。在本说明书中，术语"键阳离子"可指包括其中的至少一部分电荷广泛分布于 原子如氮(N)、憐(P)和/或硫(S)上的结构的带正(+ )电荷的离子。ft阳离子可为环状或非环 状化合物，并且非环状化合物可为芳香族或非芳香族化合物。除氮、憐和/或硫之外，键阳离 子还可包含其他原子，如氧或碳原子。雜阳离子可任意地经取代基如面素、烷基或芳基取 代。例如，非环状化合物可包含一种或四种或更多种取代基，并且取代基可为环状或非环状 取代基或者芳香族或非芳香族取代基。
[0化7] 翰阳离子的实例可包括季锭离子，如N-乙基-N，N-二甲基-N-丙基锭、Ν，Ν，Ν-Ξ甲 基-Ν-丙基锭、Ν-甲基-N，N，N-ST基锭、Ν-乙基-N，N，N-ST基锭、Ν-甲基-N，N，N-S己基 锭、N-乙基-N，N，N-ミ己基锭、N-甲基-N，N，N-S辛基锭、或N-乙基-N，N，N-S辛基锭、憐雜,、 化晚翰，、咪挫鎌，、邮咯烧铺或赃晚鋪。
[005引包含于离子化合物如无机盐或有机盐中的阴离子的实例可包括PF6-、AsF-、N02-、 氣(F-)、氯(Cr)、漠(Br-)、舰（Γ)、高氯酸根(CIO4-)、氨氧根(OH-)、碳酸根(C032-)、硝酸根 (N03-)三氣甲横酸根(肌S03-)、硫酸根(S04-)、六氣憐酸根(PF6-)、甲基苯横酸根(C曲似此） S03-)、对甲基苯横酸根(C出C6H4SO3-)、四棚酸根(B4072-)、簇基苯横酸根(C00H(C6H4)S03-)、氣 代甲烧横酸根(CF3SO2-)、苯甲酸根（C6曲CO0-)、乙酸根（C曲CO0-)、；氣乙酸根（CF3C00-)、四 氣棚酸根(BF4^、四苯基棚酸根(B(C6也)4l或Ξ五氣乙基Ξ氣憐酸根(P(C2Fs)3的?。
[0059] 在另一个实例中，作为阴离子，可使用双氣横酷基酷亚胺或由W下化学式1表示的 阴离子。
[0060] [化学式。
[0061] [X(Y0mRf)n]-
[0062] 在化学式1中，X表示氮原子或碳原子，Y表示碳原子或硫原子，Rf表示全氣烷基，m 表示1或2,并且η表示2或3。
[0063] 在化学式1中，当Υ是碳时，m可为1;当Υ是硫时，m可为2;当X是氮时，η可为2;并且当 X是碳时，η可为3。
[0064] 双(氣横酷基)酷亚胺或由化学式1表示的阴离子由于全氣烷基(Rf)或氣基表现出 高的电负性;具有特定的共振结构;与阳离子弱结合;并且还具有疏水特性。因此，离子化合 物可表现出与组合物中其他组分(如聚合物)的极好的相容性，然后即使少量也可提供高的 抗静电特性。
[0065] 在化学式1中，虹可为具有1至20个碳原子、1至12个碳原子、1至8个碳原子或1至4 个碳原子的全氣烷基，并且在运种情况下，全氣烷基可具有直链的、支链的或环状结构。在 化学式1中，阴离子可为基于横酷基甲基化物的阴离子、基于横酷基酷亚胺的阴离子、基于 幾基甲基化物的阴离子或基于幾基酷亚胺的阴离子，并且可特别地为ΞΞ氣甲烧横酷基甲 基化物、双Ξ氣甲烧横酷基酷亚胺、双全氣下烧横酷基酷亚胺、双五氣乙烧横酷基酷亚胺、 ΞΞ氣甲烧幾基甲基化物、双全氣下烧幾基酷亚胺或双五氣乙烧幾基酷亚胺中的一种类型 或者两种或更多种类型的组合。
[0066] 考虑到期望的抗静电特性等，可控制抗静电剂的比例，并且在一个实例中，相对于 按重量计100份的嵌段共聚物，可按重量计约0.1份至按重量计20份、按重量计0.1份至 按重量计15份、按重量计0.1份至按重量计10份、按重量计0.1份至按重量计5份、按重量计 0.1份至按重量计3份或按重量计1份至按重量计3份的量包含抗静电剂。
[0067] 压敏粘合剂组合物还可包含硅烷偶联剂。硅烷偶联剂的实例可包括具有β-氯基或 乙酷乙酷基的硅烷偶联剂。例如，硅烷偶联剂可允许通过低分子量共聚物形成的压敏粘合 剂表现出极好的粘合性和粘合稳定性，并且还可允许压敏粘合剂在耐热或耐湿热条件下保 持极好的耐久可靠性。
[0068] 具有β-氯基或乙酷乙酷基的硅烷偶联剂的实例可包括由W下化学式2或3表示的 化合物。
[0069] [化学式2]
[0070] (Rl)nSi(R2)(4-n)
[0071] [化学式3]
[00巧（R3)nSi(R2)(4_n)
[0073] 在化学式2或3中，Ri表示β-氯基乙酷基或β-氯基乙酷基烷基，R3表示乙酷乙酷基或 乙酷乙酷基烷基，R2表示烷氧基，并且η表示1至3的数。
[0074] 在化学式2或3中，烷基可为具有1至20个碳原子、1至16个碳原子、1至12个碳原子、 1至8个碳原子或1至4个碳原子的烷基，并且运样的烷基可为直链的、支链的或环状的。此 夕h在化学式2或3中，烷氧基可为具有1至20个碳原子、1至16个碳原子、1至12个碳原子、1至 8个碳原子或1至4个碳原子的烷氧基，并且运样的烷氧基可为直链的、支链的或环状的。
[00对此外，在化学式2或帥，例如，η可为1至3、1至2,或1。
[0076] 由化学式2或3表示的化合物的实例可包括乙酷乙酷基丙基Ξ甲氧基硅烷、乙酷乙 酷基丙基Ξ乙氧基硅烷、β-氯基乙酷基丙基Ξ甲氧基硅烷，或β-氯基乙酷基丙基Ξ乙氧基 硅烷，但本申请不限于此。
[0077] 相对于在按重量计100份的压敏粘合剂组合物，可按重量计0.01份至按重量 计5份或按重量计0.01份至按重量计1份的量包含硅烷偶联剂。在运样的范围中，可有效地 给压敏粘合剂提供期望的物理特性。
[0078] 如果需要，压敏粘合剂还可包含增粘剂。增粘剂的实例可包括控树脂或其氨加成 物、松香树脂或其氨加成物、松香醋树脂或其氨加成物、祗締树脂或其氨加成物、祗締酪树 脂或其氨加成物、聚合松香树脂，或聚合松香醋树脂中的一种或者两种或更多种的组合，但 本申请不限于此。相对于按重量计100份的嵌段共聚物，可按重量计100份或更少的量 包含增粘剂。
[0079] 如果需要，压敏粘合剂组合物还可包含一种或更多种添加剂，所述添加剂选自可 与抗静电剂形成配位键的配位键合化合物、环氧树脂、固化剂、UV稳定剂、抗氧化剂、调色 剂、增强剂、填料、消泡剂、表面活性剂和增塑剂。
[0080] 在压敏粘合剂组合物中涂覆固含量可为20重量％或更高或者25重量％或更高。在 本说明书中，术语"涂覆固含量"可指涂覆溶液(即，压敏粘合剂组合物被应用至涂覆方法W 形成压敏粘合剂时）的固体含量。运样的涂覆固含量可通过例如W下实施例中公开的方法 测量。一般地，在被应用于涂覆方法时，所述压敏粘附剂组合物，即，涂覆溶液可包含嵌段共 聚物、交联剂、引发剂或其他添加剂，还有溶剂等。可将涂覆固含量调节至20重量％或更高， 并因此可最大化压敏粘合剂、光学膜或显示装置的生产。没有特别限制涂覆固含量的上限， 并且考虑到应用至涂覆方法的粘度，例如，可将其合适地控制在50重量％或更低、40重量％ 或更低或30重量％或更低的范围中。
[0081 ]此外，压敏粘合剂组合物在23°C下的涂覆粘度可为约500cP至3，OOOcP。术语"涂覆 粘度"可指涂覆溶液（即，压敏粘合剂组合物被应用至涂覆方法W形成压敏粘合剂时）的粘 度，W及在保持如上所述的涂覆固含量的状态下的粘度。在23°C下涂覆粘度可W在例如 500cP至，2500cP、700cP至2,500cP、900cP至2,300cP的范围中。包含嵌段共聚物的压敏粘合 剂组合物可表现出在具有高涂覆固含量的状态下可有效地涂覆的粘度水平。
[0082]在实现交联结构之后，压敏粘合剂组合物的凝胶分数可为80重量％或更小。可通 过W下等式1计算凝胶分数。
[008；3][等式U
[0084] 凝胶分数（％)=b/AX100
[0085] 在等式1中，A表示实现交联结构的压敏粘合剂组合物的质量，B表示在使质量为A、 处于放入200目尺寸网的状态的压敏粘合剂组合物在乙酸乙醋中于室溫沉浸72小时后收集 的不溶性级分的干质量。
[0086] 通过保持凝胶分数为80重量％或更小，可极好地保持可加工性、耐久可靠性和可 再加工性。没有特别限制压敏粘合剂组合物的凝胶分数的下限，并且例如，可为0重量％。然 而，0重量％的凝胶分数可能不是指压敏粘合剂组合物中交联完全没有进行的含义。例如， 凝胶分数为0重量％的压敏粘合剂组合物可包括其中交联完全没有进行的压敏粘合剂组合 物，或者交联部分地进行的压敏粘合剂组合物，但交联程度低，并因此凝胶不保持在200目 的尺寸的网上，因此从网中漏出。
[0087] 压敏粘合剂组合物可用于多种用途。作为典型用途，可举例W下将描述的其用于 保护膜或光学膜的用途，但本申请不限于此。
[0088] 此外，本申请设及保护膜。例如，保护膜可用于保护多种光学膜的表面。
[0089] 此处，作为光学膜，可举例偏光板、起偏器、起偏器保护膜、延迟膜、视角补偿膜或 亮度提高膜，但本申请不限于此。在本说明书中，术语"起偏器"和"偏光板"指彼此不同的物 体。换言之，起偏器指其本身显示出偏振功能的膜、片或装置，而偏光板指包含伴随起偏器 的其他元件的光学元件。作为连同起偏器可包含于光学元件中的其他元件，可举例起偏器 保护膜或延迟膜，但本申请不限于此。
[0090] 例如，保护膜可包含保护基底层，和在基底层一侧或基底层两侧上的压敏粘合剂 层。例如，压敏粘合剂层可包含压敏粘合剂组合物。例如，压敏粘合剂组合物可交联状 态(即，实现交联结构的状态)包含于压敏粘合剂层中。
[0091] 保护基底层可为相关领域已知的一般的膜或片。其实例可包括聚醋膜如对苯二酸 聚乙二醇醋或对苯二酸聚下二醇醋，或塑料膜如聚四氣乙締膜、聚乙締膜、聚丙締膜、聚下 締膜、聚下二締膜、聚（氯乙締)膜或聚酷亚胺膜。运些膜可为一层，或可W两层或更多层层 压。在一些情况下，运些膜还可包括功能层，如防污层。此外，在改善基底粘合性的方面，可 在所述基底的一侧或两侧上进行表面处理，如底漆处理