技术总结
一种用于温度传感器的面内磁性纳米多层膜及其制造方法，该多层膜分为三类：第一类结构由下至上依次包括：基片、底层、底部复合磁性层、中间势垒层、顶部复合磁性层和覆盖层，其中顶部复合磁性层和底部复合磁性层采用直接钉扎或间接钉扎结构；第二类由下至上依次包括：基片、底层、底部钉扎层、中间势垒层、顶部钉扎层和覆盖层，所述顶部钉扎层和底部钉扎层的采用直接钉扎或间接钉扎结构；第三类磁性纳米多层膜结构由下至上依次包括：基片、底层、底部磁性多层膜、底部磁性层、中间势垒层、顶部磁性层、顶部磁性多层膜和覆盖层，所述磁性多层膜其磁矩垂直于膜面，底部和顶部多层膜矫顽力不一样，通过退火处理使上下两层铁磁层磁矩处于反平行排列。
技术研发人员：韩秀峰;袁忠辉;刘盼;于国强;丰家峰;张殿琳
受保护的技术使用者：中国科学院物理研究所
文档号码：201480000687
技术研发日：2014.01.23
技术公布日：2017.10.13