技术总结
本实用新型涉及一种用于制备大面积钙钛矿薄膜的脉冲CVD设备，包括沉积系统和两路原料吹送系统，沉积系统包括至少一个沉积室以及真空泵；各个沉积室的上端分别连接有第一进气管和第二进气管，第一进气管和第二进气管上分别设置有第一脉冲阀和第二脉冲阀，第一进气管与第一路原料吹送系统连接，第二进气管与第二路原料吹送系统连接；各个沉积室的下端分别连接有排气管，各个排气管分别与真空泵连接，各个排气管上设置有截止阀；各个沉积室内设置有衬底加热器，待加工衬底放置在衬底加热器上。本实用新型的大面积钙钛矿薄膜的设备，通过逐层生长的模式，大大提高了钙钛矿薄膜大面积均匀性，多腔体的构造可以实现大规模的生产。
技术研发人员：王书博;丁建宁;袁宁一;贾旭光
受保护的技术使用者：常州大学
文档号码：201720312427
技术研发日：2017.03.28
技术公布日：2017.10.17