半导体器件的制造方法与工艺

文档序号:11665925阅读:来源:国知局
技术总结
本发明提供了一种半导体X线探测器及其制造方法,将PIN接触层过孔之于像素单元的侧边,可以减少铟柱(包括UBM粘附层)封装工艺对PIN二极管器件电学特性的影响,避免金属钉刺现象,减少漏电流;同时,侧边接触结构可以降低PIN接触层过孔对后继的铟柱成球工艺的不利影响;另外,侧边接触减小了金属接触面积,从而降低了金属漏电。

技术研发人员:殷华湘;贾云丛;袁烽;陈大鹏
受保护的技术使用者:中国科学院微电子研究所
文档号码:201410812116
技术研发日:2014.12.22
技术公布日:2017.07.21

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