1.一种双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和低辐射膜层，所述低辐射膜层从玻璃基片表面开始依次为：第一介质组合层、第一红外反射层、第一金属保护层、第二介质组合层、第二红外反射层、第二阻挡层、第三介质层；
其中，第一介质组合层由依次设置的氮化硅层、氧化铋层构成；
第一金属保护层由依次设置的铜层、镍铬合金层构成；
第二介质组合层由依次设置的氮化硅层、氧化锌锡层、氧化锌铝层构成；
第二阻挡层为陶瓷氧化锌铝层；
第三介质层为氮化硅层。
2.根据权利要求1所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述玻璃基片是浮法白玻。
3.根据权利要求1所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述双银低辐射镀膜玻璃通过真空磁控溅射技术镀制而成。
4.根据权利要求1所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，第一介质组合层中，氮化硅层厚度为11~14nm，氧化铋层18~25nm。
5.根据权利要求1所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，第一红外反射层，厚度为11~13nm，具体为银层；
第二红外反射层，厚度13~15nm，具体为银层。
6.根据权利要求1所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，第一金属保护层中，铜层的厚度为2.5~4.0nm，镍铬合金层厚度2~4nm。
7.根据权利要求1所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，第二介质组合层中，氮化硅层的厚度为30~43nm，氧化锌锡层的厚度为30~40nm，氧化锌铝层的厚度为5~8nm。
8.根据权利要求1所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，第二阻挡层为陶瓷氧化锌铝层，厚度5~8nm。
9.根据权利要求1所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，第三介质层中，氮化硅层的厚度28~34nm。
10.根据权利要求1所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，在玻璃基片上的膜层结构由内至外依次为：氮化硅/氧化铋/银/铜/镍铬合金/氮化硅/氧化锌锡/氧化锌铝/银/陶瓷氧化锌铝/氮化硅。