晶层 600:显示屏
【具体实施方式】
[0035] W下结合附图对本发明的【具体实施方式】进行详细说明。应当理解的是，此处所描 述的【具体实施方式】仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
[0036] 在本发明中，方位词"上"、"下"通常是指图帥的"上"、"下"方向。
[0037] 作为本发明的一个方面，提供一种显示基板，如图2所示，所述显示基板包括衬底 基板100和设置在该衬底基板100上的导电图形层200,其中，导电图形层200包括设置在衬 底基板100上的低反射图形层210和形成在该低反射图形层210上的金属图形层220,低反射 图形层210的材料包括金属氧化物，该金属氧化物为通过对金属图形层220的金属材料进行 氧化获得。例如，当金属图形层220的材料为Mo时，低反射图形层210的材料则可包括Mo的氧 化物，当金属图形层220的材料为Cu时，低反射图形层210的材料则可W包括Cu的氧化物。
[0038] 在本发明中，由于所述显示基板是用于显示面板中的，因此，衬底基板100可W由 透明材料制成，W形成为显示面板的出光面。除此之外，外界的环境光也是直接照射在衬底 基板100的表面。
[0039] 在本申请所提供的技术方案中，与衬底基板100直接接触的是低反射图形层210， 由于低反射图形层210包括金属氧化物，因此，低反射图形层210的表面并不光滑，例如会有 一些空隙等形状的存在，从而使得导电图形层200的朝向外部环境的表面(即，图2中的上表 面)变得相对粗糖。当外界的光线穿过衬底基板100照射在导电图形层200的上表面上时，一 部分光被低反射图形层210吸收，没被吸收的光形成漫反射，散射向不同的方向，不会形成 镜面反射，从而可W降低因外部环境光的反射而对使用本发明所提供的显示装置的出射光 造成不良的影响，W获得较好的显示效果。
[0040] 在本发明中，对所述显示基板的具体结构并没有特殊的限制，例如，所述基板可W 是阵列基板，也可W是触控基板。下文中将对运两种情况进行详细的解释，运里先不寶述。
[0041] 在本发明中，对金属图形层220的具体材料并不做特殊的限制，例如，金属图形层 220的材料为可W钢、铁、钢合金和铁合金中的任意一者或任意几者。也就是说，金属图形层 220的材料可W是金属钢，也可W是金属铁，还可W是钢合金或者铁合金，也可W是上述材 料中任意几者的混合物。相应地，低反射图形层210的材料可W包括钢的氧化物、铁的氧化 物、铁合金的氧化物和钢合金的氧化物中的任意一者或者任意几者的混合物。
[0042] 为了确保导电图形层200的导电性，优选地，低反射图形层210的材料还包括金属 图形层220的材料形成的金属颗粒。换言之，低反射图形层210的材料为金属氧化物颗粒和 金属颗粒的混合物。由于金属氧化物与金属颗粒的密度存在差异，因此，金属氧化物和金属 颗粒之间存在间隙等缺陷，从而可W提高低反射图形层210表面的粗糖度。混合在金属氧化 物中的金属颗粒可W使得低反射图形层210具有一定的导电性，从而可W提高整个导电图 形层200的导电性。
[0043] 为了使得导电图形层兼具光吸收性、漫反射性W及导电性，优选地，低反射图形层 210的厚度可W为300A至60OA。
[0044] 当所述基板为阵列基板时，直接形成在所述衬底基板上的导电图形层200可W包 括栅线、公共电极线等。当所述基板为触控基板时，直接形成在所述衬底基板上的导电图形 层200可W包括触控驱动电极和触控感应电极。
[0045] 作为本发明的另一个方面，提供一种显示面板，所述显示面板包括显示基板，其 中，所述显示基板为本发明所提供的上述显示基板。
[0046] 由于所述显示基板设置在