专利名称：玻璃基板的研磨方法及研磨装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及玻璃基板的研磨方法及研磨装置。
背景技术：
液晶显示器等FPD (Flat Panel Display 平板显示器)用玻璃基板例如利用浮法窑炉等的玻璃带成形装置，将成形为带状的玻璃带在折断工序中折断加工成规定的矩形形状尺寸的玻璃基板，在倒角工序中对其进行倒角加工，从而制造出规定的外形尺寸的玻璃基板。并且，该玻璃基板经由设置于倒角工序的后段的清洗工序及检查工序而被向研磨工序移送，通过研磨除去表面的微小的凹凸或波纹度，而制造成满足FPD用玻璃基板所要求的平坦度的薄板状。在所述研磨工序中，将玻璃基板的非研磨面吸附固定于工作台，将工作台向研磨部输送，一边对玻璃基板的研磨面供给研磨液(浆液)一边通过研磨工具来研磨玻璃基板的研磨面。在该研磨时，研磨液从玻璃基板的缘部浸入玻璃基板的非研磨面的缘部，产生作为研磨液的成分的氧化铈或因研磨而削落的玻璃的成分附着于玻璃基板的非研磨面的缘部而污染缘部的不良情况。为了防止该不良情况，在专利文献1的晶片的研磨方法中，在晶片的非研磨面上形成由合成树脂制的保护材料构成的保护膜。经由该保护膜将晶片的非研磨面固定于研磨夹具，从而保护晶片的非研磨面的缘部免受研磨液的污染。另外，在专利文献2所公开的晶片的研磨方法中，在晶片的非研磨面与晶片载置用板之间夹设多元醇等缓冲材料，从而保护晶片的非研磨面的缘部免受研磨液的污染。专利文献1 日本特开昭62-512 号公报专利文献2 日本特开平6-61203号公报然而，被称为连续式研磨装置的玻璃基板的研磨装置利用规定的环路一边输送吸附固定玻璃基板的非研磨面的工作台一边对玻璃基板的研磨面进行研磨。即，在构成环路的工作台的输送路径上依次设有玻璃基板的吸附固定部、研磨部、玻璃基板的卸下部、工作台清洗部。研磨前的玻璃基板的非研磨面被吸附固定在位于所述吸附固定部的工作台上， 然后，通过工作台向所述研磨部输送而进行研磨。接下来，研磨后的玻璃基板通过工作台向所述卸下部输送，在此从工作台卸下玻璃基板。卸下了玻璃基板的工作台在通过所述清洗部期间被清洗，准备作为下一个玻璃基板的吸附用工作台。在此，专利文献1所公开的研磨方法是在晶片的非研磨面上预先形成保护膜后进行研磨的方法。而且，专利文献2所公开的研磨方法是在晶片的非研磨面与晶片载置用板之间设置保护膜的方法。然而，玻璃基板的尺寸的纵横尺寸超过IOOOmm的玻璃基板是主流，但难以对此种大型的玻璃基板预先形成所述保护膜。而且，由于另外需要用于形成保护膜的设备，因此存在难以将专利文献1的研磨方法用于玻璃基板的研磨方法中。
另一方面，若在通过工作台直接吸附玻璃基板的玻璃基板的研磨装置中采用在晶片的非研磨面与晶片载置用板之间设置保护膜的专利文献2的研磨方法，在研磨时，玻璃基板不稳定，因此这种方法不可行。所述玻璃基板的研磨装置的工作台的吸附面由自身具有吸附性的片材构成。若对片材的表面进行干燥，则片材自身的吸附性减弱，在玻璃基板的研磨中，玻璃基板有可能会破裂。因此，为了防止吸附固定在该片材上的玻璃基板的非研磨面的干燥或提高片材的自身吸附性，而需要经由防止干燥用液将玻璃基板吸附固定在片材上。这种情况下也需要将防止干燥用液良好地供给到玻璃基板与片材之间。
发明内容
本发明鉴于此种情况而作出，其目的在于提供一种能够防止研磨液对玻璃基板的非研磨面的缘部的污染且能够将玻璃基板的非研磨面良好地吸附固定在工作台上的玻璃基板的研磨方法及研磨装置。为了实现上述目的，本发明的玻璃基板的研磨方法包括液体喷雾工序，朝向吸附固定玻璃基板的非研磨面的工作台对所述工作台的吸附固定玻璃基板的非研磨面的整个区域的区域从第一喷嘴喷出防止干燥用液，接着相对于所述工作台对所述工作台的吸附固定玻璃基板的非研磨面的缘部的区域从第二喷嘴喷出缓冲液；玻璃基板固定工序，经由所述防止干燥用液将玻璃基板的非研磨面的整个区域吸附固定于所述工作台，并且经由所述缓冲液将所述玻璃基板的非研磨面的缘部吸附固定于所述工作台；及研磨工序，一边向非研磨面被吸附固定于所述工作台上的所述玻璃基板的研磨面供给研磨液一边利用研磨工具研磨该研磨面。为了实现上述目的，本发明的玻璃基板的研磨装置包括工作台，吸附固定玻璃基板的非研磨面；液体喷雾部，具有第一喷嘴和第二喷嘴，所述第一喷嘴朝向所述工作台，对所述工作台的吸附固定玻璃基板的非研磨面的整个区域的区域喷出防止干燥用液，所述第二喷嘴相对于所述工作台，对所述工作台的吸附固定玻璃基板的非研磨面的缘部的区域喷出缓冲液；玻璃基板固定部，经由所述防止干燥用液将玻璃基板的非研磨面的整个区域吸附固定于所述工作台，并且经由所述缓冲液将所述玻璃基板的非研磨面的缘部吸附固定于所述工作台；及研磨部，一边向非研磨面被吸附固定于所述工作台上的所述玻璃基板的研磨面供给研磨液一边利用研磨工具研磨该研磨面。根据本发明，首先从第一喷嘴朝向工作台喷出防止干燥用液，对吸附固定玻璃基板的非研磨面的整个区域的区域涂敷防止干燥用液，接着从第二喷嘴朝向工作台喷出缓冲液，相对于工作台，对吸附固定玻璃基板的非研磨面的缘部的区域涂敷缓冲液。接着，通过玻璃基板固定部，经由所述防止干燥用液将玻璃基板的非研磨面的整个区域吸附固定于工作台，并且经由所述缓冲液将玻璃基板的非研磨面的缘部吸附固定于工作台。接着，利用研磨部，一边向玻璃基板的研磨面供给研磨液一边利用研磨工具研磨研磨面。在该研磨中，由于玻璃基板的非研磨面的缘部受到缓冲液的保护，因此所述缘部不会被研磨液污染。如上所述，本发明从液体喷雾部朝向工作台喷出防止干燥用液及缓冲液，因此能够防止研磨液对玻璃基板的非研磨面的缘部的污染，且能够将玻璃基板的非研磨面良好地吸附固定在工作台上。根据本发明的玻璃基板的研磨方法，所述液体喷雾工序优选，一边使所述工作台及所述第一、第二喷嘴中的至少一方相对移动，一边从所述第一喷嘴喷出所述防止干燥用液并从所述第二喷嘴喷出所述缓冲液。根据本发明的玻璃基板的研磨装置，所述液体喷雾部优选，一边使所述工作台及所述第一、第二喷嘴中的至少一方相对移动，一边从所述第一喷嘴喷出所述防止干燥用液并从所述第二喷嘴喷出所述缓冲液。使工作台移动时，首先，将空的工作台沿着工作台输送路径向液体喷雾部输送。并且，一边沿着工作台输送路径输送该工作台，一边从第一喷嘴朝向工作台喷出防止干燥用液，对工作台涂敷防止干燥用液，并且从第二喷嘴朝向工作台喷出缓冲液，对工作台涂敷缓冲液。另外，使第一、第二喷嘴移动时，使第一、第二喷嘴相对于被固定的工作台的上表面移动而对工作台喷出防止干燥用液及缓冲液。然而，一边使工作台沿着输送路径移动一边对玻璃基板进行研磨时，为设第一、第二喷嘴形成为固定型并利用现存的工作台输送设备朝向输送中的工作台喷出防止干燥用液及缓冲液的结构，由于不用附加喷嘴移动设备就能够喷出防止干燥用液及缓冲液，因此优选。根据本发明的玻璃基板的研磨方法及研磨装置，优选，所述防止干燥用液和所述缓冲液为同一液体。根据本发明的玻璃基板的研磨方法及研磨装置，优选，所述液体为多元醇。根据本发明，使用同一液体作为防止干燥用液和缓冲液时，优选多元醇。此外，可以例示水作为防止干燥用液。然而，由于多元醇比水的防止干燥作用高，因此优选多元醇。 而且，多元醇也优选作为防止研磨液对玻璃基板的缘部的污染的防止污染液。多元醇的种类并未特别限定，具体而言，例示有甘油、聚乙二醇、乙二醇、丙二醇、 二乙二醇等。而且，防止干燥用液及缓冲液既可以由两种以上的多元醇构成，也可以将多元醇和水混合而形成多元醇水溶液。根据本发明的玻璃基板的研磨方法，优选，在与所述工作台正交的方向上，在所述工作台的上方配置多个将所述第一喷嘴和所述第二喷嘴通用化而成的同一通用喷嘴，从所述通用喷嘴朝向所述工作台喷出所述液体。根据本发明的玻璃基板的研磨装置，优选，在与所述工作台正交的方向上，在所述工作台的上方配置多个将所述第一喷嘴和所述第二喷嘴通用化而成的同一通用喷嘴，从所述通用喷嘴朝向所述工作台喷出所述液体。根据本发明，对吸附固定玻璃基板的非研磨面的整个区域的工作台的区域涂敷从多个通用喷嘴喷出的多元醇等同一液体，并且对吸附固定玻璃基板的非研磨面的整个缘部的工作台的区域涂敷所述液体。如此通过使用同一液体，能够使第一、第二喷嘴通用化，因此能够简化相对于喷嘴的液体供给系统。由此，本发明能够以简单的设备构成液体喷雾部。在本发明中，设置了朝向工作台喷出防止干燥用液及缓冲液的液体喷雾工序，但也可以取代该工序，而设置对玻璃基板的非研磨面的整个区域涂敷防止干燥用液并对所述非研磨面的缘部涂敷缓冲液的工序。
[发明效果]根据本发明的玻璃基板的研磨方法及研磨装置，由于从液体喷雾部朝向工作台喷出防止干燥用液及缓冲液，因此能够防止研磨液对玻璃基板的非研磨面的缘部的污染，且能够将玻璃基板的非研磨面良好地吸附固定在工作台上。
图1是表示实施方式的玻璃基板的研磨装置的整体结构的俯视图。图2是从工作台输送路径的下游侧观察到的液体喷雾部的结构的主视图。图3是图2所示的液体喷雾部的俯视图。图4是表示通过第二喷嘴组喷出缓冲液的区域和未喷出缓冲液的区域的说明图。图5是表示第二喷嘴组的电磁阀的开闭动作的时间图。图6是从工作台输送路径的下游侧观察到的另一实施方式的液体喷雾部的结构的主视图。图7是图6所示的液体喷雾部的俯视图。图8是表示向通用喷嘴供给多元醇的液体配管系统的框图。图9是表示用于对向通用喷嘴供给的多元醇的喷射进行开-闭控制的空气配管系统的框图。图10是表示液体喷雾部中的变更工作台的速度的区域的说明图。图11是表示液体喷雾部中的工作台的速度的时间图。标号说明G玻璃基板10玻璃基板的研磨装置12 工作台14液体喷雾部16玻璃基板固定部18 研磨部20a 20d 第一喷嘴22第一喷嘴组24液体供给系统26 吸附区域28a ^n 第二喷嘴30第二喷嘴组32液体供给系统34A、34B 区域36A、36B 区域40液体喷雾部4 42η 通用喷嘴43a 43η 流量计44通用喷嘴组
46液体供给系统
48多元醇供给部
50A、50B 区域
52电磁阀
54,56,58 通用喷
60、62、64 电磁阀
66吸附区域
70罐
72泵
74流量计
76止回阀
78过滤器
具体实施例方式以下，根据附图，详细说明本发明的实施方式的玻璃基板的研磨方法及研磨装置的优选的方式。图1是表示实施方式的玻璃基板的研磨装置10的整体结构的俯视图。在图1中， 箭头表示对矩形形状的玻璃基板G的非研磨面进行吸附固定的矩形形状的工作台12的工作台输送路径。在工作台输送路径上，从工作台输送路径的上游侧朝向下游侧依次配置有液体喷雾部14、玻璃基板固定部16及研磨部18。而且，在研磨部18的下游侧设有未图示的玻璃基板卸下部和工作台清洗部。在研磨部18中，玻璃基板G以玻璃基板G的非研磨面被工作台12吸附固定的状态一边被沿着工作台输送路径输送一边被沿着工作台输送路径配置的多台研磨工具连续研磨。此时，一边对玻璃基板G的研磨面供给研磨液，一边通过旋转的所述研磨工具对研磨面进行研磨。并且，在研磨部18的出口，玻璃基板G被制造成满足FPD用玻璃基板所要求的平坦度的薄板状。配置于研磨部18的研磨工具的台数并不限于多台。即，根据玻璃基板 G的尺寸，也可以是一台研磨工具。研磨结束后的玻璃基板G被从研磨部18送出并送入到所述玻璃基板卸下部，在此从工作台12卸下玻璃基板。然后，卸下了玻璃基板G的工作台12在通过所述工作台清洗部时被清洗液清洗，然后为了吸附固定下一个玻璃基板G而再次被输送至液体喷雾部14。 如上所述，工作台输送路径构成为环状，以使工作台12依次通过液体喷雾部14、玻璃基板固定部16、研磨部18、玻璃基板卸下部及工作台清洗部。实施方式的工作台12在工作台输送路径上配置多台，而且，在一台工作台12上吸附固定有两张玻璃基板G。配置在工作台输送路径上的工作台12的台数并未被限定，而且吸附固定在工作台12上的玻璃基板G的张数也不限于两张。即，根据玻璃基板G的尺寸， 既可以是一张，也可以是三张以上。图2是从工作台输送路径的下游侧观察到的液体喷雾部14的结构的主视图。艮口， 工作台12从图2的纸面内侧朝向纸面外侧输送。而且，图3是液体喷雾部14的俯视图。在图3中，工作台12上图示的双点划线表示定位于工作台12并被吸附固定的玻璃基板G的缘部。如图2所示，在工作台输送路径的上方配置有对工作台上的吸附区域喷出防止干燥用液的由四个第一喷嘴20a、20b、20c、20d构成的第一喷嘴组22。所述第一喷嘴20a 20d在与工作台输送路径正交的方向上固定于工作台12的上方的未图示的台架上，并经由液体供给系统M与防止干燥用液供给部(未图示)连结。通过从所述第一喷嘴20a 20d 喷出的防止干燥用液，而对图3所示的双点划线所包围的玻璃基板G的非研磨面的整个区域被吸附固定的吸附区域26涂敷防止干燥用液。防止干燥用液的喷雾区域也可以是工作台12的整个面，但从节约防止干燥用液的观点出发，优选吸附区域沈。该第一喷嘴20a 20d经由电磁阀与所述防止干燥用液供给部连结。该电磁阀由未图示的控制部进行间歇开闭控制，使得该电磁阀仅在吸附区域沈通过第一喷嘴20a 20d的下方期间打开。因此，通过第一喷嘴20a 20d仅对吸附区域沈涂敷防止干燥用液。另外，在工作台输送路径的上方配置由14个第二喷嘴^aJ8bJ8CJ8dJ8e、 28f,28g,28h,28i,28j\28k,281,28m,28n构成的第二喷嘴组30，所述第二喷嘴组30对工作台12上的玻璃基板G的非研磨面的缘部被吸附固定的区域喷出缓冲液。所述第二喷嘴 28a 28η在与工作台输送路径正交的方向上固定于工作台12的上方的未图示的台架上， 并经由液体供给系统32与缓冲液供给部(未图示)连结。缓冲液是用于防止研磨液对玻璃基板G的非研磨面的污染的液体。第二喷嘴28a ^n中的配置在两侧的两个第二喷嘴^a、28n分别与图3中的双点划线所示的玻璃基板G的缘部中的相对的短边部所通过的区域34A、34B相对配置。这两个第二喷嘴^a、28n经由电磁阀与所述缓冲液供给部连结。该电磁阀由未图示的控制部进行间歇开闭控制，使得该电磁阀仅在区域34A、34B通过两个第二喷嘴^aJSn的下方期间打开。因此，通过两个第二喷嘴^a、28n仅对区域34A、34B涂敷缓冲液。另一方面，除第二喷嘴28a及喷嘴28η之外的喷嘴^b ^m与图3中的双点划线所示的玻璃基板G的缘部中的相对的长边部所通过的区域36Α、36Β相对配置。而且，所述第二喷嘴28b 28m经由电磁阀与所述缓冲液供给部连结。该电磁阀由未图示的控制部进行间歇开闭控制，使得该电磁阀仅在区域36A、36B通过第二喷嘴^b ^m的下方期间打开。即，第二喷嘴^b ^m中，通过所述控制部控制电磁阀的开闭，以在图4所示的 A E的分割区域中的与图3的区域36A、36B相当的分割区域A、C(E也同样)通过第二喷嘴^b ^m的下方期间如图5所示使电磁阀打开。因此，通过12个第二喷嘴^b 28m 仅对区域36A、36B涂敷缓冲液。如上所述，对图3中的由双点划线包围的玻璃基板G的非研磨面的大致整个区域被吸附固定的吸附区域26涂敷防止干燥用液，并且对图3中双点划线所示的玻璃基板G的非研磨面的缘部的区域34A、34B、36A、36B涂敷缓冲液。而且，由于第一喷嘴组22配置在工作台输送路径的上游侧且第二喷嘴组30配置在工作台输送路径的下游侧，因此在区域 34A、34B、36A、36B中，在防止干燥用液的上层涂敷缓冲液。如此，涂敷有防止干燥用液和缓冲液的工作台12沿着工作台输送路径被输送到图1所示的玻璃基板固定部16。在此，玻璃基板G的非研磨面在工作台12上被定位且吸附固定在图3中的由双点划线所示的玻璃基板G的位置。吸附固定在工作台12上的两张玻璃基板G沿着工作台输送路径被输送到图1的研磨部18，在此如上所述通过多个研磨工具对玻璃基板G的研磨面进行连续研磨。接着，说明如上所述构成的玻璃基板的研磨装置的作用。首先，沿着工作台输送路径将空的工作台12向液体喷雾部14输送。然后，一边沿着工作台输送路径输送该工作台12，一边从第一喷嘴组22朝工作台12喷出防止干燥用液， 并对图3的吸附区域沈涂敷防止干燥用液。然后，从第二喷嘴组30朝向工作台12喷出缓冲液，并对玻璃基板G的非研磨面的缘部的区域34A、34B、36A、36B涂敷缓冲液。接着，将该工作台12向玻璃基板固定部16输送，在此将玻璃基板G的非研磨面的整个区域经由所述防止干燥用液吸附固定在工作台12上，并将玻璃基板G的非研磨面的整个缘部经由所述缓冲液吸附固定在工作台12上。接着，将该工作台12向研磨部18输送，在此一边对玻璃基板G的研磨面供给研磨液，一边通过研磨工具对研磨面进行研磨。在该研磨中，玻璃基板G的非研磨面的缘部受到缓冲液的保护，因此所述缘部不会被研磨液污染。如此，根据上述实施方式的研磨装置10，在工作台输送路径上设置液体喷雾部 14，从第一喷嘴组22朝向沿着工作台输送路径输送中的工作台12喷出防止干燥用液，并从第二喷嘴组30喷出缓冲液。因此，根据该玻璃基板的研磨装置10，在一边输送工作台12 —边研磨非研磨面吸附固定在工作台12上的玻璃基板G的玻璃基板的研磨装置10中，能够防止研磨液对玻璃基板G的非研磨面的缘部的污染，并能够将玻璃基板G的非研磨面良好地吸附固定在工作台12上。可以例示多元醇、多元醇水溶液、水作为防止干燥用液，且可以例示多元醇、多元醇水溶液作为缓冲液。图6 图11是用于说明液体喷雾部的另一实施方式的图。图6是从工作台输送路径的下游侧观察到的另一实施方式的液体喷雾部40的结构的主视图。而且，图7是液体喷雾部40的俯视图。图7的工作台12上图示的双点划线表示定位并吸附固定在工作台12 上的玻璃基板G的缘部。在图6、图7所示的液体喷雾部40中，喷出相同液体即多元醇作为防止干燥用液及缓冲液。而且，液体喷雾部40具备将第一喷嘴和第二喷嘴通用化而成的、由相同结构的 14 个通用喷嘴 42a、42b、42c、42d、42e、42f、42g、42h、42i、42j、42k、421、42m、42n 构成的通用喷嘴组44。所述通用喷嘴4 42η在与工作台输送路径正交的方向上固定在工作台 12上方的未图示的台架上，并经由液体供给系统46与图8、图9所示的多元醇供给部48连结。在图8中示出了向通用喷嘴42a 42η供给多元醇的液体配管系统，图9中示出用于对向通用喷嘴4 42η供给的多元醇的喷射进行开-闭控制的空气配管系统。即，通过电磁阀52、60、62、64开-闭控制来自泵72的压缩空气，使用如此控制的压缩空气来使通用喷嘴42a 42η的各活塞动作，从而对多元醇的喷射进行开-闭控制。通用喷嘴4 42η中的配置在两侧的两个通用喷嘴42a、42n与图7中双点划线表示的玻璃基板G的缘部中的相对的短边部所通过的区域50A、50B相对配置。如图8所示， 这两个通用喷嘴42a、42η经由流量计43a、43η、液体供给系统46、过滤器78而与多元醇供给部48连结。而且，图9所示的电磁阀52由未图示的控制部进行间歇开闭控制，使得该电磁阀仅在区域50A、50B通过两个通用喷嘴42a、42n的下方期间打开。因此，通过两个通用第二喷嘴42a、42η仅对区域50Α、50Β涂敷多元醇。另一方面，除通用喷嘴4 及喷嘴42η之外的通用喷嘴42b 4 !与图7中的双点划线所示的玻璃基板G的缘部中的相对的长边部所通过的区域52A、52B相对配置。而且，如图9所示，所述通用喷嘴42b 42m的系统被分割成通用喷嘴42b 42e、通用喷嘴42f 42i、以及通用喷嘴42j 4 !这三个而构成通用喷嘴小组M、56、58。所述通用喷嘴小组 M、56、58经由电磁阀60、62、64与泵72连结，而且，如图8所示，经由流量计43b 43m、液体供给系统46、过滤器78而与多元醇供给部48连结。电磁阀60、62、64由未图示的控制部进行间歇开闭控制，使得该电磁阀60、62、64仅在包含区域52A、52B在内的图7中双点划线所包围的玻璃基板G的吸附区域66通过12个通用喷嘴42b 42m的下方期间打开。如图8所示，多元醇供给部48构成包括积存多元醇的罐70、向罐70供给压缩空气的未图示的泵、计测向罐70供给的压缩空气量的流量计74、及防止从罐70向液体供给系统 46输送的多元醇的回流的止回阀76。根据该多元醇供给部48，通过从所述泵向罐70供给压缩空气，而将罐70内的多元醇从止回阀76经由过滤器78向液体供给系统46输送。罐70、流量计74及止回阀76如图 8所示能够并列设置两台。然而，为了发挥防止研磨液对玻璃基板的非研磨面的缘部的污染这一缓冲液的功能，而优选将作为缓冲液向工作台12涂敷的多元醇的量(每单位面积的涂敷量)设定成多于作为防止干燥用液而涂敷的多元醇的量(每单位面积的涂敷量)。换言之，使工作台12的输送速度一定而使来自全部的通用喷嘴4 42η的多元醇喷雾量相同时，无法进行上述设定。而且，将来自全部的通用喷嘴4 42η的多元醇喷雾量设定成向与缘部对应的区域50Α、50Β、52Α、52Β喷雾的作为缓冲液的涂敷量时，向区域 66涂敷多余的多元醇，而浪费了多元醇。因此，在实施方式的液体喷雾部40中，将来自除两侧的通用喷嘴42a、42n之外的 12个喷嘴42b 42m的喷雾量设定成作为向区域52A、52B喷雾的缓冲液的涂敷量。而且， 将来自两侧的通用喷嘴42a、42n的喷雾量设定成比来自其他通用喷嘴42b 4 !的喷雾量多出若干量，然后，工作台12的输送速度如下所述控制。在此，所谓多出若干量是指来自通用喷嘴42a、42n的喷雾量为来自其他通用喷嘴42b 42m的喷雾量的100倍以上。S卩，在图10所示的A E的分割区域中，将与图7的区域52A、52B相当的分割区域A、C(B也同样)设定成如图11所示的通常的工作台输送速度Si，将与图7的区域66相当的分割区域B(D也同样)设定成如图11所示的比Sl高的速度S2。作为向与缘部对应的区域5 OA、5 0B、5 2A、5 2B喷射的缓冲液的涂敷量，优选为 0. OOlml/cm2，优选为作为向区域66喷射的缓冲液的涂敷量的100倍以上。由此，涂敷在图7的区域52A、52B上的多元醇的量成为作为缓冲液优选的量，向区域66喷射的多元醇量成为比作为缓冲液的优选量少的作为防止干燥用液的优选量。而且， 工作台输送速度S2为高速，但由于来自两侧的通用喷嘴42a、42n的喷雾量设定成比来自其他通用喷嘴42b 42m的喷雾量多出若干量，因此向区域50A、50B喷出的多元醇的量成为作为缓冲液的优选量。在此，所谓多出若干量是指来自通用喷嘴42a、42n的喷雾量为来自其他通用喷嘴42b 42m的喷雾量的100倍以上。通过使用同一液体的多元醇作为如此喷射的液体，从而能够将图2、图3所示的第一喷嘴组22和第二喷嘴组30通用化，因此能够简化对通用喷嘴4 42η的液体供给系统。由此，该实施方式的液体喷雾部40与图2、图3所示的液体喷雾部14相比成为简单的设备。在液体喷雾部40中，使工作台12的输送速度可变而控制多元醇的涂敷量，但并不限于此。例如，使工作台12的输送速度一定，将来自两侧的通用喷嘴42a、42n的喷雾量设定成作为缓冲液的最佳量，并控制其它12个通用喷嘴42b 4 !的喷雾量。即，当区域52A、 52B通过通用喷嘴42b 4 !的下方时，将喷雾量设定成作为缓冲液的最佳量，当区域66通过通用喷嘴42b 42m的下方时，将喷雾量设定成作为防止干燥用液的最佳量即可。此种流量控制可以通过使用流量可变阀并具备根据工作台12的移动位置而控制流量可变阀的开度的控制部来实现。另外，在实施方式中，说明了工作台为移动型而第一、第二喷嘴为固定型的结构， 但并不限于此。即，也可以使工作台为固定型而使第一、第二喷嘴为移动型，在固定的工作台的上方一边使第一、第二喷嘴移动，一边向工作台喷出防止干燥用液、缓冲液，而在工作台上形成所希望的喷雾图案。另一方面，也可以使工作台及第一、第二喷嘴为固定型。这种情况下，为了在工作台上将所希望的喷雾图案形成于工作台，而在工作台的上方配置金属掩摸等掩模部件来对工作台整体喷出通用的液体(多元醇)。由此，能够将喷雾图案形成于工作台。通过与喷雾图案一致地在工作台的上方调整第一喷嘴、第二喷嘴的配置位置，也能够在工作台上形成所希望的喷雾图案。详细或参照特定的实施方式说明了本发明，但对于本领域技术人员来说，不脱离本发明的范围和精神而能够施加各种修改或变更的情况是不言自明。本申请是基于2010年6月1日提出申请的日本专利申请2010-U6083的申请而做出的，并且在此作为参照而引用其内容。
权利要求
1.一种玻璃基板的研磨方法，包括液体喷雾工序，朝向吸附固定玻璃基板的非研磨面的工作台对所述工作台的吸附固定玻璃基板的非研磨面的整个区域的区域从第一喷嘴喷出防止干燥用液，接着相对于所述工作台对所述工作台的吸附固定玻璃基板的非研磨面的缘部的区域从第二喷嘴喷出缓冲液；玻璃基板固定工序，经由所述防止干燥用液将玻璃基板的非研磨面的整个区域吸附固定于所述工作台，并且经由所述缓冲液将所述玻璃基板的非研磨面的缘部吸附固定于所述工作台；及研磨工序，一边向非研磨面被吸附固定于所述工作台上的所述玻璃基板的研磨面供给研磨液一边利用研磨工具研磨该研磨面。
2.根据权利要求1所述的玻璃基板的研磨方法，其中，所述液体喷雾工序中，一边使所述工作台及所述第一、第二喷嘴中的至少一方相对移动，一边从所述第一喷嘴喷出所述防止干燥用液并从所述第二喷嘴喷出所述缓冲液。
3.根据权利要求2所述的玻璃基板的研磨方法，其中，所述防止干燥用液和所述缓冲液为同一液体。
4.根据权利要求3所述的玻璃基板的研磨方法，其中，所述液体为多元醇。
5.根据权利要求3或4所述的玻璃基板的研磨方法，其中，在与所述工作台的相对移动方向正交的方向上，在所述工作台的上方配置多个将所述第一喷嘴和所述第二喷嘴通用化而成的同一通用喷嘴，从所述通用喷嘴朝向所述工作台喷出所述液体。
6.一种玻璃基板的研磨装置，包括工作台，吸附固定玻璃基板的非研磨面；液体喷雾部，具有第一喷嘴和第二喷嘴，所述第一喷嘴朝向所述工作台对所述工作台的吸附固定玻璃基板的非研磨面的整个区域的区域喷出防止干燥用液，所述第二喷嘴相对于所述工作台对所述工作台的吸附固定玻璃基板的非研磨面的缘部的区域喷出缓冲液；玻璃基板固定部，经由所述防止干燥用液将玻璃基板的非研磨面的整个区域吸附固定于所述工作台，并且经由所述缓冲液将所述玻璃基板的非研磨面的缘部吸附固定于所述工作台 ’及研磨部，一边向非研磨面吸附固定于所述工作台上的所述玻璃基板的研磨面供给研磨液一边利用研磨工具研磨该研磨面。
7.根据权利要求6所述的玻璃基板的研磨装置，其中，所述液体喷雾部一边使所述工作台及所述第一、第二喷嘴中的至少一方相对移动，一边从所述第一喷嘴喷出所述防止干燥用液并从所述第二喷嘴喷出所述缓冲液。
8.根据权利要求7所述的玻璃基板的研磨装置，其中，所述防止干燥用液和所述缓冲液为同一液体。
9.根据权利要求8所述的玻璃基板的研磨装置，其中，所述液体为多元醇。
10.根据权利要求8或9所述的玻璃基板的研磨装置，其中，在与所述工作台的相对移动方向正交的方向上，在所述工作台的上方配置多个将所述第一喷嘴和所述第二喷嘴通用化而成的同一通用喷嘴，从所述通用喷嘴朝向所述工作台喷出所述液体。
全文摘要
本发明涉及一种玻璃基板的研磨方法及研磨装置，所述玻璃基板的研磨方法包括液体喷雾工序，朝向吸附固定玻璃基板的非研磨面的工作台对所述工作台的吸附固定玻璃基板的非研磨面的整个区域的区域从第一喷嘴喷出防止干燥用液，接着相对于所述工作台对所述工作台的吸附固定玻璃基板的非研磨面的缘部的区域从第二喷嘴喷出缓冲液；玻璃基板固定工序，经由所述防止干燥用液将玻璃基板的非研磨面的整个区域吸附固定于所述工作台，并且经由所述缓冲液将所述玻璃基板的非研磨面的缘部吸附固定于所述工作台；及研磨工序，一边向非研磨面被吸附固定于所述工作台上的所述玻璃基板的研磨面供给研磨液一边利用研磨工具研磨该研磨面。
文档编号B24B37/04GK102267087SQ20111015212
公开日2011年12月7日 申请日期2011年6月1日 优先权日2010年6月1日
发明者城山厚, 小暮祐二, 河内辰朗, 石丸直彦 申请人:旭硝子株式会社