一种减少催化剂携带烃类的系统的制作方法

文档序号:11394610阅读:370来源:国知局
一种减少催化剂携带烃类的系统的制造方法与工艺

本实用新型涉及一种减少携带烃类系统,更具体的说是涉及一种减少催化剂携带烃类的系统。



背景技术:

连续重整装置再生单元是由一套与反应部分密切相连又相对独立的设备组成,其作用是实现催化剂连续循环的同时完成催化剂的再生;

催化剂进入反应器后,在积碳过程中催化剂会携带少量的烃类,随着催化剂输送带入再生部分,随附产生烧焦过程中使得再生单元水含量超标,再生单元水含量超标会使氯吸附罐在催化剂循环过程中产生吸附热,存在超温现象导致催化剂破坏并难于重复利用;且过量的水带入重整反应系统,使得反应系统水含量超标,影响水氯平衡和产品分布。



技术实现要素:

本实用新型是为了弥补上述技术的缺陷,提供了一种简单、容易实现的操作方法,降低了催化剂对烃类的携带量。

为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:包括依次连通的进料管道、反应器和出料管道,所述反应器上连通设置有催化剂循环管道,所述催化剂循环管道连接有氢气吹扫管道,所述氢气吹扫管道的另一端分别并行连接有氢气再接触机构和氢气重整循环管道。

作为一种改进,所述氢气吹扫管道上设置有换热器。

作为一种改进,所述出料管道包括换热管道和反应管道,所述换热管道和反应管道的横截面比为1:19,所述换热管道连接换热器。

作为一种改进,所述氢气再接触机构包括依次连通的压缩机、蒸发器、气液分离罐以及调节阀和PSA装置。

本实用新型的有益效果是:本实用新型采用再接触氢气进行吹扫,使得吹扫氢的纯度高,去除了由于循环氢携带的大分子烃类对后续步序的影响,对催化剂携带的烃类更易脱除;再生氯吸附的温度得以控制,避免了由于氯吸附罐温度超温引起的再生热停;再生单元在炼焦过程中产生的水含量降低,带入重整反应系统水含量下降,同时并列设置的氢气再接触机构和氢气重整循环管道利于控制各条支路的流量从而整体调控输入吹扫氢气的组成、流量等因素,适应性强。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构示意图。

图2为本实用新型的氢气再接触机构的整体结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的实施例进行详细说明。

如图1、图2所示为本实用新型的一种减少催化剂携带烃类的系统的一种具体实施例,包括依次连通的进料管道1、反应器2和出料管道3,所述反应器2上连通设置有催化剂循环管道4,所述催化剂循环管道4连接有氢气吹扫管道5,所述氢气吹扫管道5的另一端分别并行连接有氢气再接触机构6和氢气重整循环管道7;本实用新型引入氢气吹扫管道5解决反应器2中催化器因反应物料中携带的物料烃清除率较低导致的超标的物料携带烃随着催化剂输送带入再生部分,随附产生烧焦过程中使得再生单元水含量超标,再生单元水含量超标会使氯吸附罐在催化剂循环过程中产生吸附热,存在超温现象导致催化剂破坏并难于重复利用;且过量的水带入重整反应系统,使得反应系统水含量超标,影响水氯平衡和产品分布,进一步的,传统领域往往采用单一的重整循环氢进行吹扫,而相对应的,重整循环氢因吹扫的氢气本身的纯度不够,使得吹扫过程中又从重整循环氢中带入了新的烃,不但起不到吹扫的效果,反而使得影响干扰因素更多更难于控制,进而本实用新型采用氢气再接触机构6所获得的再接触氢气进行吹扫,该部分氢气由于经历了氢气再接触机构6,由于该机构的存在使得吹扫氢气的纯度大幅提高,不仅不会带入新的烃且能降低催化剂循环管道4上氢气的纯度,避免了上述问题的产生,提高催化剂利用率和产品的分布,同时,并行连接的氢气再接触机构6和氢气重整循环管道7能通过在各自路径上设置控制阀等使得每一条支路可控可调整,从而达到工艺所需的流量,可适应性和可调节性增高。

作为一种改进的具体实施方式,所述氢气吹扫管道5上设置有换热器5a,换热器5a的引入使得吹扫氢气进入催化剂循环管道4时不会因温差过大导致反应器2受到冲击过大,影响反应和成品率。

作为一种改进的具体实施方式,所述出料管道3包括换热管道3a和反应管道3b,所述换热管道3a和反应管道3b的横截面比为1:19,所述换热管道3a连接换热器5a,进一步的,本实用新型将经过反应器后的出料一部分用于换热器5a,功能,即一定程度保证了整体装置可持续性,又能最优化获得所需的反应产物比例。

作为一种改进的具体实施方式,所述氢气再接触机构6包括依次连通的压缩机6a、蒸发器6b、气液分离罐6c以及调节阀6d和PSA装置6f;本部分采用依次连接的压缩机6a、蒸发器6b(采用丙烷制冷剂)、气液分离罐6c以及调节阀6d和PSA装置6f对氢气,该装置特别适用于歧化尾氢的重整再接触,其所获得的氢气纯度高,杂质少,且兼具安全性能,并由于调节阀6d存在使得流量可控且平稳易于操作。

以上仅是本实用新型的优选实施方式,本实用新型的保护范围并不仅局限上述实施例,凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

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