一种SGLT-2抑制剂中间体的合成方法与流程

技术总结
本发明公开了一种SGLT-2抑制剂中间体的制备方法。该方法主要是利用硼氢化钠(NaBH4)和三甲基氯硅烷(TMSCl)复合还原剂，将羰基还原为亚甲基。该路线具有副反应少、对环境相对友好、价格便宜、原料易得和利于规模化生产等特点。

技术研发人员：林文清;郑宏杰;林川华;沈陈健;刘守宣
受保护的技术使用者：重庆博腾制药科技股份有限公司
文档号码：201510343485
技术研发日：2015.06.19
技术公布日：2017.01.11