1.一种叠层密封膜形成方法，在有机EL元件上形成无机膜和有机膜层叠的结构的叠层密封膜，所述有机EL元件是在衬底上形成多个作为发光层的有机EL层而得到的，该叠层密封膜形成方法的特征在于：
在一个处理容器内交替地反复进行多次以下步骤：利用原子层沉积法形成无机膜的步骤；和利用蒸镀聚合法形成有机膜的步骤。
2.如权利要求1所述的叠层密封膜形成方法，其特征在于：
使用氧化铝作为所述无机膜。
3.如权利要求1或2所述的叠层密封膜形成方法，其特征在于：
使用聚脲或者聚酰亚胺作为所述有机膜。
4.如权利要求1至3中任一项所述的叠层密封膜形成方法，其特征在于：
所述无机膜的膜厚为50nm以下，所述有机膜的膜厚为500nm以下。
5.如权利要求1至4中任一项所述的叠层密封膜形成方法，其特征在于：
所述叠层密封膜的膜厚为1μm以下。
6.如权利要求1至5中任一项所述的叠层密封膜形成方法，其特征在于：
所述有机EL元件在所述处理容器内以被载置于载置台的状态进行所述无机膜的形成和所述有机膜的形成，所述载置台的载置面的温度被调节为能够通过蒸镀聚合形成所述有机膜的第一温度，所述处理容器的除载置台以外的部分的温度被调节为不会通过蒸镀聚合形成所述有机膜的第二温度。
7.一种叠层密封膜形成装置，其在有机EL元件上形成无机膜和有机膜层叠的结构的叠层密封膜，所述有机EL元件是在衬底上形成多个作为发光层的有机EL层而得到的，所述叠层密封膜形成装置的特征在于，包括：
收纳有机EL元件的处理容器；
将用于利用原子层沉积法形成所述无机膜的第一无机膜原料气体和第二无机膜原料气体供给到所述处理容器内的第一无机膜原料气体供给单元和第二无机膜原料气体供给单元；
将用于利用蒸镀聚合法形成所述有机膜的第一有机膜原料气体和第二有机膜原料气体供给到所述处理容器内的第一有机膜原料气体供给单元和第二有机膜原料气体供给单元；
对所述处理容器内进行排气的排气单元；和
控制部，其进行控制，使得交替地反复进行多次以下步骤：将所述第一无机膜原料气体和所述第二无机膜原料气体交替地供给到所述处理容器内，利用原子层沉积法形成所述无机膜的步骤；和将所述第一有机膜原料气体和所述第二有机膜原料气体同时供给到所述处理容器内，利用蒸镀聚合法形成所述有机膜的步骤。
8.如权利要求7所述的叠层密封膜形成装置，其特征在于：
使用氧化铝作为所述无机膜。
9.如权利要求7或8所述的叠层密封膜形成装置，其特征在于：
使用聚脲或者聚酰亚胺作为所述有机膜。
10.如权利要求7至9中任一项所述的叠层密封膜形成装置，其特征在于，还包括：
在所述处理容器内载置所述有机EL元件的载置台；
将所述载置台的载置面的温度调节为能够通过蒸镀聚合形成所述有机膜的第一温度的第一温度调节单元；和
将所述处理容器的除所述载置台以外的部分的温度调节为不会通过蒸镀聚合形成所述有机膜的第二温度的第二温度调节单元。