[0180]请参考图18，其示出的是在屏蔽电极024上形成至少一个开口 0241后的结构示意图。其中，屏蔽电极024可以为长条状结构，屏蔽电极024的一端可以与第二电极023连接，另一端与第二电极023未连接，这样可以减小屏蔽电极024与第二电极023连接部位的宽度，使得屏蔽电极024对第二电极023的影响减小，可以在屏蔽电极024上与第二电极023连接的位置处形成至少一个开口 0241，使至少一个开口 0241位于数据线022在屏蔽电极024的正投影区域内。可选地，开口 0241的宽度可以大于或者等于数据线022的宽度。
[0181]具体地，可以采用曝光工艺对屏蔽电极024进行曝光，使屏蔽电极024上与第二电极023连接的位置处形成完全曝光区域，之后采用显影工艺去除该完全曝光区域的屏蔽电极，形成至少一个开口 0241。
[0182]在步骤1207中，在形成有第二绝缘层的衬底基板上形成薄膜晶体管，使薄膜晶体管与数据线位于同一层。
[0183]其中，在形成有第二绝缘层的衬底基板上形成薄膜晶体管后的结构示意图可以参考图6，其中，薄膜晶体管可以包括源极、栅极和漏极，该源极可以与数据线022连接，栅极可以与栅线021连接，漏极可以与第一电极或第二电极连接，该薄膜晶体管025还可以包括栅绝缘层、有源层等结构，本发明实施例在此不再赘述。
[0184]需要说明的是，本发明实施例提供的阵列基板的制造方法步骤的先后顺序可以进行适当调整，步骤也可以根据情况进行相应增减，示例地，步骤1207可以位于步骤1201之前，在衬底基板020上形成栅线后形成薄膜晶体管，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化的方法，都应涵盖在本发明的保护范围之内，因此不再赘述。
[0185]还需要说明的是，本发明实施例提供的阵列基板的制造方法可以适用于高级超维转换(英文:ADvanced Super Dimens1n Switch，简称:ADS)型、平面转换(英文:In-PlaneSwitching，简称:IPS)型、扭曲向列(英文:Twist Nematic，简称:TN)型等类型的液晶显示装置的生产。ADS技术通过同一平面内像素电极边缘所产生的平行电场以及像素电极层与公共电极层间产生的纵向电场形成多维电场，使液晶盒内像素电极间、电极正上方所有取向液晶分子都能够产生旋转转换，从而提高了平面取向系液晶工作效率并增大了透光效率。
[0186]综上所述，本发明实施例提供的阵列基板的制造方法，通过在衬底基板上形成数据线，在形成有数据线的衬底基板上形成第一电极，在形成有第一电极的衬底基板上形成第一绝缘层，在形成有第一绝缘层的衬底基板上形成第二电极和屏蔽电极，使数据线在衬底基板上的正投影落在屏蔽电极在衬底基板上的正投影内，在屏蔽电极上形成至少一个开口，使至少一个开口位于数据线在屏蔽电极的正投影区域内。本发明实施例通过在屏蔽电极上形成开口，减小了屏蔽电极与数据线的正对面积，进而减小了屏蔽电极的信号对数据线上的信号的影响，解决了屏蔽电极的信号对数据线上的信号产生影响，导致数据线的负载较大的问题，达到了降低数据线的负载的效果。
[0187]由于形成屏蔽电极后，屏蔽电极与第二电极位于同一层，数据线的信号也会对屏蔽电极的信号造成干扰，进而导致对第二电极的信号的影响，若数据线的信号的波动较大，则会导致第二电极的信号的波动较大，进而导致采用该阵列基板形成的显示装置的屏幕出现Greenish、flicker等现象。而本发明实施例通过在屏蔽电极上形成开口，减小了数据线与屏蔽电极的正对面积，进而减小了数据线上的信号对屏蔽电极的信号的影响，从而减小了对第二电极的信号的影响，避免采用该阵列基板形成的显示装置的屏幕出现Greenish、flicker等现象。
[0188]请参考图19，其示出了本发明再一个实施例提供的阵列基板的制造方法的方法流程图，该阵列基板的制造方法可以用于制造图3至图10任一所示的阵列基板，且在本发明实施例中，数据线与第一电极可以位于同一层，也可以位于不同层，本实施例以数据线与第一电极位于同一层为例进行说明，本实施例以该阵列基板的制造方法应用于图9所示的阵列基板02为例进行说明。
[0189]其中，该阵列基板02可以包括:衬底基板020，衬底基板020可以为透明基板，其具体可以是采用玻璃、石英、透明树脂等具有一定坚固性的导光且非金属材料制成的基板。在本发明实施例中，数据线与第一电极可以位于同一层，也可以位于不同层，本实施例以数据线与第一电极位于不同层为例进行说明，参见图19，该阵列基板的制造方法可以包括如下几个步骤:
[0190]在步骤1901中，在衬底基板上形成第二绝缘层。
[0191]该步骤1901与图12所示实施例中的步骤1201相同或类似，其实现过程可以参考图12所示实施例中的步骤1201，本实施例在此不再赘述。
[0192]在步骤1902中，在形成有第二绝缘层的衬底基板上形成数据线。
[0193]该步骤1902与图12所示实施例中的步骤1202相同或类似，其实现过程可以参考图12所示实施例中的步骤1202，本实施例在此不再赘述。
[0194]在步骤1903中，在形成有数据线的衬底基板上形成第三绝缘层。
[0195]请参考图20，其示出的是在形成有数据线022的衬底基板020上形成第三绝缘层029后的结构不意图。
[0196]具体地，可以采用涂覆、磁控溅射、热蒸发或者PECVD等方法在形成有数据线022的衬底基板020上沉积一层具有一定厚度的光刻胶薄膜，采用掩模板对光刻胶薄膜进行曝光，使光刻胶薄膜形成完全曝光区和非曝光区，之后采用显影工艺处理，使完全曝光区的光刻胶薄膜被完全去除，非曝光区域的光刻胶薄膜全部保留，烘烤处理后形成第三绝缘层029。其中，第三绝缘层029可以选用氧化物、氮化物或氧氮化合物生成，对应的反应气体可以为SiH4、NH3、队的混合气体或SiH 2C12、NH3、队的混合气体。
[0197]其中，在形成有数据线022的衬底基板020上形成第三绝缘层029，使得数据线022与后续的第一电极026之间彼此绝缘。
[0198]在步骤1904中，在形成有第三绝缘层的衬底基板上形成第一电极。
[0199]图21是图19所示实施例提供的在形成有第三绝缘层029的衬底基板020上形成第一电极026后的结构不意图。
[0200]在步骤1905中，在形成有第一电极的衬底基板上形成第一绝缘层。
[0201]图22是图19所示实施例提供的在形成有第一电极026的衬底基板020上形成第一绝缘层027后的结构示意图。
[0202]在步骤1906中，在形成有第一绝缘层的衬底基板上形成第二电极和屏蔽电极，使数据线在衬底基板上的正投影落在屏蔽电极在衬底基板上的正投影内。
[0203]图23是图19所示实施例提供的在形成有第一绝缘层027的衬底基板020上形成第二电极023和屏蔽电极024后的结构示意图。
[0204]在步骤1907中，在屏蔽电极上形成至少一个开口，使至少一个开口位于数据线在屏蔽电极的正投影区域内。
[0205]图24是图19所示实施例提供的在屏蔽电极024上形成至少一个开口 0241后的结构示意图。
[0206]在步骤1908中，在形成有第二绝缘层的衬底基板上形成薄膜晶体管，使薄膜晶体管与数据线位于同一层。
[0207]上述步骤1904至步骤1908与图12所示实施例中的步骤1203至步骤1207相同或者类似，其实现过程可以参考图12所示实施例中的步骤1203至步骤1207，各个步骤中的构图工艺可以包括光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工艺，本实施例在此不再赘述。
[0208]需要说明的是，本发明实施例提供的阵列基板的制造方法步骤的先后顺序可以进行适当调整，步骤也可以根据情况进行相应增减，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化的方法，都应涵盖在本发明的保护范围之内，因此不再赘述。
[0209]还需要说明的是，本发明实施例提供的阵列基板的制造方法可以适用于ADS型、IPS型、TN型等类型的液晶显示装置的生产。ADS技术通过同一平面内像素电极边缘所产生的平行电场以及像素电极层与公共电极层间产生的纵向电场形成多维电场，使液晶盒内像素电极间、电极正上方所有取向液晶分子都能够产生旋转转换，从而提高了平面取向系液晶工作效率并增大了透光效率。
[0210]综上所述，本发明实施例提供的阵列基板的制造方法，通过在衬底基板上形成数据线，在形成有数据线的衬底基板上形成第一电极，在形成有第一电极的衬底基板上形成第一绝缘层，在形成有第一绝缘层的衬底基板上形成第二电极和屏蔽电极，使数据线在衬底基板上的正投影落在屏蔽电极在衬底基板上的正投影内，在屏蔽电极上形成至少一个开口，使至少一个开口位于数据线在屏蔽电极的正投影区域内。本发明实施例通过在屏蔽电极上形成开口，减小了屏蔽电极与数据线的正对面积，进而减小了屏蔽电极的信号对数据线上的信号的影响，解决了屏蔽电极的信号对数据线上的信号产生影响，导致数据线的负载较大的问题，达到了降低数据线的负载的效果。
[0211]由于形成屏蔽电极后，屏蔽电极与第二电极位于同一层，数据线的信号也会对屏蔽电极的信号造成干扰，进而导致对第二电极的信号的影响，若数据线的信号的波动较大，则会导致第二电极的信号的波动较大，进而导致采用该阵列基板形成的显示装置的屏幕出现Greenish、flicker等现象。而本发明实施例通过在屏蔽电极上形成开口，减小了数据线与屏蔽电极的正对面积，进而减小了数据线上的信号对屏蔽电极的信号的影响，从而减小了对第二电极的信号的影响，避免采用该阵列基板形成的显示装置的屏幕出现Greenish、flicker等现象。
[0212]本发明实施例提供了一种显示装置，该显示装置可以包括:图3至图10任一所示的阵列基板。该显示装置可以为:液晶面板、电子纸、有机发光二极管(英文=OrganicLight-Emitting D1de，简称:0LED)面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
[0213]示例地，请参考图25，其示出了本