技术总结
可冷凝金属卤化物材料(例如但不限于钨氯化物(WCl6))可用于在化学气相沉积(CVD)或原子层沉积工艺中沉积金属膜或含金属膜。本文描述了包含可冷凝材料的高纯度组合物和纯化可冷凝材料的方法。在一个方面，提供了一种组合物，其包含：基本上没有至少一种杂质的六氯化钨，其中如通过X射线衍射测量的，该六氯化钨包含至少90重量％、优选95重量％和更优选99重量％或更多的β‑WCl6及5重量％或更少的α‑WCl6。
技术研发人员：伍笑晞;S·V·伊万诺夫
受保护的技术使用者：气体产品与化学公司
文档号码：201610244852
技术研发日：2016.04.18
技术公布日：2016.11.23