1.一种用于通过化学气相沉积或原子层沉积工艺沉积钨膜或含钨膜的组合物，所述组合物包含：
至少90重量％或更多的β-WCl6。
2.权利要求1所述的组合物，其中所述组合物包含至少95重量％或更多的β-WCl6和5重量％或更少的α-WCl6。
3.权利要求1或2所述的组合物，其中所述组合物进一步包含1重量％或更少的WOCl4。
4.权利要求1-3任一项所述的组合物，其中所述组合物包含至少99重量％或更多的β-WCl6和1重量％或更少的α-WCl6。
5.权利要求1-4任一项所述的组合物，其中所述组合物包含至少99.9重量％或更多的β-WCl6。
6.一种用于沉积钨膜或含钨膜的输送系统，其包括：
根据权利要求1-5任一项的组合物；
容器；和
其中所述组合物在所述容器内。
7.一种制造用于沉积钨膜或含钨膜的输送系统的方法，其包括：
提供容器；
提供包含至少90重量％的WCl6的组合物，其中所述组合物在所述容器内；和
加热所述容器直到至少90.0重量％的WCl6是β-WCl6。
8.权利要求7所述的方法，其中所述加热进行直至95.0重量％的WCl6是β-WCl6。
9.权利要求7所述的方法，其中所述加热进行直至99.0重量％的WCl6是β-WCl6。
10.权利要求7所述的方法，其中所述加热进行直至99.9重量％的WCl6是β-WCl6。
11.一种用于纯化包含WCl6和至少一种杂质的粗材料的系统，其包括：
(a)至少一个锅炉；
(b)冷凝器；
(c)与所述锅炉及所述冷凝器流体连通的连接器；
(d)与所述锅炉流体连通的载气；和
(e)与所述连接器及所述冷凝器流体连通的流化气；
其中
所述至少一种杂质包含痕量金属、四氯氧化钨(WOCl4)和五氯化钨(WCl5)中的至少一种；
所述至少一个锅炉维持在高于WCl6的沸点的温度下，以使充填的粗材料转化成与所述载气混合的气相，以获得锅炉蒸气流；
所述连接器被所述锅炉蒸气流充填；
所述冷凝器含有与所述锅炉蒸气流混合的所述流化气，以在所述冷凝器的底部获得含有包含WCl6的纯化材料的冷凝器蒸气，而同时所述流化气将所述至少一种杂质携带到所述冷凝器的顶部；
所述载气和所述流化气不与WCl6反应；和
所述流化气比所述锅炉蒸气流温度低。
12.权利要求11所述的系统，其中所述至少一个锅炉维持在>300℃下；并且所述冷凝器蒸气维持在约100至约180℃范围内的一个或多个温度下。
13.权利要求11或12所述的系统，其中所述流化气与所述锅炉蒸气流的摩尔比率为<200:1；并且所述锅炉蒸气流中所述载气与所述粗材料的摩尔比率为<10:1。
14.权利要求11-13任一项所述的系统，其中所述冷凝器进一步包括与真空泵流体连通的汲取管以从所述冷凝器的底部抽吸所述包含WCl6的纯化材料。
15.权利要求11-14任一项所述的系统，其中所述包含WCl6的纯化材料包含至少90重量％或更多的β-WCl6。
16.权利要求11-15任一项所述的系统，其中所述包含WCl6的纯化材料包含至少99重量％或更多的β-WCl6。
17.权利要求11-16任一项所述的系统，其中所述系统进一步包括用于容纳所述包含WCl6的纯化材料的与所述汲取管流体连通的容器，其中所述包含WCl6的纯化材料包含至少90重量％或99重量％或更多的β-WCl6。