一种led显示模组的集成方法_2

文档序号:9525569阅读:来源:国知局
机绝缘层填充一组LED晶片组与另一组LED晶片组之间的缝隙,并对物理气相淀积后的第一表面进行研磨;
[0067]具体的,在玻璃模板装有LED晶片组一侧,以物理气相淀积的方法制备一层Si02,随后对Si02进行研磨工艺,露出LED晶片组的电极。如图7所示。此时LED晶片组之间的缝隙由Si02进行填充。
[0068]步骤105,在所述第一表面上图形化制备第二绝缘层,并在图形化区域内露出LED晶片组的第一电极和第二电极;
[0069]具体的,图形化制备的过程可以是先淀积生长第二绝缘层,再进行图形化刻蚀。或者也可以是制备掩蔽层,再利用掩蔽层进行选择性生长等过程。制备完毕的第二绝缘层80可以如图8所示,图中所示81为第一电极,82为第二电极。
[0070]步骤106,在所述第一表面上图形化制备氧化铟锡(ΙΤ0)顶层导电层;其中,所述ΙΤ0顶层导电层与所述第一电极相连接;
[0071]具体的,多种工艺可以用来制备ΙΤ0透明导电薄膜,如磁控溅射真空反应蒸发、化学气相沉积、溶胶-凝胶法以及脉冲激光沉积等。其中磁控溅射工艺具有沉积速率高均匀性好等优点,因此可以优选采用该方法进行如图9中所示的ΙΤ0顶层导电层91的制备。
[0072]步骤107,在所述第一表面上图形化制备第三绝缘层,并在图形化区域内露出所述LED晶片组的第二电极;
[0073]具体的,图形化制备的过程可以是先淀积生长第三绝缘层101,再进行图形化刻蚀露出第二电极82。或者也可以是制备掩蔽层,再利用掩蔽层进行选择性生长等过程。
[0074]步骤108,在所述第一表面上图形化制备ΙΤ0底层导电层;其中,所述ΙΤ0底层导电层与所述第二电极相连接;
[0075]具体的,如图11所示,111为ΙΤ0底层导电层。
[0076]步骤109,在所述第一表面上图形化制备第四绝缘层,根据设计所需在图形化区域内露出部分所述ΙΤ0顶层导电层和所述ΙΤ0底层导电层;
[0077]具体的,如图12所示,图形化制备的过程可以是先淀积生长第四绝缘层121,再进行图形化刻蚀,露出部分Ι??顶层导电层91和部分ΙΤ0底层导电层111。或者也可以是制备掩蔽层,再利用掩蔽层进行选择性生长等过程。
[0078]步骤110,在所述第一表面上图形化制备ΙΤ0驱动控制导电层;
[0079]具体的,如图13所示,所述ΙΤ0驱动控制导电层包括多个ΙΤ0导线131,分别根据设计所需与所述Ι??顶层导电层91或所述ΙΤ0底层导电层111相连接;其中,ΙΤ0顶层导电层91用于各组LED晶片的水平连接,ΙΤ0底层导电层111用于各组LED晶片的垂直方向连接,ΙΤ0驱动控制导电层的多个ΙΤ0导电131分别与ΙΤ0顶层导电层91或ΙΤ0底层导电层111连接。
[0080]步骤111,图形化淀积第五绝缘层;
[0081]步骤112,在所述第五绝缘层的图形化区域内制作第一端子和第二端子;第一端子和第二端子均由ΙΤ0驱动控制导电层引出。在一个具体的例子中,可以是所述第一端子用于连接所述LED晶片组的第一电极;所述第二端子用于连接所述LED晶片组的第二电极。外部电路可以通过第一端子和第二端子向各个LED晶片组传输驱动信号。
[0082]具体的,如图14所示,141为第一电极,142为第二电极。
[0083]步骤113,通过所述第一端子和第二端子,将所述倒装有LED晶片组的玻璃模组与外部的PCB板进行焊接,形成所述LED显示模组。
[0084]在步骤113之后,还应对LED显示模组进行电学测试,以保证与PCB组装之后的电学性能。
[0085]最后,还要在PCB板侧贴装散热支架,用以对所述LED显示模组进行散热。
[0086]本发明实施例提供的LED显示模组的集成方法,通过将LED晶片组倒装入玻璃模板上等间距的矩阵槽中;在LED晶片组之间填充第一无机绝缘层;在LED晶片组电极侧依次图形化制备第二绝缘层、ΙΤ0顶层导电层、第三绝缘层、ΙΤ0底层导电层、第四绝缘层、ΙΤ0驱动控制导电层和第五绝缘层,并在第五绝缘层的图形化区域内制作通过ΙΤ0顶层导电层与LED晶片组的第一电极相连接的第一端子;通过ΙΤ0底层导电层与LED晶片组的第二电极相连接的第二端子;通过两个端子与PCB板进行焊接形成LED显示模组。本发明的LED显示模组的集成方法,工艺简单,能够有效保障LED晶片间的一致性,从而达到良好的显示效果。
[0087]相应的,本发明实施例还提供了一种利用上述方法所集成的LED显示模组。如图15所示,所述LED显示模组包括:玻璃模板1501,倒装的LED晶片组1502,Si02填充层1503,ΙΤ0导电层1504,绝缘层1505,封装焊球1506,粘合剂1507,IT0级联端子1508,PCB板1509和散热支架1510。
[0088]其中ΙΤ0导电层1504为三层,绝缘层1505也为三层,具体为一层ΙΤ0导电层1504、一层绝缘层1505、再一层ΙΤ0导电层1504的交叠结构。
[0089]ΙΤ0级联端子1508包括上上述实施例中所述的第一端子和第二端子,在图中没有分开不出。
[0090]PCB板1509上可以包括集成有恒流驱动1C,行扫描功率晶体管,数据信号处理接口 1C和电源管理芯片等。
[0091]本发明实施例提供的LED显示模组,具有良好的LED晶片的一致性,从而具有良好的显示效果。
[0092]以上所述的【具体实施方式】,对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本发明的【具体实施方式】而已,并不用于限定本发明的保护范围,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.一种LED显示模组的集成方法,其特征在于,所述方法包括: 在玻璃模板上制作多个等间距的矩阵槽; 在每个所述矩阵槽内倒装一组LED晶片组; 在所述玻璃模板装有LED晶片组一侧的第一表面物理气相淀积第一无机绝缘层,用以利用所述第一无机绝缘层填充一组LED晶片组与另一组LED晶片组之间的缝隙,并对物理气相淀积后的第一表面进行研磨; 在所述第一表面上图形化制备第二绝缘层,并在图形化区域内露出LED晶片组的第一电极和第二电极; 在所述第一表面上图形化制备氧化铟锡ITO顶层导电层;其中,所述ITO顶层导电层与所述第一电极相连接; 在所述第一表面上图形化制备第三绝缘层,并在图形化区域内露出所述LED晶片组的第二电极; 在所述第一表面上图形化制备ITO底层导电层;其中,所述ITO底层导电层与所述第二电极相连接; 在所述第一表面上图形化制备第四绝缘层,根据设计所需在图形化区域内露出部分所述ITO顶层导电层和所述ITO底层导电层; 在所述第一表面上图形化制备ITO驱动控制导电层;其中,所述ITO驱动控制导电层包括多个ITO导线,分别根据设计所需与所述ITO顶层导电层或所述ITO底层导电层相连接;图形化淀积第五绝缘层; 在所述第五绝缘层的图形化区域内制作第一端子和第二端子;其中,所述第一端子用于连接所述LED晶片组的第一电极;所述第二端子用于连接所述LED晶片组的第二电极;通过所述第一端子和第二端子,将所述倒装有LED晶片组的玻璃模组与外部的PCB板进行焊接,形成所述LED显示模组。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,多个所述矩阵槽的长宽尺寸相等且槽深相等。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述一组LED晶片组的上表面边缘处具有深度定位槽,所述深度定位槽的槽深与所述矩阵槽的槽深相匹配。4.根据权利要求1所述的方法,特征在于,在每个所述矩阵槽内倒装一组LED晶片组之前,所述方法还包括: 在所述玻璃模板的矩阵槽内置入粘合剂,用以粘合倒装入所述矩阵槽内的LED晶片组。5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述在每个所述矩阵槽内倒装一组LED晶片组具体为: 将黏贴在蓝膜上的多个LED晶片组以自动针击式贴片工艺,依次植入多个所述矩阵槽内;其中,所述LED晶片组的顶部出光面与通过所述粘合剂与所述玻璃模板相结合; 当所述矩阵槽全部由所述LED晶片组植入之后,对所述LED晶片组进行压片,使多组所述LED晶片组的底面处于同一水平面。6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述将所述倒装有LED晶片组的玻璃模组与外部的PCB板进行焊接之前,所述方法还包括: 通过所述第一端子和第二端子,对所述倒装有LED晶片组的玻璃模组进行电学测试。7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述将所述倒装有LED晶片组的玻璃模组与外部的PCB板进行焊接之后,所述方法还包括: 对所述LED显示模组进行电学测试。8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述对所述LED显示模组进行电学测试之后,所述方法还包括: 在所述PCB板侧贴装散热支架,用以对所述LED显示模组进行散热。9.一种LED显示模组,其特征在于,所述LED显示模组采用如上述权利要求1所述的方法进行制备。
【专利摘要】本发明涉及一种LED显示模组的集成方法和LED显示模组,所述方法包括:将LED晶片组倒装入玻璃模板上等间距的矩阵槽中;在LED晶片组之间填充第一无机绝缘层;在LED晶片组电极侧依次图形化制备第二绝缘层、ITO顶层导电层、第三绝缘层、ITO底层导电层、第四绝缘层、ITO驱动控制导电层和第五绝缘层,并在第五绝缘层的图形化区域内制作通过ITO顶层导电层与LED晶片组的第一电极相连接的第一端子;通过ITO底层导电层与LED晶片组的第一电极相连接的第二端子;这两个端子与PCB板进行焊接形成LED显示模组。
【IPC分类】H01L21/82
【公开号】CN105280556
【申请号】CN201410350472
【发明人】严敏, 程君, 周鸣波
【申请人】严敏, 程君, 周鸣波
【公开日】2016年1月27日
【申请日】2014年7月22日
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