用于制备立体选择性环氧酮化合物的方法
【专利摘要】提供了一种用于制备立体选择性环氧酮化合物的新方法。一种用于制备由通式(1)表示的环氧酮化合物的方法，如下面的示意图所示，其中能以高产率和高选择性获得环氧酮衍生物，并提供工业上可用的制备方法以及提供它们的中间体。其中R1是氢原子,直链、支化或环状烷基基团,可具有取代基的芳香族基团,或可具有取代基的杂环基团,R2是用于氨基的保护性基团。R是氢原子或C1-10烷基基团,且多个R可以相同或不同,前提是至少一个R是C1-10烷基基团。
【专利说明】用于制备立体选择性环氧酮化合物的方法 【技术领域】 本发明涉及用于制备环氧酮化合物的方法，其可用作药物的中间体。 【背景技术】 由结构式（Ia)和（Ib)(其中PG是保护性基团，Boc是叔丁氧基羰基，Cbz是苄氧基羰 基，在本说明书的后文中通用）表示的环氧酮衍生物是作为药物原材料等的重要化合物 (非专利文献1和专利文献3)。到目前为止,它们的制备方法包括直接环氧化α，β -不饱 和的酮（2a)(非专利文献1)的制备方法，以及环氧化可通过还原α，β -不饱和的酮（2a) 或（2b)，然后对环氧醇（4a)或（4b)进行氧化而获得的烯丙醇（3a)或（3b)的合成方法（专 利文献1，2和3)。
【权利要求】
1. 一种用于制备由通式（3)表示的醇化合物的方法：
其中R1是氢原子，直链、支化或环状烷基基团，可具有取代基的芳香族基团，或可具 有取代基的杂环基团，R2是用于氨基的保护性基团，所述方法包括在由R3N?BH3表示的胺 硼烷络合物的存在下，还原由通式（2)表示的化合物：
其中R1和R2如上所定义，其中R是氢原子或烷基基团，且多个R可以相同或不 同，前提是至少一个R是烷基基团。
2. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，R1是异丙基基团。
3. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，R1是苯基基团。
4. 如权利要求1-3中任一项所述的方法，其特征在于，R2是叔丁氧基羰基或苄氧基羰 基。
5. -种用于制备由通式（1)表示的环氧酮化合物的方法：
其中R1是氢原子，直链、支化或环状烷基基团，可具有取代基的芳香族基团，或可具 有取代基的杂环基团，R2是用于氨基的保护性基团，所述方法包括用氧化剂来氧化由通式 (4)表示的醇化合物：
其中R1和R2如上所定义，且氧化时存在由通式（6)表示的N-羟基化合物：
其中Rx选自下组的至少一种取代基：卤素原子、硝基、氰基、羟基、巯基、氨基、甲酰基、 駿基、横基、直链或支化(^_12焼基基团、C3_12环焼基基团、（(^_12焼基）氧基基团、（C3_12环焼 基）氧基基团、（Ch2焼基）硫基基团、（C3_12环焼基）硫基基团、（Ch2焼基）氣基、（C3_12环 焼基）氣基、-（Ch焼基）氣基、_(C3_6环焼基）氣基、CH2焼基撰基、C3_12环焼基撰基、 (Ch2焼基）氧基撰基、（C3_12环焼基）氧基撰基、（Ch2焼基）硫代撰基、（C3_12环焼基）硫 代撰基、（(^_12焼基）氣基撰基、（C3_12环焼基）氣基撰基、_((^_6焼基）氣基撰基、_(C3_6 环焼基）氣基撰基、（CH2焼基）撰基氧基基团、（C3_12环焼基）撰基氧基基团、（CH2焼基） 撰基硫基基团、（C3_12环焼基）撰基硫基基团、（Ch2焼基）撰基氣基、（C3_12环焼基）撰基氣 基、-（Ch2焼基撰基）氣基、(C3_12环焼基撰基）氣基、(^_6齒代焼基基团、C3_6齒代环焼 基基团、C2_6稀基、C3_6环稀基、C2_6齒代稀基、C3_6齒代环稀基、C2_6块基、C2_6齒代块基、可用 Ra取代的苄基、可用Ra取代的苄基氧基基团、可用Ra取代的苄基硫基基团、可用Ra取代的 苄基氨基、可用Ra取代的二苄基氨基、可用Ra取代的苄基羰基、可用Ra取代的苄氧基羰基、 可用Ra取代的苄基硫代羰基、可用Ra取代的苄基氨基羰基、可用Ra取代的二苄基氨基羰基、 可用Ra取代的苄基羰基氧基基团、可用Ra取代的苄基羰基硫基基团、可用Ra取代的苄基羰 基氨基、可用Ra取代的二（苄基羰基）氨基、可用Ra取代的芳基、可用Ra取代的芳基氧基 基团、可用Ra取代的芳基硫基基团、可用1^取代的芳基氨基、可用Ra取代的二芳基氨基、可 用Ra取代的芳基羰基、可用Ra取代的芳基氧基羰基、可用Ra取代的芳基硫代羰基、可用Ra 取代的芳基氨基羰基、可用1^取代的二芳基氨基羰基、可用Ra取代的芳基羰基氧基基团、可 用1^取代的芳基羰基硫基基团、可用Ra取代的芳基羰基氨基，以及可用1^取代的二（芳 基羰基）氨基，k是0-12的整数，且当k大于或等于2时Rx可以相同或不同， Ry和Rz各自独立地是氢原子或Rx，或者Ry和Rz -起形成可用一个Rx或者两个相同或 不同Rx取代的亚甲基，以及 Ra是齒素，Ci_6焼基基团，Ci_6齒代焼基基团，C3_6环焼基基团，Ci_6焼氧基基团，C^_6焼 氧基(^_6焼基基团，Ci_6焼基亚氧硫基(^_6焼基基团，Ci_6齒代焼氧基基团，Ci_6焼基亚氧硫 基，C^_6焼基亚硫酸基，(^_6焼基横酸基，(^_6齒代焼基亚氧硫基，(^_ 6齒代焼基亚硫酸基，(^_6 齒代烧基横醜基，C2_6稀基，C2_6齒代稀基，C2_6稀基氧基基团，C2_6齒代稀基氧基基团，C2_6 稀基亚氧硫基，C2_6稀基亚硫醜基，C2_6稀基横醜基，C2_6齒代稀基亚氧硫基，C2_6齒代稀基 亚硫酰基，c2_6卤代烯基磺酰基，c2_6炔基，c2_6卤代炔基，c2_6炔基氧基基团，c2_6卤代炔 基氧基基团，C2_6块基亚氧硫基，C2_6块基亚硫醜基，C2_6块基横醜基，C2_6齒代块基亚氧硫 基，c2_6卤代炔基亚硫酰基，c2-c6卤代炔基磺酰基，N02,CN，甲酰基，OH，SH，NH2,SCN，(^_6烷 氧基撰基，CV6烧基撰基，Ci_6齒代烧基撰基，Ci_6烧基撰基氧基基团，苯基基团，Ci_6烧基 氨基或二Cm烷基氨基，待取代的Ra数量是1-5,当Ra大于或等于2时，各取代基可以相同 或不同。
6. 如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述R1是异丙基基团。
7. 如权利要求5所述的方法，其特征在于，R1是苯基基团。
8. 如权利要求5-7中任一项所述的方法，其特征在于，R2是叔丁氧基羰基或苄氧基羰 基。
9. 一种由通式（7)表示的环氧醇化合物：
其中R2是-C(0)0Rb，Rb是(^6烷基基团，Z是卤素原子，硝基，氰基，(V6烷基基团或 (V6卤代烷基基团，且p是整数0, 1，2, 3, 4或5。
【文档编号】C07C269/06GK104411682SQ201380033893
【公开日】2015年3月11日 申请日期:2013年6月27日 优先权日:2012年6月29日
【发明者】西野幸宏, 涌井和也, 村濑翔太, 境芳郁 申请人:日产化学工业株式会社