一种SGLT-2抑制剂中间体的合成方法与流程

技术特征：

1.一种制备SGLT-2抑制剂中间体(式I)的方法，其特征在于，由式II化合物经NaBH₄/TMSCl复合体系还原得到式I化合物：

其中，X为卤素。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，反应是在三氟化硼乙醚络合物存在的条件下进行的。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，TMSCl与NaBH₄的摩尔量之比优选为1～4:1。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于反应温度优选为0℃-50℃。

5.根据权利要求1所述的方法，式II化合物是通过式IV化合物按照下面的方法制备的，

其中，X为卤素。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于反应温度为-10℃-50℃。

7.根据权利要求1-6任意一项所述的方法，其特征在于X优选为Br、Cl或I。