镀膜机坩埚公转定位结构的制作方法

本实用新型设计镀膜机技术领域，具体涉及一种镀膜机公转结构。

背景技术：

真空镀膜机主要由以下几部分组成：真空腔体，抽气系统，充气布气系统，加热系统，薄膜沉积控制系统，高压控制系统，低压控制系统，蒸发源系统，工件旋转系统。其功能描述如下：

真空腔体：镀膜加工的一个空间

抽气系统：使镀膜达到所需的真空度

充气布气系统：使气动元件获得足够的气压完成动作

加热系统：使基片达到镀膜所需的温度

薄膜沉积控制系统：使基片上镀的膜厚达到所需的要求

高压控制系统:使蒸发源获得足够的电压

低压控制系统：控制镀膜机的元件完成规定的动作

蒸发源系统：让膜料蒸发

工件旋转系统：装载基片并使其转动

而坩埚结构就是蒸发源系统的主要部件，其工作的稳定性直接影响产品的成膜质量。

目前行业内的镀膜机坩埚旋转控制主要采用的是霍尔开关感应定位，这种方式长时间工作以后会有坩埚旋转不稳，位置偏移的问题，一旦出现了这些问题，会使电子枪轰击坩埚内膜料的面积产线变化，从而影响蒸发速率，导致膜层沉积不一致。

技术实现要素：

本实用新型要解决的技术问题是解决上述现有技术的不足，提供一种能够精准定位的镀膜机坩埚的公转结构。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：一种镀膜机坩埚公转定位结构，包括坩埚驱动坩埚转动的电机，坩埚上均匀设置多个料槽，还包括PLC控制器以及与PLC控制器连接的编码器，所述编码器设置在电机尾部由电机转轴带动转动，每个料槽上均设置有标签对料槽进行编号，PLC控制器根据编码器的计数控制电机转数从而对坩埚以及料槽位置进行定位。

进一步的，所述编码器为轴型编码器，编码器的外壳与电机外壳通过连接法兰固定，编码器的转轴与电机转轴通过联轴器连接。

进一步的，所述联轴器上设置有供电机轴散热的散热中空部，在联轴器与连接法兰之间还设置防尘罩。

从上述技术方案可以看出本实用新型具有以下优点：PLC控制器根据编码器的反馈数据设置电机转数可以对坩埚和料槽位置进行精准定位，防止坩埚位置偏移，与驱动电机连接方便，占用体积小。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型中坩埚结构示意图。

具体实施方式

本实用新型的镀膜机料槽公转定位结构如图1、2所示，包括坩埚1、PLC控制器、编码器6以及驱动电机3，坩埚上均匀分布多个料槽。料槽2随坩埚1进行公转，料槽总共为8个，分别设置标签，计做为1号、2号、、、、8号，坩埚1由驱动电机3带动转动，驱动电机3垂直设置在坩埚1下方，可以通过法兰等固定在镀膜机的壳体上，PLC控制器连接编码器6，编码器设置在驱动电机尾部由驱动电机3转轴带动转动，PLC控制器根据编码器6的计数控制驱动电机转数从而对坩埚上料槽3位置进行定位。

使用时，首先确定1号料槽的初始位置，根据编码器的计数，PLC控制器可以确定其他料槽的位置。且根据PLC控制器根据编码器的反馈数据设置电机转数可以对坩埚和料槽位置进行精准定位，防止坩埚位置偏移。

编码器6可以采用轴型编码器，编码器6的外壳与驱动电机3外壳通过连接法兰5固定，编码器6的转轴与电机转轴通过联轴器5连接，联轴器5上设置有供电机轴散热的散热中空部，联轴器与连接法兰之间还设置防尘罩。采用上述结构的编码器，不仅与驱动电机连接方便，且与坩埚公转结构相配合，连接法兰可以将两者之间固定。