专利名称：Tft玻璃基板边研磨装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种研磨TFT玻璃基板边沿的研磨装置
背景技术：
如图I所示，目前玻璃基板与研磨轮转向切线方向相同，即所谓的DOWN方式。这种方式，从物质运动原理来看，同向运动相互作用力减弱。因此，在磨轮电机转速和玻璃基板运行速度相同时，玻璃基板边沿容易出现漏研磨现象。也就是所谓的欠研磨。实际生产中生产节拍相同的情况下，欠研磨比例占总加工不良的25%，也就是说，此因素直接造成良品率下降25%。
发明内容本实用新型的目的是提供一种研磨效果好、提高玻璃基板良品率的TFT玻璃基板边研磨装置。为实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案本实用新型包括将TFT玻璃基板定位的研磨平台，研磨平台移动路径的两边对称设置TFT玻璃基板边研磨轮，所述TFT玻璃基板边研磨轮转向切线方向与研磨平台移动方向相反。在所述研磨平台的每边各设置一个TFT玻璃基板边研磨轮。在所述研磨平台的每边各设置两个TFT玻璃基板边研磨轮。采用上述技术方案的本实用新型，将边研磨轮转向切线方向与玻璃基板行进方向相反，即所谓的UP方式，使得良品率直接提高24. 5%。
图I为现有技术的结构示意图。图2为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
如图2所示，本实用新型包括将TFT玻璃基板3定位的研磨平台I，研磨平台I移动路径的两边对称设置TFT玻璃基板边研磨轮2，上述TFT玻璃基板边研磨轮2转向切线方向与研磨平台I移动方向相反。一般来说，在研磨平台I的每边各设置一个或两个TFT玻璃基板边研磨轮2。本实用新型的工作原理是将边研磨轮转向切线方向与玻璃基板3行进方向相反，即所谓的UP方式。从物质运动原理来看，相对运动相互作用力同比增加，切削力增加，玻璃基板漏研磨几率大大降低。欠研磨比例由改之前25%下降到O. 05%。，也就是同比条件下良品率直接提高24. 5%。
权利要求1.一种TFT玻璃基板边研磨装置，它包括将TFT玻璃基板定位的研磨平台(1)，研磨平台(I)移动路径的两边对称设置TFT玻璃基板边研磨轮(2)，其特征在于所述TFT玻璃基板边研磨轮(2 )转向切线方向与研磨平台(I)移动方向相反。
2.根据权利要求I所述的TFT玻璃基板边研磨装置，其特征在于在所述研磨平台(I)的每边各设置一个TFT玻璃基板边研磨轮(2)。
3.根据权利要求I所述的TFT玻璃基板边研磨装置，其特征在于在所述研磨平台(I)的每边各设置两个TFT玻璃基板边研磨轮(2)。
专利摘要一种TFT玻璃基板边研磨装置，它包括将TFT玻璃基板定位的研磨平台，研磨平台移动路径的两边对称设置TFT玻璃基板边研磨轮，所述TFT玻璃基板边研磨轮转向切线方向与研磨平台移动方向相反。采用上述技术方案的本实用新型，将边研磨轮转向切线方向与玻璃基板行进方向相反，即所谓的UP方式，使得良品率直接提高24.5%。
文档编号B24B37/00GK202377907SQ20112050320
公开日2012年8月15日 申请日期2011年12月7日 优先权日2011年12月7日
发明者刘先强, 张旭, 李策, 杜跃武, 王俊明, 苏记华, 薄昌盛, 闫大庆 申请人:东旭集团有限公司, 郑州旭飞光电科技有限公司