多孔钴基有机无机杂化材料及其制备方法和应用与流程

技术特征：

1.一种多孔钴基有机无机杂化材料，其特征在于它具有下述化学式：[Co₂(HCOO)₂(CPT)₂](NMF)₅(H₂O)₂，其中CPT为4-(1,2,4-三氮唑基)苯甲酸阴离子、NMF为氮甲基甲酰胺，CPT的结构简式如下：

所述多孔钴基有机无机杂化材料结晶于三方晶系(trigonal)，空间群为R-3c，

2.根据权利要求1所述多孔钴基有机无机杂化材料，其特征在于：所述多孔钴基有机无机杂化材料具有由三氮唑基团、羧基与甲酸根连接金属钴形成的一维S型次级构筑单元链，所述单元链中的Co²⁺均是六配位，并分别与三氮唑的氮原子、羧酸的氧原子以及甲酸根上的氧原子配位形成变形的八面体笼状结构，所述八面体笼状结构在晶体a方向堆积形成六角形的一维孔道结构。

3.根据权利要求1所述多孔钴基有机无机杂化材料，其特征在于：所述多孔钴基有机无机杂化材料的孔隙率为48.6％～53.8％。

4.根据权利要求1所述多孔钴基有机无机杂化材料，其特征在于：所述多孔钴基有机无机杂化材料的元素分析结果为：C 39.57、H 4.65、N 16.74。

5.如权利要求1-4中任一项所述多孔钴基有机无机杂化材料的制备方法，其特征在于包括：将摩尔比为3:1～5:1的钴盐、HCPT有机配体在溶剂中充分混合，之后在温度为80～90℃条件下固化处理48～72h，获得红色块状晶体，即为所述的多孔钴基有机无机杂化材料；

其中，所述钴盐包括六水硝酸钴，所述溶剂包括NMF和H₂O。

6.根据权利要求5所述的多孔钴基有机无机杂化材料的制备方法，其特征在于包括：将钴盐与HCPT配体混合均匀得到混合物，然后加入到溶剂中，常温搅拌30～40min。

7.根据权利要求6所述的多孔钴基有机无机杂化材料的制备方法，其特征在于：所述混合物与NMF、H₂O的用量比为55mg:3mL:1mL～55mg:5mL:1mL。

8.如权利要求1-4中任一项所述多孔钴基有机无机杂化材料在C₂H₂储存领域的应用。

9.一种C₂H₂储存材料或选择性吸附材料，由权利要求1-4中任一项所述多孔钴基有机无机杂化材料制成。

10.一种C₂H₂储存材料或选择性吸附材料的制备方法，其特征在于包括：将权利要求1-4中任一项所述的多孔钴基有机无机杂化材料以二氯甲烷浸泡60～72h，之后在温度为30～40℃的条件下真空加热24～36h。