1.一种新型掩膜，其特征在于：包括：掩膜主体(1)和与掩膜主体(1)一体式设计且包围所述掩膜主体(1)的掩膜架(2)，所述掩膜主体(1)上形成有指定图案；
所述掩膜架(2)上分布有安装孔且所述安装孔内设有支撑结构(3)。
2.根据权利要求1所述的一种新型掩膜，其特征在于：所述支撑结构(3)包括：设置于安装孔内的支撑件(5)和安装在支撑件(5)自由端的衬垫(4)。
3.根据权利要求2所述的一种新型掩膜，其特征在于：所述支撑件(5)具有弹性。
4.根据权利要求3所述的一种新型掩膜，其特征在于：所述支撑件(5)为压缩弹簧。
5.根据权利要求3所述的一种新型掩膜，其特征在于：所述支撑件(5)为弹性橡胶。
6.根据权利要求1至5任一项所述的一种新型掩膜，其特征在于：所述支撑结构(3)在掩膜架(2)上均匀分布，数量至少8个。
7.根据权利要求1至5任一项所述的一种新型掩膜，其特征在于：所述支撑结构(3)具有相同的高度。
8.根据权利要求1至5任一项所述的一种新型掩膜，其特征在于：所述支撑结构(3)高度范围0-0.5mm。
9.根据权利要求1所述的一种新型掩膜，其特征在于：所述支撑结构的材质为不锈钢或因瓦合金，其直径大小为2-20mm。
10.一种蒸镀装置，其特征在于，其包括权利要求1-权利要求9所述的新型掩膜。