磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板和磁盘的制造方法

文档序号:9355306阅读:468来源:国知局
磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板和磁盘的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及在搭载于硬盘驱动器(下文中简称为"HDD")等磁记录装置的磁盘中 所用的磁盘用玻璃基板及其制造方法。
【背景技术】
[0002] 作为搭载于HDD等磁记录装置的一种信息记录介质,存在磁盘。磁盘是在基板上 形成磁性层等薄膜而构成的,作为该基板过去一直使用铝基板。但是,最近,随着记录的高 密度化的要求,与铝基板相比玻璃基板能够使磁头和磁盘之间的间隔变得更窄,因此玻璃 基板所占有的比例逐渐升高。另外,对玻璃基板表面高精度地进行研磨以使磁头的悬浮高 度尽量下降,由此实现记录的高密度化。近年来,对HDD越来越多地要求更大的存储容量化 和价格的低廉化,为了实现这样的目的,磁盘用玻璃基板也需要进一步的高品质化、低成本 化。
[0003] 如上所述,为了进行对于记录的高密度化所必须的低飞行高度(悬浮量)化,磁盘 表面必须具有高平滑性。为了得到磁盘表面的高平滑性,结果要求具有高平滑性的基板表 面,因此需要对玻璃基板表面进行高精度的研磨。
[0004] 在现有的玻璃基板的研磨方法中,一边供给含有氧化铈或胶态二氧化硅等金属氧 化物的研磨材料的浆料(研磨液),一边使用聚氨酯等抛光材料的研磨垫来进行研磨。具有 高平滑性的玻璃基板可以在利用例如氧化铈系研磨材料进行研磨后,进一步通过使用了胶 态二氧化硅磨粒的抛光研磨(镜面研磨)而获得。
[0005] 此处,例如专利文献1中记载了一种磁盘用玻璃基板,其对基板的表面缺陷的形 状和个数进行了管理,能够抑制搭载有飞行高度非常小的磁头的HDD中的不良情况的发 生。
[0006] 现有技术文献
[0007] 专利文献
[0008] 专利文献1 :国际公开第2010/001843号

【发明内容】

[0009] 发明要解决的课题
[0010] 现在的HDD中,例如,每一张2. 5英寸型(直径65mm)的磁盘能够存储320千兆 字节程度的信息,但是要求实现记录的更高密度化、例如750千兆字节、进而1太字节。伴 随着这种近年来的HDD的大容量化的要求,提高基板表面品质的要求也比迄今为止更加严 格。在面向上述那样的例如750千兆字节的磁盘的下一代基板中,由于基板对HDD的可靠 性所产生的影响变大,因此不仅是基板表面的粗糙度,而且在不存在异物缺陷等表面缺陷 的方面也要求对现有产品进行进一步的改善。
[0011] 在下一代基板中基板对HDD的可靠性所产生的影响变大是基于下述理由。
[0012] 可以举出磁头的悬浮量(磁头与介质(磁盘)表面的间隙)的大幅降低(低悬 浮量化)。这样一来,磁头与介质的磁性层的距离接近,因此能够在更小的区域记入信号 及拾取更小的磁性颗粒的信号,能够实现记录的高密度化。近年来,使磁头搭载了被称为 DFH(DynamicFlyingHeight,动态飞行高度)控制的功能。该功能并不是降低滑块的悬浮 量,而是利用在磁头的记录再生元件部附近内置的加热器等加热部的热膨胀,仅使记录再 生元件部向介质表面方向突出(接近)。可以预计:今后,通过该DFH功能,磁头的元件部与 介质表面的间隙变得极小,小于2nm。在这种状况下,使基板表面的平均粗糙度变得极小,结 果可知:若存在以往未成为问题的异物缺陷等表面缺陷,则突出的磁头的记录再生元件部 与异物缺陷发生碰撞,这种磁头与异物缺陷的碰撞再三发生时,会对磁头的驱动产生影响, 有可能引起因元件劣化导致的读取不良这样的重大故障。
[0013] 另外,在上述专利文献1中,作为被认为在具备Dra功能的磁头(下文中简称为 "Dra磁头")那样的飞行高度非常小的磁头中产生影响的缺陷,举出了凸区域宽的凸状异物 缺陷。对于这种凸区域宽的缺陷,例如与凸区域尖锐的缺陷相比,与磁头接触的面积相对较 大,对磁头施加较大的碰撞能量,结果磁头有可能发生碰撞。
[0014] 近年来,作为能够防止因存在上述专利文献1中记载的凸区域宽的缺陷所导致的 DHl磁头的碰撞的技术,提出了使用搭载了HDIOfeadDiskInterface,头盘界面)传感器 的DHl磁头的技术。
[0015] 该HDI传感器是指接触检测传感器,检测出磁盘表面的凸状缺陷(突起物)。HDI 传感器例如由MR(magnetoresistive,磁阻)元件构成,利用过温(ThermalAsperity)现象 进行检测。
[0016] 通过使用搭载有该HDI传感器的DHl磁头,检测出基于该HDI传感器的磁盘表面 的状态,基于该检测结果来控制在磁盘表面上扫描的DHl磁头的写入元件和读入元件中的 至少一个元件的突出量,从而认为能够避免在磁盘表面存在的凸状缺陷与写入?读入元件 的接触。总之,可以认为:通过使用HDI传感器,能够检测出磁盘表面的状态,因此即使存在 上述专利文献1中记载的凸区域宽的缺陷,在DHl磁头通过该缺陷前,控制写入?读入元件 的突出量,也能够避免这些元件与缺陷发生接触。
[0017] 然而,根据本发明人的研究可知,在欲制造例如超过750千兆字节这样的现有之 上的高记录密度的磁盘时,即使在使用了上述HDI传感器的情况下,有时也可引起预测之 外的磁头碰撞。
[0018] 本发明人对其原因也进行了调查,结果发现,由于迄今未检测出的某种特定缺陷 的存在,很有可能引起例如磁头的读取错误的发生频率增大,进而引起上述磁头碰撞的问 题。
[0019] 于是,本发明是为了解决这样的现有问题而进行的,其目的在于提供一种磁盘用 玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板和磁盘的制造方法,该磁盘用玻璃基板的制造方法 即便在形成使用上述HDI传感器的DHl磁头对应的磁盘时,也能够降低预测之外可引起磁 头碰撞的异物缺陷。
[0020] 用于解决课题的方案
[0021] 本发明人对可引起上述磁头碰撞的异物缺陷的产生原因进行了进一步的调查,结 果可知,在作为磁盘的基板的玻璃基板的表面存在异物。并且可知,即使根据例如上述专利 文献1所公开的制造方法进行制造,有时也会存在该异物。即,认为与上述专利文献1中成 为问题的现有的凸区域宽的缺陷是产生原因不同的异物缺陷。
[0022] 于是,本发明人对该异物缺陷的产生原因进行了进一步的研究,结果可知,玻璃基 板的研磨处理中所用的研磨液中含有成为上述缺陷的原因的异物。因此发现:即使在对玻 璃基板表面进行了研磨后,由于研磨液与玻璃基板接触,因此研磨液中含有的异物会附着 于玻璃基板表面,通过之后的清洗等也无法除去,有可能存在于玻璃基板表面。
[0023] 于是,基于上述技术思想,本发明人发现:通过调整为研磨液中不含有成为上述缺 陷的原因的异物,或者选择不含有这种异物的物质作为研磨液,从而能够解决上述课题,由 此完成了本发明。
[0024] S卩,本发明为了达到上述目的而具有以下的构成。
[0025] (构成 1)
[0026] -种磁盘用玻璃基板的制造方法,该磁盘用玻璃基板的制造方法适用于下述DFH 磁头对应的磁盘,该DHl磁头对应的磁盘搭载有HDI传感器,能够基于来自上述HDI传感器 的信号对记录再生元件的至少一个元件的突出量进行控制,该磁盘用玻璃基板的制造方法 包括下述研磨处理:向玻璃基板的主表面与研磨垫之间供给包含胶态二氧化硅的研磨液, 使玻璃基板与研磨垫接触,对玻璃基板的主表面进行镜面研磨,其特征在于,为了防止含有 铝(Al)、硅(Si)和氧(0)的各元素的异物的产生,至少在酸性环境下对上述研磨液进行调 整。
[0027] (构成 2)
[0028] -种磁盘用玻璃基板的制造方法,该磁盘用玻璃基板的制造方法适用于下述Dra 磁头对应的磁盘,该DHl磁头对应的磁盘搭载有HDI传感器,能够基于来自上述HDI传感器 的信号对记录再生元件的至少一个元件的突出量进行控制,该磁盘用玻璃基板的制造方法 包括下述研磨处理:向玻璃基板的主表面与研磨垫之间供给包含胶态二氧化硅的研磨液, 使玻璃基板与研磨垫接触,对玻璃基板的主表面进行镜面研磨,其特征在于,作为上述研磨 液,选择不含有含铝(Al)、硅(Si)和氧(0)的各元素的异物的研磨液,在将上述玻璃基板作 成磁盘并用磁头进行记录再生时,上述各元素可抑制记录再生;利用该选择的研磨液进行 上述研磨处理。
[0029] (构成 3)
[0030] 如构成1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,上述异物为层状化 合物。
[0031] (构成 4)
[0032] 如构成1~3中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,上述胶态 二氧化硅是利用离子交换法所制造的。
[0033] (构成 5)
[0034] 如构成1~4中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,上述胶态 二氧化硅中的铝(Al)的含量为5yg/g以下。
[0035] (构成 6)
[0036] 如构成1~5中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,在上述研 磨处理后,以清洗前后的玻璃基板的表面粗糙度Rq之差为〇. 〇5nm以下的条件进行玻璃基 板的清洗处理。
[0037](构成 7)
[0038] 如构成1~6中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,上述磁盘 用玻璃基板是在搭载于服务器用的硬盘驱动器的磁盘中所用的玻璃基板。
[0039](构成 8)
[0040] -种磁盘用玻璃基板的制造方法,该磁盘用玻璃基板的制造方法适用于下述Dra 磁头对应的磁盘,该DHl磁头对应的磁盘搭载有HDI传感器,能够基于来自上述HDI传感器 的信号对记录再生元件的至少一个元件的突出量进行控制,该磁盘用玻璃基板的制造方法 包括下述研磨处理:向玻璃基板的主表面与研磨垫之间供给包含胶态二氧化硅的研磨液, 使玻璃基板与研磨垫接触,对玻璃基板的主表面进行镜面研磨,其特征在于,在将上述玻璃 基板作成磁盘并用上述DHl磁头进行记录再生时,为了防止可抑制上述记录再生的异物的 产生,上述研磨液进行了调整。
[0041] (构成 9)
[0042] -种磁盘的制造方法,其特征在于,在利用构成1~8中任一项所述的磁盘用玻璃 基板的制造方法所得到的磁盘用玻璃基板的主表面上至少形成磁性膜。
[0043](构成10)
[0044] 一种磁盘用玻璃基板,其为具有主表面的磁盘用玻璃基板,其特征在于,对于上述 基板的主表面,利用原子力显微镜以256X256像素的分解率测定IymXIym见方的测定 区域时的算术平均粗糙度Ra为0. 15nm以下,且30nm~200nm的波段的算术平均粗糙度Ra 为0. 06nm以下,对于上述基板的主表面,以6ym的光斑直径照射波长405nm、功率80mW的 激光,通过来自上述基板的主表面的散射光检测出异物时,每一个主表面存在30个以
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