专利名称：成像复印薄膜的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种成像复印薄膜，特别是一种静电成像复印薄膜。
可投射影像的幻灯片是人所共知的，并可由一种透明的聚合物薄膜基质和用静电复印法加在上面的影像或印迹制成。但是，这种静电复印法使用比较高的温度，这就影响了聚合物薄膜的卷曲度和平直度。日本的未审查过的专利申请书63-11326号描述了由一种无涂层的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜制成的低畸变光学记录介质。
此外，静电复印的影像可能缺乏持久性，即在重复的触摸和使用中耐磨性较差，除非是采取特殊的措施，使薄膜基质与影像层之间产生适当的粘着力。适于在静电激光照相印刷机或在宽型(841×1189毫米)复印机中使用的有颜料(白色)的或不透明的复印或绘图薄膜也遇到类似的问题。
本发明涉及对静电成像薄膜的卷曲度和平直度和该薄膜基质与成像层(由复印用色粉和静电复印法生成)之间的粘着力的同时改善。
因此，本发明提供一种成像复印薄膜，它由两部分构成(1)一种热塑性聚合物材料基膜，该薄膜的横向(TD)热胀百分率在150℃时为0.01到1.0%，纵向(MD)百分率的热缩在150℃时为0.4到2.0%;(2)至少一个面上有一层接受层，它由一种丙烯酸树脂和/或甲基丙烯酸树脂构成。
本发明还提供一种生产成像复印薄膜的方法，即在热塑性聚合物薄膜基质的至少一面上生成一种丙烯酸树脂和/或甲基丙烯酸树脂接受层，该聚合物薄膜的横向(TD)热胀百分率在150℃时为0.01到1.0%，纵向(MD)热缩百分率在150℃时为0.4到2.0%。
按照本发明，成像薄膜的基质可由任何一种适用的热塑性聚合物成膜材料构成。适用的热塑性材料包括1-烯烃，如乙烯、丙烯和1-丁烯的均聚物或共聚物;聚酰胺;聚碳酸酯;尤其是合成的线型聚酯，后者可由一种或多种二羧酸或其较低级的烷基(6碳原子以下的)二酯与一种或多种二醇起缩合反应而得。比如由有对苯二甲酸、间苯二甲酸、邻苯二甲酸、2，5-2，6-或2，7-萘二甲酸、丁二酸、癸二酸、己二酸、壬二酸、4，4′-二苯基二羧酸、六氢化对苯二甲酸或1，2-双-对羧基苯氧基乙烷(可与任意选用一种一元羧酸，如新戊酸共用)等与一种或多种二醇类特别是脂族二醇，例如乙二醇、1，3-丙二醇、1，4-丁二醇、新戊二醇和1，4-环己烷二甲醇等缩合而成。聚对苯二甲酸乙二酯薄膜特别适用，尤其是在互相垂直的两个方向经过相继拉伸的。典型的拉伸温度为70到125℃之间，最好是在典型的温度范围150到250℃之间经过热定形的，例如英国专利838708号中所述。
该基质还可含有一种聚芳基醚或其硫代类似物，特别是聚芳基醚酮、聚芳基醚砜、聚芳基醚醚酮、聚芳基醚醚砜或它们的共聚物或硫代类似物。这些聚合物的例子在EP-A-1879、EP-A-184458和US-A-4008203等专利中曾公开过;其中特别适用的材料是ICIPLC以STABAR注册商标出售的那些。也可使用这些聚合物的共混物。
按照本发明，成像复印薄膜的基质可以方便地含有聚合物薄膜生产中任何一种常用的添加剂。因此，染料、颜料、疏松剂、润滑剂、抗氧化剂、防粘剂、表面活性剂、助滑剂、光泽剂、降解助剂、防紫外线剂、粘度调节剂和分散稳定剂等可适当地加入基质层中。
欲用作投影薄膜的基质应透明，以便在投影操作中能相对无限制地通过光线。但是，对于素纸的复印操作则可使用不透明或有颜料的聚合物基质。因此，一种基质可通过在其一面上施加一种有颜料的涂层而成为有颜料的;或者一种基质可通过在成膜热塑性聚合物中加入有效数量的不透明剂而变为不透明。在本发明的另一个实施例中，通过在聚合物中加入有效数量的能形成不透明、疏松的基质结构的药品而使不透明的基质变得疏松。同时能赋予不透明性的适用疏松剂含有一种不相容的树脂填料、一种颗粒状无机填料或者两种或多种这些填料的混合物。
适用于制造不透明、疏松基质的颗粒状无机颜料包括通常的无机颜料和填料，特别是金属或准金属的氧化物，如氧化铝、二氧化硅和二氧化钛，以及碱土金属的盐类，如钙和钡的碳酸盐和硫酸盐类。硫酸钡是特别适用的填料，它还兼有疏松剂的功用。
生产具有良好的不透明度、疏松度和白度的基质时，要求填料应为细粉碎状，其平均粒度希望是从0.1到10微米，并保证99.9%(数目)的颗粒的实际粒度不超过30微米。填料的平均粒度以从0.1到1.0微米较好，最好是从0.2到0.75微米。
填料，特别是硫酸钡在聚合物基质中加入的数量，以聚合物的重量为准，希望既不小于5%(重量)，也不大于50%(重量)。当填料的比例(以聚合物基质的重量为准)为从8到30%(重量)，特别是从15到20%(重量)时，其不透明度和光泽达到特别优良的水平。
薄膜基质的厚度以从25到500微米较好，从50到300微米更好，最好是从75到175微米。
为了使本发明的成像复印薄膜畸变较小，卷曲度较轻和平直度较高(或皱纹较轻)，要求该聚合物基质150℃的沿薄膜横向(TD)的热胀百分率为0.01到1.0%，而150℃时沿薄膜纵向(MD)的热缩百分率为0.4到2.0%。该基质在150℃时的TD膨胀为0.2到0.8%和150℃时的MD收缩为0.5到1.5%较好;150℃时的TD膨胀为0.3到0.5%和150℃时的MD收缩为0.7到1.0%最好。如果该基质的性能超出上述范围，则该薄膜在静电复印法中使用后会在边缘产生卷曲和平直度低劣，因而畸变严重。
例如，在生产一种双轴拉伸的薄膜时，可制备本发明的成像复印薄膜的基质。在典型的生产双轴拉伸的薄膜的方法中，最好是先将薄膜在一系列转辊上进行纵向拉伸，然后再在拉伸幅机烘箱中进行横向拉伸。最好随后在拉幅机装置中在张力下进行加热定形。横向张力可借夹持薄膜的夹片来产生，这些夹片连接在拉幅机装置相对两侧的平行轨道上。可以通过将轨道朝着拉幅机的出口端往内移来减小或消除横向张力，这称为“回缩”(toe-in)。采用回缩法，可使薄膜收缩到一定程度，用此方法可制得具有所要求的TD膨胀和MD收缩性能的薄膜。所采用的回缩量，例如在生产聚对苯二甲酸乙二酯薄膜时应为0.1到10%，以3到7%较好，3.5到6%最好。所需的准确回缩量，视所生产具体薄膜和所采用的其他操作条件而定。拉幅机以在较高的温度下操作较好。例如，对于聚对苯二甲酸乙二酯薄膜来说，拉幅机温度以230到245℃为宜，最好是235到240℃。
本发明的成像复印薄膜的接受层，由一种成像聚合物树脂构成。适用的聚合物至少含有由一种丙烯酸酯组成的一种单体，特别是一种烷基酯，其烷基含有10个以下的碳原子，如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、己基、2-乙基己基、庚基和正辛基。由一种丙烯酸烷基酯(如丙烯酸乙酯和丙烯酸丁酯)与甲基丙烯酸烷基酯共同生成的聚合物较好。由丙烯酸乙酯和甲基丙烯酸甲酯生成的聚合物特别适用。丙烯酸酯单体的含量比例最好在30到65%(摩尔)的范围内，而甲基丙烯酸酯单体的含量比例则最好在20到60%的范围内。
适用于制备接受层聚合物树脂并可能作为任选的补充单体而与丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸及其衍生物进行共聚合的其他单体有丙烯腈、甲基丙烯腈、卤代丙烯腈、卤代甲基丙烯腈、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-羟甲基丙烯酰胺、N-乙醇丙烯酰胺、N-丙醇丙烯酰胺、N-甲基丙烯酰胺、N-乙醇甲基丙烯酰胺、N-甲基丙烯酰胺、N-叔丁基丙烯酰胺、甲基丙烯酸羟乙酯、丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯、衣康酸、衣康酸酐和衣康酸半酯。
接受层聚合物的其他选用单体有乙烯基酯如乙酸乙烯酯、氯乙酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯、乙烯基吡啶、氯乙烯、偏氯乙烯、马来酸、马来酸酐、苯乙烯及苯乙烯衍生物，如氯苯乙烯、羟基苯乙烯和烷化苯乙烯(烷基含有1到10个碳原子)。
接受层聚合物最好由三种单体制得，含有35～60%(摩尔)的丙烯酸乙酯，30～55%(摩尔)的甲基丙烯酸甲酯和2～20%(摩尔)的甲基丙烯酰胺。
接受层聚合物的分子量可在很宽的范围内变动，但以在40，000到300，000之间较好，50，000到200，000范围内更好。
如有必要，接受层组合物还可包含一种交联剂，它有使聚合物层交联的功用，从而改善它与聚合物薄膜间的粘着力。此时，该交联剂最好能导致内交联，以防止溶剂渗透。适用的交联剂有环氧树脂、醇酸树脂、胺衍生物如六甲氧基甲基蜜胺和/或一种胺与一种醛例如甲醛的缩合产物，所用胺有蜜胺、二嗪、尿素、环亚乙基脲、环亚丙基脲、硫脲、环亚乙基硫脲、烷基蜜胺、芳基蜜胺、苯并胍胺、胍胺、烷基胍胺或芳基胍胺。蜜胺与甲醛的缩合产物甚为有用。该缩合产物也可被烷氧基化。交联剂的用量以涂料中聚合物的重量为准，最好是25%(重量)以下。最好还要加入一种催化剂，以利于交联剂的交联作用。使蜜胺甲醛交联的较好催化剂有氯化铵、硝酸铵、硫氰酸铵、磷酸二氢铵、硫酸铵、磷酸氢二铵、对甲苯磺酸、与碱反应后而稳定化的马来酸和对甲苯磺酸吗啉。
接受层组合物中的聚合物通常是水不溶性的。含有水不溶性聚合物的涂层组合物，仍可作为水分散体或者一种有机溶剂的溶液而加入到聚合物薄膜基质中。涂层介质也可涂在一种已取向的薄膜基质上。但是，这种涂层介质最好在拉伸操作之前或过程中施用。
尤其是，接受层材料最好在双轴拉伸操作的两个阶段(纵向和横向)之间涂布在薄膜基质上。这样的拉伸和涂布顺序，特别适用于生产被涂线性聚酯的薄膜基质，例如被涂的聚对苯二甲酸乙二酯的薄膜。这种薄膜最好是首先在一系列转辊间进行纵向拉伸，然后涂布，再在展幅机烘箱中进行横向拉伸，最好随后进行热定形，并调整到所需的回缩度。
接受层材料可以以水分散体或在有机溶剂中的溶液的形式，采用任何适当的常用涂布技术，如浸涂法、珠粒涂布法、逆向辊涂法或缝隙涂布法来涂在聚合物薄膜上。
涂在聚合物薄膜基质上的接受层材料，最好是以水分散体的形式来涂布。在随后的拉伸和/或热定形过程中施加在已涂薄膜上的温度，对于水介质或溶剂(如果使用含溶剂的材料时)等的干燥，以及使涂料聚结并形成连续而均匀的层状起很大的作用。可交联的接受层材料的交联，也是在这样的拉伸过程中进行的，最好是在这样的热定形温度下进行。
为了生成连续的涂层，涂在聚合物薄膜上的接受层的膜重以0.1到10毫克分米-2之间较好，最好是0.2到2.0毫克分米-2。采用小于0.1毫克分米-2的膜重时，可能生成不连续的接受层。涂上接受层可改善薄膜的滑润性和许多适用的上色剂粉末与基质薄膜之间的粘着力。将接受层加以处理，例如用火焰处理法、离子轰击法、电子束处理法、紫外线处理法或最好用电晕放电法，均可改善随后涂布的上色剂粉末的粘着力，但也许不是赋予它良好粘着力的主要方法。
电晕放电处理法最好是在空气中、大气压力下和通常设备中进行，采用高频和高压的发电机，其输出功率最好是1到20千瓦，电压为1到100千伏。在放电的同时，使薄膜通过放电装置的介电支承辊，其线速最好是每分钟1.0到500米。放电的电极可位于距移动中的薄膜表面0.1到10.0米处。
但是，不用任何预先的表面处理如电晕放电处理等，也能赋予直接涂在涂层表面的一系列生色剂粉末良好的粘着力。不用电晕放电处理而具有适当粘着力的接受层的实例由下列单体生成的三元共聚物构成丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺，一般其大致的摩尔比率分别为46/46/8%。
在将接受层沉积在聚合物基质上以前，根据需要，可将外露表面进行化学或物理的表面改性处理，以改进该表面与随后涂布的接受层之间的粘着力。一种由于简单和有效而较为可取的处理方法是使该基质的外露表面经受高压电场和电晕放电。或者，该基质可用一种在先有技术中为公知的，对于基质聚合物具有溶剂或溶胀作用的药品进行预处理。特别适用于处理聚酯基质的这类药品的实例有溶于一种普通有机溶剂中的卤代酚，例如对氯间甲酚、2，4-二氯苯酚、2，4，5-或2，4，6-三氯苯酚或4-氯间苯二酚溶于丙酮或甲醇而成的溶液。
虽然接受层的厚度最好是不小于基质厚度的0.004%和不大于10%，基质与接受层二者厚度之比，可在较宽的范围内变动。实际上，接受层的厚度希望至少为0.01微米，最好不要超过1.0微米太多。
按照本发明，成像复印薄膜的接受层可以含有通常在生产聚合物薄膜中所采用的任何一种添加剂。因此，在接受层中可适当地加入下列各种药品染料、颜料、疏松剂、润滑剂、抗氧化剂、防粘剂、表面活性剂、增滑剂、光泽剂、降解助剂、防紫外线剂、粘度调节剂和分散稳定剂等。接受层可以含有一种颗粒状填料，如粒度较小的二氧化硅。如果在接受层中采用一种填料，则希望其含量(以重量计)不超过聚合物材料的50%，其粒度应不超过0.5微米，以小于0.3微米较好，最好是从0.005到0.2微米。接受层中的填料含量以5到15%(重量)较好，最好是10%。
影像层的形成，可采用通常的静电复印技术，使用一种热溶性(热塑性塑料)上色剂粉末。可使用的上色剂粉末有以苯乙烯-丙烯酸酯共聚物为基础的上色剂粉末及其共混物。
所用静电复印机为大家所熟悉的，并且是办公室复印操作所普遍使用的。按照本发明，尤其是可以采用注册商标为“Xerox”的市售静电复印机来在透明的薄膜基质上形成影像。这类性质的复印机的一般操作如下先由电晕放电电极将均匀的静电正电荷淀积在一保持在黑暗环境中的、具有光电导表面的滚筒即涂硒滚筒上。然后将带电的表面对着原始文件的影像或待复印的艺术作品曝光，则其电荷便从滚筒上受光照射的区域耗散并流向地面。滚筒上被原始文件或艺术作品遮蔽的暗区内的电荷则不受影响。然后使带负电的彩色热塑性塑料上色剂粉末通过已曝光的滚筒上，使这种粉末靠静电作用吸附在滚筒表面的剩余带电区域。这样形成的上色剂粉末影像可以按以下操作转移到本发明的薄膜基质上将该基质的接受层置于上色剂影像上，并用电晕放电法使基质带正电荷，于是上色剂粉末便靠上色剂粉末上的剩余负电荷吸附在基质上。最后，可将基质加热以使上色剂粉末熔化，并使后者在薄膜基质的接受层上粘结成影像层。
熔化的上色剂粉末在薄膜基质上的热粘结一般在较高的熔融温度下进行，例如，在熟知的静电复印法中为200℃左右，通常采用红外加热法达到。但是，也可采用加热辊或紫外线灯，在120℃的区域内进行。已经发现，按照本发明，上色剂粉末与薄膜基质间的粘结作用在较高和较低的粘结温度下都是令人满意的。
本发明成像复印薄膜适用于其他类型的复印机，如激光打印机。
一张薄膜基质的一面或两面上都可涂以接受层，从而在一面或两面的接受层上都可生成影像。本发明特别适用于生产纸底复印薄膜。一般这种薄膜基质的非成像面沿一边缘层压在衬纸上(通常为40到100克/米2表压)，借助于一种粘结材料，例如一种粘结剂的纵向薄涂层(压敏或非压敏的)或胶带。层压的复印薄膜中的纸层妨碍复印过程热粘结阶段中热量传到接受层上，从而大大减弱上色剂的粘结作用。即使在复印薄膜上结合使用纸衬层时，本发明的接受层材料也能使上色剂的粘结令人满意地牢固。
欲在高速静电复印机上生产复合复印件时，可在接受层材料中加入一种粉碎得很细的颗粒状材料，例如二氧化硅等作为抗粘剂。根据需要，还可向离影像接受层较远的薄膜支承材料的表面上加入一种抗静电涂层介质。薄膜基质的静电摩擦，可用向薄膜支承材料的一面或两面打蜡的方法来减轻，这些蜡有天然蜡，如巴西蜡棕蜡;或合成蜡。蜡层涂在承载着接受层的支承材料面上。这种预防措施有利于将一叠薄膜一张一张地送入高速复印机中。
接受层上的抗摩擦材料如蜡等，在将一叠衬纸的层压复印薄膜连续送入复印机时特别需要。因此，在成叠进料的装置中，一张复印层压薄膜在进料机中与相邻的一张复印层压薄膜的衬纸表面相接触，这两种在一定程度上互不相容的表面间的摩擦作用必须加以控制，以便用通常的输送带或真空装置将这些层压薄膜送入复印机时，一张层压薄膜应能顺利地在另一张上滑过。出乎意外的是，我们观察到，接受层上的蜡并不怎么影响上色剂的粘结性能。
本发明可用下列各实施例加以说明。
实施例1-3将聚对苯二甲酸乙二酯熔融挤塑成为薄膜，在一冷却的滚筒上进行流延，然后沿挤出的方向拉伸到原有尺寸的3.2倍左右。在冷却后的已拉伸薄膜两面均涂以一种含水组合物，含有下列组分丙烯酸树脂(重量浓度16%的含有甲基丙烯酸 18.75升甲酯/丙烯酸乙酯/甲基丙烯酰胺46/46/8摩尔%的水基胶乳与重量浓度25%的甲氧基化蜜胺-甲醛树脂)Ludox TM(重量浓度50%的二氧化硅混悬 0.43升液，平均粒度约20纳米，由杜邦公司供应)硝酸铵(重量浓度10%的水溶液) 0.22升Synperonic N(重量浓度27%的壬基酚 0.50升乙氧基化物，由帝国化学工业公司供应)软化水 补足100升将混合物的pH值调节到二甲氨基乙醇指示为9.0(在加Ladox TM以前)。
将有涂层的薄膜送入拉幅机的烘箱，在此，薄膜进行干燥并沿横向拉伸到原有尺寸的3.6倍。将双轴拉伸过的有涂层薄膜在温度约235℃下进行热定形，使回缩量分别为3%、4%或5%。薄膜最终产品的厚度为100微米，干燥涂层的厚度约为300埃，干燥涂层的重量约为0.03毫克分米-2。
TD和MD的膨胀或收缩，在将薄膜样条置于烘箱中在150℃下加热30分钟后进行测定。其结果列于表1中，表示出3个试样的平均变化%。
将原生产的薄膜切割成A4尺寸的样片，将半数样片衬上纸(如前所述)，使单纯的和衬纸的样片均通过一台Xerox 1025型复印机。
检验印有影像的试样的卷曲度和平直度。将每个样片放在一水平的平面上，通过测量每个样片隆起最高的一角的高度来决定其卷曲度。取10个样片的平均值。其结果列于表1中。用目测法检验各样片的平直度或皱纹。所有的单纯的和衬纸的试样都显示出足够的平直度。
样片的喂进性能，通过向复印机送入一叠样片来测定，单纯的和衬纸的样片都展示出均匀而良好的喂进性能。
上色剂粉末(由Xerox公司供应)与接受层之间的粘结优良。
实施例4这是一个不按照本发明的对比实例。
重复了实施例1-3的程序，唯有在薄膜上不涂接受层，在展幅机中不用回缩法。
TD和MD的膨胀或收缩结果和单纯的和衬纸的样片的卷曲度列于表1中。
薄膜的平直度、样片的进料性能和生色剂粉末的粘着力，比实施例1-3(及下面的5-8)差得多。
实施例5-8重复了实施例1-3的程序，唯有薄膜是在温度240℃下进行热定形的，回缩量分别为3%、4%或5%。
TD和MD的膨胀或收缩结果和单纯的和衬纸的样片的卷曲度列于表1中。
薄膜的平直度和样片的进料性能良好，上色剂粉末与接受层之间的粘结优良。
实施例9这是一个不按本发明的对比实例。
重复了实施例1-3的程序，唯有在薄膜上不涂接受层，薄膜在温度240℃下进行热定形，在拉幅机中不用回缩法。
TD和MD的膨胀或收缩和单纯的与衬纸的样片的卷曲度列于表1中。
薄膜的平直度、样片的进料性能和上色剂粉末的粘着力，比实施例1-3和5-8差得多。
表1实施例 拉幅机 单纯样片 衬纸样片序号温度回缩 TD＊MD 的卷曲度的卷曲度(℃) % 收缩 收缩 (毫米) (毫米)1 235 3 -0.39 0.73 1.2 12.62 235 4 -0.36 0.65 0.4 9.23 235 5 -0.41 0.74 2.2 13.24 235 0 0.99 0.69 3.4 18.4(对比)5 240 3 -0.74 0.83 1.8 8.26 240 4 -0.53 0.91 1.6 6.47 240 5 -0.40 0.78 2.4 6.48 240 6 -0.32 0.79 3.2 6.89 240 0 0.96 0.84 3.4 23.4(对比)
＊负值表示热膨胀上述实施例说明本发明的成像复印薄膜的性能优越。
权利要求
1.一种成像复印薄膜，该薄膜包括一种热塑性塑料基膜，薄膜的横向(TD)热膨胀百分率在150℃时为0.01到1.0%，纵向(MD)的热收缩百分率在150℃时为0.4到2.0%；该薄膜至少有一面上有接受层，后者由一种丙烯酸类树脂和/或甲基丙烯酸类树脂构成。
2.按照权利要求1的复印薄膜，其中其基质薄膜的横向(TD)的热膨胀百分率在150℃为0.2到0.8%，纵向(MD)的热收缩百分率在150℃为0.5到1.5%。
3.按照权利要求1和2之一的复印薄膜，其中，所述丙烯酸类树脂由甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯/丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺的三元共聚物构成。
4.按照上述各权利要求之一的复印薄膜，在该接受层或各接受层中均含有一种细粉碎的颗粒状材料。
5.按照权利要求4的复印薄膜，其中所述颗粒状材料由二氧化硅构成。
6.按照上述各权利要求之一的复印薄膜，它包含一种纸底，粘结在薄膜基质的非成像表面上。
7.按照上述各权利要求之一的复印薄膜，在该接受层或各接受层上包含一蜡层。
8.按照上述各权利要求之一的复印薄膜，其中所述基质由一种双轴取向的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜构成。
9.一种生产成像复印薄膜的方法，该方法包括在一种热塑性聚合物材料的薄膜基质的至少一面上，生成一种由丙烯酸或甲基丙烯酸树脂构成的接受层，这种薄膜的横向(TD)热膨胀百分率在150℃为0.01到1.0%，纵向(MD)的热收缩百分率在150℃为0.4到2.0%。
10.按照权利要求9的一种方法，其中该基质由一种双轴取向的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜构成，后者已经在温度230到245℃下和横向的较小张力下热定形。
全文摘要
一种由热塑性聚合物薄膜基质构成的成像复印薄膜，该薄膜的横向(TD)热膨胀百分率在150℃为0.01到1.0％，纵向(MD)热收缩百分率在150℃为0.4到2.0％。该基质在其至少一面上有接受层，后者由一种丙烯酸类树脂和/或甲基丙烯酸类树脂构成。
文档编号G03G7/00GK1048676SQ9010462
公开日1991年1月23日 申请日期1990年7月13日 优先权日1989年7月13日
发明者查尔斯·理查德·哈特 申请人:帝国化学工业公司