1.一种氨基修饰介孔二氧化硅纳米粒的制备方法，其特征在于包括以下步骤：
（1）称取CTAB 0.08 g溶于13m1无水乙醇中与27．5 m1超纯水的混合液中，室温搅拌25-50 min；
（2）待溶液澄清透明时加入25％～28％氨水0.5 ml，升温至80℃，搅匀后逐滴加入TEOS 0.5m1，快速搅拌30min后缓慢加入APTES 0.5ml，保温继续反应2h；
（3）反应结束后静置熟化8-15h，以1l 380×g离心15 min；
（4）取白色沉淀，依次用超纯水和无水乙醇洗涤3次，每次10 ml，再于100℃干燥得白色固体粉末O．5 g；
（5）将得到固体粉末分散于10 mg／ml硝酸铵的乙醇溶液100 ml中，80℃回流10 h以除去模板剂CTAB，离心(11 380xg)15 min，取白色沉淀于60℃减压干燥12 h得固体粉末0.45 g，即得。
2.如权利要求1所述一种氨基修饰介孔二氧化硅纳米粒的制备方法，其特征在于所述步骤（1）搅拌时间为30min。
3.如权利要求1所述一种氨基修饰介孔二氧化硅纳米粒的制备方法，其特征在于所述步骤（2）氨水的加入量为26％。
4.如权利要求1所述一种氨基修饰介孔二氧化硅纳米粒的制备方法，其特征在于所述步骤（3）熟化时间为10h。