专利名称：真空溅射带状导电薄膜的在线处理装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及导电薄膜的在线处理装置，具体涉及真空溅射带状导电薄膜的在 线处理装置。
背景技术：
随着真空镀膜工业的飞速发展，各种镀膜工艺也逐步完善，但是对于真空镀膜前， 对于基材的处理工艺还是参差不齐，跟不上镀膜工艺，使之整个生产工艺不完善，产品质量 有缺陷。真空镀膜前对基材的处理工艺是整个真空镀膜工艺的重要组成部分，原有的真空 镀前处理工艺是高压电晕、辉光放电，还有的是用箱式或隧道式烘箱烘干除气、除湿，镀前 处理工艺与真空镀膜工艺不是在线处理，且在大气状态下进行，达不到材料表面改性的高 质量要求。
发明内容本实用新型的目的在于提供真空溅射带状导电薄膜的在线处理装置，在线处理 装置安装在同一真空室，在真空度、气氛易于控制状态下进行镀前处理与真空镀膜，增强镀 层结合力，提高导电薄膜质量。本实用新型的技术解决方案是真空室由隔板间隔成放料室和溅射室，真空室内 安装生产装置，生产装置包括输送架、红外加热器、离子源、深冷捕集器、气体发放器和溅射 靶，在放料室和溅射室内排布连贯的输送架，输送架的首尾端都位于放料室，在输送架的首 端安装放料辊，在输送架的尾端安装收料辊，在放料室内位于输送架的两侧呈平面矩形安 装离子源，在离子源之前安装红外加热器，在溅射室内位于输送架的两侧呈平面矩形安装 一组溅射靶，溅射室内位于溅射靶的前方安装气体发放器，放料室、溅射室内各放置一个深 冷捕集器和真空泵。其中，在输送架的接近首尾端上分别安装张力器。工作时，基材由放料辊放出，被输送架输送经过放料室的红外加热器和离子源，再 经过溅射室的气体发放器、溅射靶，最后由放料室的收料辊将导电薄膜收集起来；其中，基 材在经过红外加热器、离子源时，基材被清洁表面、消除水汽、克服张力；其中，预处理后的 基材在溅射室内经溅射靶直接溅射，形成ITO导电薄膜。本实用新型的优点是放料室与溅射室是隔离的，离子源、红外加热器、深冷捕集器 安装在同一放料室，气氛易于控制，基材在进入溅射镀膜之前在放料室内对基材进行表面 改性、除气、除湿、加热等处理，且对所产生的水汽进行捕集，以免对镀层产生影响，从而提 高镀层结合力，降低了导电薄膜的表面电阻。
图1为本实用新型的结构示意图[0010]图中1隔板，2放料室，3溅射室，4输送架，5离子源，6、7深冷捕集器，8气体发放 器，9溅射靶，10放料辊，11收料辊，12、13真空泵，14、15张力器，16红外加热器。
具体实施方式
如图1所示，真空室由隔板1间隔成放料室2和溅射室3，真空室内安装生产装置， 生产装置包括输送架4、红外加热器16、离子源5、深冷捕集器6、7、气体发放器8和溅射靶 9，在放料室2和溅射室3内排布连贯的输送架4，输送架4的首尾端都位于放料室2，在输 送架4的首端安装放料辊10，在输送架4的尾端安装收料辊11，在放料室2内位于输送架 4的两侧呈平面矩形安装离子源5，在离子源5之前安装红外加热器16，在溅射室3内位于 输送架4的两侧呈平面矩形安装一组溅射靶9，溅射室3内位于溅射靶9的前方安装气体发 放器8，放料室2、溅射室3内各放置一个深冷捕集器6、7和真空泵12、13。其中，在输送架4的接近首尾端上分别安装张力器14、15。工作时，基材由放料辊10放出，被输送架4输送经过放料室2的红外加热器16和 离子源5，再经过溅射室3的气体发放器8、溅射靶9，最后由放料室2的收料辊11将导电薄 膜收集起来；其中，基材在经过红外加热器16、离子源5时，基材被清洁表面、消除水汽、克 服张力；其中，预处理后的基材在溅射室3内经溅射靶9直接溅射，形成ITO导电薄膜。
权利要求1.真空溅射带状导电薄膜的在线处理装置，其特征在于真空室由隔板(1)间隔成 放料室(2)和溅射室(3)，真空室内安装生产装置，生产装置包括输送架(4)、红外加热器 (16)、离子源(5)、深冷捕集器(6、7)、气体发放器(8)和溅射靶(9)，在放料室(2)和溅射室 (3)内排布连贯的输送架(4)，输送架(4)的首尾端都位于放料室(2)，在输送架(4)的首端 安装放料辊(10)，在输送架(4)的尾端安装收料辊(11)，在放料室(2)内位于输送架(4) 的两侧呈平面矩形安装离子源(5)，在离子源(5)之前安装红外加热器(16)，在溅射室(3) 内位于输送架⑷的两侧呈平面矩形安装一组溅射靶(9)，溅射室(3)内位于溅射靶(9)的 前方安装气体发放器(8)，放料室(2)、溅射室(3)内各放置一个深冷捕集器(6、7)和真空 泵(12、13)。
2.根据权利要求1所述的真空溅射带状导电薄膜的在线处理装置，其特征在于其中， 在输送架(4)的接近首尾端上分别安装张力器(14、15)。
专利摘要本实用新型公开了真空溅射带状导电薄膜的在线处理装置，在放料室(2)和溅射室(3)内排布连贯的输送架(4)，在放料室(2)内位于输送架(4)的两侧安装红外加热器(16)、离子源(5)，在溅射室(3)内位于输送架(4)的两侧安装气体发放器(8)、一组溅射靶(9)，放料室(2)、溅射室(3)内各放置一个深冷捕集器(6、7)和真空泵(12、13)。本实用新型的放料室与溅射室是隔离的，离子源、红外加热器、深冷捕集器安装在同一放料室，气氛易于控制，基材在进入溅射镀膜之前进行表面改性、除气、除湿、加热等处理，且对水汽进行捕集，以免对镀层产生影响，增强镀层结合力，降低导电薄膜的表面电阻。
文档编号C23C14/56GK201778104SQ20102025796
公开日2011年3月30日 申请日期2010年7月13日 优先权日2010年7月13日
发明者傅青炫, 夏慎领, 陈先锋, 马尔松 申请人:淮安富扬电子材料有限公司